[發(fā)明專利]陣列基板的制造方法、陣列基板及顯示面板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011042971.4 | 申請日: | 2020-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN112086471B | 公開(公告)日: | 2022-11-29 |
| 發(fā)明(設計)人: | 榮孟欣;曾柯;葉寧 | 申請(專利權)人: | 成都中電熊貓顯示科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12;G02F1/1339;G02F1/1362;G03F1/32 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 黃溪;臧建明 |
| 地址: | 610200 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 制造 方法 顯示 面板 | ||
本發(fā)明提供了一種陣列基板的制造方法、陣列基板及顯示面板。本發(fā)明提供的陣列基板的制造方法包括在襯底基板上沉積柵金屬層,并通過光刻工藝形成柵極和掃描線;在柵金屬層上方沉積緩沖層,并在緩沖層上形成半導體圖形;在半導體圖形上方形成源極、漏極和數(shù)據(jù)線;在緩沖層上方沉積保護層,并通過半掩膜曝光工藝進行光刻,以使保護層的不同區(qū)域具有不同的厚度,從而解決了隔墊物被壓迫產生橫向位移后無法復位的問題。
技術領域
本發(fā)明涉及顯示設備技術領域,尤其涉及一種陣列基板的制造方法、陣列基板及顯示面板。
背景技術
平面顯示器件具有機身薄、省電、無輻射等眾多優(yōu)點,得到了廣泛的應用。現(xiàn)有的平面顯示器件主要包括液晶顯示器件(Liquid Crystal Display,LCD)及有機發(fā)光二極管顯示器件(Organic Light Emitting Display,OLED),而平面顯示器通常由上層基板和下層基板對合形成,下層基板為薄膜晶體管(Thin Film Transistor,TFT)陣列基板,在上層基板與下層基板之間支撐有隔墊物,隔墊物通常設置在與金屬配線相對應的非顯示區(qū)域,由于TFT基板在金屬配線的位置會有凸起結構,導致隔墊物在受到按壓移動后從凸起結構上滑落而無法復位,產生漏光現(xiàn)象。
現(xiàn)有技術中,為了解決這一問題,采用增加金屬線的設計方式,具體的,在現(xiàn)有的金屬配線的兩側增加金屬線,使得在隔墊物對應的凸起結構的兩側同樣形成相應的兩個凸起結構,同時多個凸起結構的高度一致,如此設置,當隔墊物收到壓迫移動時便不會由于高度落差而難以復位。
然而,上述方法增加的金屬線會遮擋部分原有的顯示區(qū)域,降低了產品的透過率,影響產品的顯示質量。
發(fā)明內容
本發(fā)明提供了一種陣列基板的制造方法、陣列基板及顯示面板,可以將金屬配線對應的位置平坦化,在解決漏光現(xiàn)象的同時保證了產品透過率。
第一方面,本發(fā)明提供了一種陣列基板的制造方法,在襯底基板上沉積柵金屬層,并通過光刻工藝形成柵極和掃描線;在柵金屬層上方沉積緩沖層,并在緩沖層上形成半導體圖形;在半導體圖形上方設置源極、漏極和數(shù)據(jù)線,以形成薄膜晶體管;在緩沖層上方沉積保護層,并通過半掩膜曝光工藝進行光刻,以使保護層在第一區(qū)域的厚度小于保護層的對應于薄膜晶體管的區(qū)域的厚度,第一區(qū)域與陣列基板的像素區(qū)域相對應。如此設置,可以使得像素區(qū)域對應的保護層可以具有較薄的膜厚,從而解決了產品在大視角的情況下面板發(fā)紅的問題。
第二方面,本發(fā)明提供了一種陣列基板,包括層疊設置的襯底基板、薄膜晶體管和保護層,薄膜晶體管包括依次層疊設置的柵極、緩沖層、半導體層、源漏極金屬層,保護層在第一區(qū)域的厚度小于保護層的對應薄膜晶體管的部分的厚度,第一區(qū)域與陣列基板的像素區(qū)域相對應。
第一區(qū)域和像素區(qū)域的位置相對,保護層在第一區(qū)域的厚度小于保護層在對應薄膜晶體管的部分的厚度,這樣,薄膜晶體管位置對應的保護層較厚,保持了薄膜晶體管的驅動特性,也保證了對離子及水汽的防護性能,同時對應像素區(qū)域的位置的保護層厚度較薄,減弱了紅光波段的光線透射,改善了產品大視角下面板發(fā)紅的問題。
作為一種可選的方式,本發(fā)明提供一種陣列基板,保護層上還具有第二區(qū)域;第二區(qū)域與隔墊物的位置相對應,且第二區(qū)域的邊緣延伸至隔墊物的周側,且保護層在第二區(qū)域的表面為平坦面,其中,隔墊物位于陣列基板的非顯示區(qū)域。這樣,在隔墊物受到壓迫產生橫向位移后,當壓迫力取消,隔墊物可以沿著平坦面移動,從而可以正常復位。
作為一種可選的方式,本發(fā)明提供一種陣列基板,保護層在第一區(qū)域的厚度小于保護層其余部分的厚度。這樣在減薄第一區(qū)域的厚度的同時,減小了對其他區(qū)域的影響。
作為一種可選的方式,本發(fā)明提供一種陣列基板,第二區(qū)域的邊緣與隔墊物的距離大于或等于8μm,從而使得非顯示區(qū)域可以趨于平坦,這樣,在隔墊物的最大移動范圍內,均可以保證其較為容易的實現(xiàn)復位。
第三方面,本發(fā)明提供一種顯示面板,包括上述的陣列基板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





