[發(fā)明專利]一種浮法玻璃窯爐使用的燒結(jié)高鋯平板磚及其制備工藝

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011013827.8
• 申請(qǐng)日: 2020-09-24
• 公開（公告）號(hào): CN112079644A
• 公開（公告）日: 2020-12-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 梁新星;梁奇星;劉小鋼;張寧;巴亞麗;劉耀麗
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鄭州方銘高溫陶瓷新材料有限公司
• 主分類號(hào): C04B35/66
• 分類號(hào): C04B35/66;C04B35/622;C04B35/482;C04B35/49
• 代理公司: 滁州創(chuàng)科維知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 34167
• 代理人: 王豫川

1.一種浮法玻璃窯爐使用的燒結(jié)高鋯平板磚，其特征在于，所述燒結(jié)高鋯平板磚按重量份包括以下組分：二氧化鋯+二氧化鉿50％～95％、二氧化硅4％～45％、氧化鋁0.5％～3％、二氧化鈦0.1％～2％、氧化鈣0.1％～1％。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種浮法玻璃窯爐使用的燒結(jié)高鋯平板磚，其特征在于，所述燒結(jié)高鋯平板磚按重量份包括以下組分：二氧化鋯+二氧化鉿50％、二氧化硅4％、氧化鋁0.5％、二氧化鈦0.1％、氧化鈣0.1％。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種浮法玻璃窯爐使用的燒結(jié)高鋯平板磚，其特征在于，所述燒結(jié)高鋯平板磚按重量份包括以下組分：二氧化鋯+二氧化鉿95％、二氧化硅45％、氧化鋁3％、二氧化鈦2％、氧化鈣1％。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種浮法玻璃窯爐使用的燒結(jié)高鋯平板磚，其特征在于，所述燒結(jié)高鋯平板磚按重量份包括以下組分：二氧化鋯+二氧化鉿75％、二氧化硅25％、氧化鋁1.5％、二氧化鈦1％、氧化鈣0.5％。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種浮法玻璃窯爐使用的燒結(jié)高鋯平板磚，其特征在于，所述燒結(jié)高鋯平板磚的體積密度為3.8～5.5g/m³。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種浮法玻璃窯爐使用的燒結(jié)高鋯平板磚，其特征在于，所述燒結(jié)高鋯平板磚的氣孔率為0.1～18％。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種浮法玻璃窯爐使用的燒結(jié)高鋯平板磚，其特征在于，所述燒結(jié)高鋯平板磚中各原料組分均采用粒度為0.5～3mm的細(xì)粉。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任意一項(xiàng)所述的一種浮法玻璃窯爐使用的燒結(jié)高鋯平板磚的制備工藝，其特征在于，所述燒結(jié)高鋯平板磚的具體制備工藝包括以下步驟：

(1)原料稱取：按重量份配比要求稱取所需原料二氧化鋯+二氧化鉿、二氧化硅、氧化鋁、二氧化鈦和氧化鈣，備用；

(2)原料混合：將上述稱量后的各原料依次放入攪拌罐內(nèi)，再加入粘結(jié)劑和水進(jìn)行攪拌，攪拌時(shí)間為15～30分鐘，混合均勻，得到混合料；

(3)壓制成型：將上述混合料放入模具中，使用2000噸靜壓機(jī)壓制成型，得到磚坯；

(4)燒結(jié)：將上述磚坯在100～120℃下烘干12～24h后在電加熱爐進(jìn)行加熱至1650～1800℃燒制；

(5)研磨拋光：將燒結(jié)后的平板轉(zhuǎn)進(jìn)行研磨拋光，得到成品。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種浮法玻璃窯爐使用的燒結(jié)高鋯平板磚的制備工藝，其特征在于，所述步驟(3)中的成型壓力為26～32MPa。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種浮法玻璃窯爐使用的燒結(jié)高鋯平板磚的制備工藝，其特征在于，所述步驟(4)中的燒結(jié)溫度為1650～1800℃，燒結(jié)時(shí)間為6～24h。