[發明專利]投影畫面校正方法在審
| 申請號: | 202011000538.4 | 申請日: | 2020-09-22 |
| 公開(公告)號: | CN112135111A | 公開(公告)日: | 2020-12-25 |
| 發明(設計)人: | 田富真;唐印;于金石;賀文綺;楊啟明 | 申請(專利權)人: | 魯迅美術學院藝術工程總公司 |
| 主分類號: | H04N9/31 | 分類號: | H04N9/31 |
| 代理公司: | 沈陽中宇天信專利代理有限公司 21248 | 代理人: | 武洪雨 |
| 地址: | 110000 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 投影 畫面 校正 方法 | ||
本發明公開了一種投影畫面校正方法,涉及圖像處理的技術領域,其包括以下步驟:調整一臺或多臺投影儀,以使所述投影儀能夠將投射出的畫面填滿整個幕布;將參考圖像投影到幕布以得到參考影像,對所述參考影像拍攝以得到參考照片;所述參考圖像上設置縱橫交錯的網格線;對比所述參考圖像和所述參考照片,以獲取所述參考照片的變形區域和變形幅度;基于所述變形區域和所述變形幅度,對所述參考圖像進行逆調節,以使所述參考影像內的網格線呈縱橫垂直的狀態。逆調節后,幕布上的畫面不會發生局部的扭曲,投射的影像能夠匹配幕布的輪廓,使得觀眾觀看時看起來更加真實。
技術領域
本發明涉及圖像處理的技術領域,具體是一種投影畫面校正方法。
背景技術
在博物館或紀念館等展館中,常用到投影設備進行場景展示,通常的投影也是在平面的幕布上進行的。但展館的置景為了還原地形地貌或歷史上的場景,會使幕布呈一定的輪廓,但是投射的過程中由于幕布的不平整會使圖像發生扭曲、變形,影響觀眾的觀看體驗。
發明內容
本發明提出了一種投影畫面校正方法,其包括調整一臺或多臺投影儀,以使所述投影儀能夠將投射出的畫面填滿整個幕布;將參考圖像投影到幕布以得到參考影像,對所述參考影像拍攝以得到參考照片;所述參考圖像上設置縱橫交錯的網格線;對比所述參考圖像和所述參考照片,以獲取所述參考照片的變形區域和變形幅度;基于所述變形區域和所述變形幅度,對所述參考圖像進行逆調節,以使所述參考影像內的網格線呈縱橫垂直的狀態。
本發明的進一步設置為:所述逆調節是將所述參考圖像在所述變形區域內進行等幅反向的變形。
本發明的進一步設置為:所述逆調節過程中保持所述參考圖像的邊緣的位置不變。
本發明的有益技術效果為:
逆調節后,幕布上的畫面不會發生局部的扭曲,投射的影像能夠匹配幕布的輪廓,使得觀眾觀看時看起來更加真實。
附圖說明
圖1示出了本發明的逆調節前的參考圖像和參考照片的示意圖;
圖2示出了本發明的逆調節后的參考圖像和參考照片的示意圖。
具體實施方式
下面參照附圖來描述本發明的優選實施方式。本領域技術人員應當理解的是,這些實施方式僅僅用于解釋本發明的技術原理,并非旨在限制本發明的保護范圍。
本發明提出了一種投影畫面校正技術,包括以下步驟:調整一臺或多臺投影儀,以使投影儀能夠將投射出的畫面填滿整個幕布。將參考圖像投影到幕布以得到參考影像,對參考影像拍攝以得到參考照片。
參考圖像上設置縱橫交錯的網格線,對比參考圖像和參考照片,以獲取參考照片的變形區域和變形幅度。基于變形區域和變形幅度,對參考圖像進行逆調節,以使參考影像內的網格線呈縱橫垂直的狀態。
逆調節是基于對參考圖像在變形區域內進行等幅反向的變形。具體過程如:逆調節前,參考圖像有像素點位A和像素點位B,投影變形后,參考照片的上像素點位B處的像素點移動至別處,像素點位A處的像素點移動至像素點位B處。逆調節后,將參考圖像中像素點位B處的像素點移動至像素點位A處,投影變形后,該像素點將直接投射到參考照片中像素點位B的位置,使得逆調節后的參考照片不發生扭曲。
逆調節過程中保持參考圖像的邊緣的位置不變。
逆調節針對具體的幕布的輪廓進行,逆調節后,幕布上的畫面不會發生局部的扭曲,投射的影像能夠匹配幕布的輪廓,例如幕布呈現出山巒或盆地的輪廓時,幕布上的影像能夠配合幕布展現出較為真實的山巒或盆地的樣式,使得觀眾觀看時看起來更加真實。
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