[發明專利]一種研磨液流量控制方法、裝置、設備及可讀存儲介質有效
| 申請號： | 202010917297.3 | 申請日： | 2020-09-03 |
| 公開（公告）號： | CN112247826B | 公開（公告）日： | 2022-03-22 |
| 發明（設計）人： | 劉志偉;尹影;周慶亞;崔凱;賈若雨;李久芳;孟曉云 | 申請（專利權）人： | 北京爍科精微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/005 | 分類號： | B24B37/005;B24B57/02;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250 | 代理人： | 馬永芬 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 研磨 流量 控制 方法 裝置 設備 可讀 存儲 介質 | ||
1.一種研磨液流量控制方法，其特征在于，包括：
獲取機械臂的運動參數；
根據所述機械臂的運動參數，確定所述機械臂的位置數據；
根據所述位置數據確定目標研磨液流量，包括：根據第一函數關系式，確定所述機械臂在當前位置的所述目標研磨液流量；
根據第二函數關系式對所述目標研磨液流量進行校正；
其中，所述第一函數關系式的確定方法包括：獲取所述機械臂在擺動中的多個位置點以及與多個位置點所對應的多個初始研磨液流量；根據所述多個位置點與多個所述初始研磨液流量之間的關系，確定第一函數關系式；
所述第二函數關系式的確定方法包括：獲取所述機械臂在當前位置的實際研磨液流量，以及拋光盤的反饋研磨液流量；根據所述反饋研磨液流量、所述實際研磨液流量和所述目標研磨液流量之間的比例關系，確定第二函數關系式。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述運動參數包括機械臂的擺動范圍和機械臂的擺動頻率。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一函數關系式為線性關系式或正弦關系。
4.一種研磨液流量控制裝置，其特征在于，包括：
獲取模塊，用于獲取機械臂的運動參數；
第一確定模塊，用于根據所述機械臂的運動參數，確定所述機械臂的位置數據；
第二確定模塊，用于根據所述位置數據確定目標研磨液流量；
校正模塊，用于根據第二函數關系式對所述目標研磨液流量進行校正；
其中，所述第二確定模塊包括：確定子模塊，用于根據第一函數關系式，確定所述機械臂在當前位置的所述目標研磨液流量；
所述確定子模塊，還用于獲取所述機械臂在擺動中的多個位置點以及與多個位置點所對應的多個初始研磨液流量；根據所述多個位置點與多個所述初始研磨液流量之間的關系，確定第一函數關系式；
所述校正模塊，還用于獲取所述機械臂在當前位置的實際研磨液流量，以及拋光盤的反饋研磨液流量；根據所述反饋研磨液流量、所述實際研磨液流量和所述目標研磨液流量之間的比例關系，確定第二函數關系式。
5.一種計算機設備，其特征在于，包括：存儲器和處理器，所述存儲器和所述處理器之間互相通信連接，所述存儲器中存儲有計算機指令，所述處理器通過執行所述計算機指令，從而執行權利要求1-3中任一項所述的研磨液流量控制方法。
6.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，所述計算機可讀存儲介質存儲有計算機指令，所述計算機指令用于使所述計算機執行權利要求1-3中任一項所述的研磨液流量控制方法。
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