[發明專利]導電銅排、掛架組件以及電鍍設備

有效

• 申請號: 202010947792.9
• 申請日: 2020-09-10
• 公開（公告）號: CN114164476B
• 公開（公告）日: 2023-03-28
• 發明（設計）人: 王尹鵬
• 申請（專利權）人: 深南電路股份有限公司
• 主分類號: C25D17/00
• 分類號: C25D17/00;C25D17/08
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 黎堅怡

本申請公開了一種導電銅排、掛架組件以及電鍍設備，該電銅排包括：固定端，固定端上形成有固定孔，固定端通過固定孔與掛架固定連接；凹槽，凹槽設置于固定端的一端；至少兩個接觸凸臺，接觸凸臺設置于凹槽中，用于與垂直連續電鍍線導電銅排接觸導電。本申請通過設置至少兩個接觸凸臺，增加導電銅排與垂直連續電鍍線的導電銅排的接觸點位，改善垂直連續電鍍線的導電銅排與掛架導電銅排因臟污接觸不良的問題，提高垂直連續電鍍設備的鍍銅效果。

技術領域

本申請涉及電路板技術領域，特別是涉及一種導電銅排、掛架組件以及電鍍設備。

背景技術

現有的垂直連續電鍍設備，垂直連續電鍍設備電流的閉環中一個重要的環節是垂直連續電鍍線導電銅排與掛架導電銅排的接觸，若二者接觸不良，會影響印刷線路板的鍍銅的效果。垂直連續電鍍線的導電銅排與掛架導電銅排的接觸面均為平面，通過在掛架導電銅排與垂直連續電鍍線導電銅排接觸面上涂抹導電油的方式減少垂直連續電鍍線的導電銅排與掛架導電銅排之間的摩擦，同時增加二者的導電性。

發明內容

本申請提供一種導電銅排、掛架組件以及電鍍設備，解決了掛架在電鍍線上長時間運行，因垂直連續電鍍線的導電銅排與掛架導電銅排涂油導電油，導電銅排上會積累臟污，導致接觸面不良，導電性變差，影響最終的鍍銅效果的問題。

為解決上述技術問題，本申請采用的一個技術方案是：提供一種導電銅排，導電銅排用于和掛架同步運動時與垂直連續電鍍線導電銅排接觸導電，該電銅排包括：固定端，固定端上形成有固定孔，固定端通過固定孔與掛架固定連接；凹槽，凹槽設置于固定端的一端；至少兩個接觸凸臺，接觸凸臺設置于凹槽中，用于與垂直連續電鍍線導電銅排接觸導電。

其中，接觸凸臺的厚度設置為5mm。

其中，固定孔設置有多個。

其中，接觸凸臺邊緣與凹槽邊緣之間設置有一定間距。

其中，接觸凸臺與固定端與凹槽連接的一端之間設置有一定間距。

其中，間距設置為5mm。

其中，接觸凸臺設置有緩沖機構。

其中，接觸凸臺的接觸平面與固定端保持平齊。

為解決上述技術問題，本申請采用的又一個技術方案是：提供一種掛架組件，掛架組件包括掛架和導電銅排，導電銅排通過固定孔固定在掛架上，導電銅排為上述任一項的導電銅排。

為解決上述技術問題，本申請采用的又一個技術方案是：提供一種電鍍設備，電鍍設備包括掛架組件、驅動組件以及垂直連續電鍍線導電銅排，掛架組件固定在驅動組件上，與驅動組件同步運動，運動過程中與垂直連續電鍍線導電銅排相接觸導電，掛架組件為上述的掛架組件。

本申請的有益效果是：區別于現有技術的情況，本申請提供了一種導電銅排，該電銅排包括：固定端，固定端上形成有固定孔，固定端通過固定孔與掛架固定連接；凹槽，凹槽設置于固定端的一端；至少兩個接觸凸臺，接觸凸臺設置于凹槽中，用于與垂直連續電鍍線導電銅排接觸導電。本申請通過設置至少兩個接觸凸臺，增加導電銅排與垂直連續電鍍線的導電銅排的接觸點位，改善垂直連續電鍍線的導電銅排與掛架導電銅排因臟污接觸不良的問題，提高垂直連續電鍍設備的鍍銅效果。

附圖說明

為了更清楚地說明本申請實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本申請的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖，其中：

圖1是本申請提供的導電銅排的第一實施例的結構示意圖；

圖2是圖1的導電銅排的左視圖；

圖3是本申請提供的導電銅排的第二實施例的結構示意圖；