[發明專利]一種耐高溫多弧離子真空鍍膜裝置及其鍍膜方法

在審

• 申請號: 202011044101.0
• 申請日: 2020-09-28
• 公開（公告）號: CN112176293A
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發明（設計）人: 楊雪;陳佃華
• 申請（專利權）人: 楊雪
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32;C23C14/54;C23C14/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種耐高溫多弧離子真空鍍膜裝置，包括基座(1)，其特征在于：所述基座(1)的上表面焊接有主殼體(2)，所述主殼體(2)的前表面底部的兩側分別固定連接有第一電機(201)和第二電機(202)，所述第一電機(201)和第二電機(202)的輸出軸分別焊接有第一接軸(203)和第二接軸(204)，所述第一接軸(203)和第二接軸(204)分別焊接有第一連接桿(301)和第二連接桿(501)，所述第一連接桿(301)的外表面焊接有右旋轉殼體(3)，所述第二連接桿(501)的外表面焊接有左旋轉殼體(5)，所述主殼體(2)的內側壁焊接有第三電機(405)，所述第三電機(405)的輸出軸固定連接有轉軸(4)，所述主殼體(2)、右旋轉殼體(3)和左旋轉殼體(5)的內側壁均涂附有耐高溫水性隔熱保溫涂料(12)，所述主殼體(2)的內側壁中部固定連接有真空電弧放電器(13)，所述主殼體(2)的后表面焊接有后端蓋(9)，所述后端蓋(9)的外表面開設有出風口(901)，所述后端蓋(9)的內側壁固定連接有蒸發器(8)。

2.根據權利要求1所述的一種耐高溫多弧離子真空鍍膜裝置，其特征在于：所述基座(1)的上表面固定連接有PLC控制器(11)。

3.根據權利要求1所述的一種耐高溫多弧離子真空鍍膜裝置，其特征在于：所述第三電機(405)的輸出軸焊接有兩個刀具連桿(407)，所述刀具連桿(407)的下表面焊接有傳動軸(403)，所述傳動軸(403)的下表面焊接有刀具基座(401)。

4.根據權利要求1所述的一種耐高溫多弧離子真空鍍膜裝置，其特征在于：所述轉軸(4)的下表面鉸接有第一托盤(404)，所述轉軸(4)的下表面遠離第一托盤(404)的一側鉸接有第二托盤(406)，所述第二托盤(406)的上表面與下表面插接有刀具基座(401)，所述刀具基座(401)的外表面焊接有刀具(402)。

5.根據權利要求1所述的一種耐高溫多弧離子真空鍍膜裝置，其特征在于：所述主殼體(2)的內側壁焊接有密封板(7)，所述密封板(7)的前表面固定連接有六個負壓風機(6)。

6.根據權利要求1所述的一種耐高溫多弧離子真空鍍膜裝置，其特征在于：所述蒸發器(8)的靠近出風口(901)的一側固定連接有排氣扇(802)，所述蒸發器(8)的進水口與排水口連通有兩個冷凝管(801)，所述后端蓋(9)的內側壁固定連接有積水盤(10)，所述積水盤(10)的外表面開設有出水口(1001)。

7.一種耐高溫多弧離子真空鍍膜方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、通過PLC控制器(11)啟動負壓風機(6)與排氣扇(802)互相反轉，并計時，計時結束后，開始鍍膜作業，PLC控制器11控制第三電機(405)啟動，第三電機405帶動刀具連桿407以及與其配合的傳動軸(403)與刀具基座(401)運動，并由刀具(402)貼合第二托盤(406)的上表面進行旋轉刮剔，去除鍍膜材料結痂層；

S2、負壓風機(6)由PLC控制器(11)控制為相對于排氣扇(802)旋向相斥，加工所產生的高溫被蒸發器(8)所吸收，配合隔熱涂層將設備形成耐高溫的特性；將熱性氣體送至同時啟動的蒸發器(8)內部所開始餾分工藝，蒸發器(8)將熱氣分解成對人體健康無害的不凝氣與水后，不凝氣由排氣扇(802)排送至出風口(901)排出，水由重力原因低落會被積水盤(10)所接受，并由外界接通水管至出水口(1001)，將水排出；

S3、在設備不斷電的情況下打開其內部并將鍍膜件取出：通過PLC控制器(11)進行控制，啟動第一電機(201)、第二電機(202)將右旋轉殼體(3)和左旋轉殼體(5)旋轉打開，在第一電機(201)、第二電機(202)啟動的同時，PLC控制器(11)將內部所有電器元件斷開。

8.根據權利要求7所述的一種耐高溫多弧離子真空鍍膜方法，其特征在于：當所述設備內部發生故障或鍍膜失誤，通過PLC控制器(11)進行控制急停，實現設備的整體斷電保護。