[發明專利]用于處理基板的裝置和方法

在審

• 申請號: 202010925720.4
• 申請日: 2020-09-04
• 公開（公告）號: CN112439737A
• 公開（公告）日: 2021-03-05
• 發明（設計）人: 李茂賢;方炳善;金俙煥
• 申請（專利權）人: 細美事有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 北京市中倫律師事務所 11410
• 代理人: 楊黎峰;趙瑞

1.一種用于處理基板的方法，所述方法包括：

液體處理步驟，其通過將處理液分配到旋轉的基板上而對所述基板執行液體處理；以及

清潔步驟，其停止分配所述處理液并將清潔溶液分配到所述基板上，

其中，在所述清潔步驟中，將第一液體從旋轉的基板上方的第一噴嘴分配到在第一方向上與所述基板的中心隔開的點，并且將第二液體從旋轉的基板上方的第二噴嘴分配到在第二方向上與所述基板的中心隔開的點，其中，當從上方觀察時，所述第一液體在分配到所述基板上后朝向所述第二噴嘴流動，并且所述第二液體在分配到所述基板上后朝向所述第一噴嘴流動。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，相對于所述基板沿傾斜方向分配所述第一液體和所述第二液體。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，當從上方觀察時，沿相反的方向朝向彼此分配所述第一液體和所述第二液體。

4.根據權利要求1所述的方法，其中，被分配以所述第一液體的點和被分配以所述第二液體的點在以所述基板的中心起始的相反方向上彼此隔開預定距離。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其中，同時分配所述第一液體和所述第二液體。

6.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其中，所述第一液體和所述第二液體具有相同類型。

7.一種用于處理基板的裝置，所述裝置包括：

殼體，在所述殼體中具有處理空間；

支撐單元，其配置成在所述處理空間中支撐所述基板；

第一噴嘴，其配置成將第一液體分配到支撐在所述支撐單元上的所述基板的目標表面上的第一點；以及

第二噴嘴，其配置成將第二液體分配到支撐在所述支撐單元上的所述基板的所述目標表面上的第二點，

其中，當從上方觀察時，所述第一點位于連接所述第一噴嘴的分配端和所述第二噴嘴的分配端的虛擬線的一側，以及

所述第二點位于所述虛擬線的另一側。

8.根據權利要求7所述的裝置，其中，所述基板的中心位于所述第一點和所述第二點之間。

9.根據權利要求7所述的裝置，其中，所述第一點與所述基板的中心之間的距離等于所述第二點與所述基板的中心之間的距離。

10.根據權利要求7所述的裝置，其中，當從上方觀察時，所述第一噴嘴和所述第二噴嘴在相反的方向上朝向彼此設置。

11.根據權利要求7所述的裝置，其中，所述第一噴嘴將所述第一液體分配到與所述基板的中心間隔開第一距離的所述第一點，以及

其中，所述第二噴嘴將所述第二液體分配到在相對于所述基板的中心而背離所述第一點的方向上與所述基板的中心間隔開第二距離的所述第二點。

12.根據權利要求11所述的裝置，其中，所述第一距離等于所述第二距離。

13.根據權利要求7所述的裝置，還包括：

杯狀件，其配置成圍繞所述處理空間，

其中，所述第一噴嘴和所述第二噴嘴被固定到所述杯狀件。

14.根據權利要求7所述的裝置，其中，所述第一液體和所述第二液體彼此相同。

15.一種用于處理基板的方法，所述方法包括：

從旋轉的基板上方沿傾斜方向同時將第一液體和第二液體從第一噴嘴和第二噴嘴分配到所述基板上，

其中，從所述第一噴嘴分配所述第一液體的方向和從所述第二噴嘴分配所述第二液體的方向彼此不同，使得從所述第一噴嘴分配的所述第一液體和從所述第二噴嘴分配的所述第二液體通過所述基板的旋轉而沿不同方向擴散。