[發明專利]復合電極、復合電極的制造方法、以及叉指換能器

有效

• 申請號: 202011039779.X
• 申請日: 2020-09-28
• 公開（公告）號: CN112216785B
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發明（設計）人: 翁志坤;冉忠堂;沈旭銘
• 申請（專利權）人: 廣東廣納芯科技有限公司
• 主分類號: H01L41/047
• 分類號: H01L41/047;H01L41/29;H03H9/145;H03H9/64
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 胡秋瑾

1.一種復合電極，其特征在于，具有：

鍍覆于壓片基底上的由金屬材料構成的第一層；

鍍覆于所述第一層上的由鎢鈷合金材料構成的第二層；以及

鍍覆于所述第二層上的由金屬材料構成的第三層，

所述第一層由鉻材料構成，

所述第三層由鋁、銅或鋁銅合金材料構成，

所述壓片基底是由鈮酸鋰/鉭酸鋰構成的壓電晶圓，

所述第一層與所述第二層在界面處通過擴散形成合金化層。

2.如權利要求1所述的復合電極，其特征在于，

對于所述第一層，其蒸鍍速率為且沉積厚度為10－100nm。

3.如權利要求1所述的復合電極，其特征在于，

對于所述第二層，其蒸鍍速率為且沉積厚度為10－100nm。

4.如權利要求1所述的復合電極，其特征在于，

對于所述第三層，其蒸鍍速率為且沉積厚度為500－1000nm。

5.如權利要求1至4中任一項所述的復合電極，其特征在于，

在本底真空度為2×10^-5～5×10^-5Pa的條件下，通過表面蒸鍍來形成所述第一層、所述第二層、以及所述第三層。

6.一種叉指換能器，其特征在于，

在壓片基底上固定多個權利要求1－5中任一項所述的復合電極，且相鄰的所述復合電極之間的距離為固定值。

7.一種復合電極的制造方法，其特征在于，包括：

在壓片基底上鍍覆由金屬材料構成的第一層的第一層形成步驟；

在所述第一層上鍍覆由鎢鈷合金材料構成的第二層的第二層形成步驟；以及

在所述第二層上鍍覆由金屬材料構成的第三層的第三層形成步驟，

所述第一層由鉻材料構成，

所述第三層由鋁、銅或鋁銅合金材料構成，

所述壓片基底是由鈮酸鋰/鉭酸鋰構成的壓電晶圓，

所述第一層與所述第二層在界面處通過擴散形成合金化層。

8.如權利要求7所述的復合電極的制造方法，其特征在于，

對于所述第一層，其蒸鍍速率為且沉積厚度為10－100nm。

9.如權利要求7所述的復合電極的制造方法，其特征在于，

對于所述第二層，其蒸鍍速率為且沉積厚度為10－100nm。

10.如權利要求7所述的復合電極的制造方法，其特征在于，

對于所述第三層，其蒸鍍速率為且沉積厚度為500－1000nm。

11.如權利要求7至10中任一項所述的復合電極的制造方法，其特征在于，

在本底真空度為2×10^-5～5×10^-5Pa的條件下，通過表面蒸鍍來形成所述第一層、所述第二層、以及所述第三層。