[發明專利]一種涂層機的載料裝置

有效

• 申請號: 202010899378.5
• 申請日: 2020-08-31
• 公開（公告）號: CN112251732B
• 公開（公告）日: 2023-02-17
• 發明（設計）人: 王俊鋒;袁明;謝文榮;秦興耀;王鋒
• 申請（專利權）人: 廣東鼎泰機器人科技有限公司
• 主分類號: C23C16/27
• 分類號: C23C16/27;C23C16/44;C23C16/458;C23C16/46
• 代理公司: 東莞市華南專利商標事務所有限公司 44215
• 代理人: 袁敏怡

本發明涉及涂層設備技術領域，尤其是指一種涂層機的載料裝置，其包括真空罩、液冷載臺組件、彈性密封件和真空罩底座冷盤，真空罩底座冷盤密封安裝于真空罩的底壁，液冷載臺組件滑動設置于真空罩底壁，液冷載臺組件和真空罩底座冷盤均為中空結構，冷卻液導入液冷載臺組件和真空罩底座冷盤內部以實現冷卻，彈性密封件的一端與液冷載臺組件密封安裝，彈性密封件的另一端與真空罩底座冷盤密封安裝。本發明能夠有效、快速地對液冷載臺和真空罩底壁實現降溫，使得液冷載臺能夠長期處于高溫環境下工作，避免液冷載臺燒損，還能夠加強液冷載臺組件與真空罩安裝的密封性，刀具表面的薄膜沉積效果好。

技術領域

本發明涉及涂層設備技術領域，尤其是指一種涂層機的載料裝置。

背景技術

熱絲CVD(Hot Filament CVD，簡稱HFCVD)方法具有成本低、設備簡單、工藝穩定、適用于復雜形狀及大面積沉積的優點，是最適用于金剛石薄膜涂層刀具產業化生產的方法，目前國內外HFCVD金剛石薄膜涂層復雜形狀鉆頭和銑刀正在產業化過程中；在采用HFCVD方法對鉆頭或銑刀的刀刃部分進行金剛石薄膜沉積時，沉積區域(刀刃區域，基體)的表面溫度數值、溫度場及反應基團密度場分布均勻性對薄膜質量及均勻性有著很大的影響。用于沉積HFCVD金剛石薄膜的適宜的基體溫度區間約為500-1000℃，最適宜區間約為700-900℃。

傳統的涂層設備的上料裝置通常處于真空高溫狀態下，為了防止上料裝置被燒損，通常會對其進行水冷，但是現有技術中的涂層設備上料裝置冷卻結構設計不合理，至少存在以下問題：

1、通常真空罩底壁和上料裝置較為靠近發熱源，導致上料裝置和真空罩底壁的工作溫度過高，容易被高溫燒損，使用壽命短，生產成本高，達不到生產的標準；

2、真空罩與上料裝置裝配，密封性不足，上料裝置動作時真空罩會出現漏氣的情況，影響刀具表面的薄膜沉積效果，良品率低。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種涂層機的載料裝置，能夠有效、快速地對液冷載臺和真空罩底壁實現降溫，使得液冷載臺能夠長期處于高溫環境下工作，避免液冷載臺燒損，還能夠加強液冷載臺組件與真空罩安裝的密封性，刀具表面的薄膜沉積效果好。

為了解決上述技術問題，本發明采用如下技術方案：

一種涂層機的載料裝置，其包括真空罩、液冷載臺組件、彈性密封件和真空罩底座冷盤，真空罩底座冷盤密封安裝于真空罩的底壁，真空罩底座冷盤用于對真空罩降溫冷卻，液冷載臺組件滑動設置于真空罩底壁，液冷載臺組件用于承載刀具并調整刀具的位置高度，液冷載臺組件和真空罩底座冷盤均為中空結構，冷卻液導入液冷載臺組件和真空罩底座冷盤內部以實現冷卻，彈性密封件套設于液冷載臺組件，彈性密封件的一端與液冷載臺組件密封安裝，彈性密封件的另一端與真空罩底座冷盤密封安裝。

進一步地，所述液冷載臺組件包括機架、液冷載臺、出液空心支撐管、升降驅動結構和旋轉驅動件，機架固定安裝于真空罩底部，升降驅動結構安裝于機架并與出液空心支撐管驅動連接，出液空心支撐管的上端突伸至真空罩內部并與液冷載臺固定連接，出液空心支撐管的下端與旋轉驅動件固定連接，出液空心支撐管滑動設置于真空罩底座冷盤，液冷載臺內部設有液冷空腔，出液空心支撐管與液冷空腔連通，液冷空腔內轉動安裝有旋轉導液盤，旋轉驅動件的輸出端與旋轉導液盤連接，液冷空腔導入冷卻液，旋轉導液盤用于攪動液冷空腔內部的冷卻液。

進一步地，所述彈性密封件為彈性環狀體，彈性密封件套設于出液空心支撐管的外側，彈性密封件的一端與真空罩底壁密封連接，彈性密封件的另一端與旋轉驅動件密封連接；液冷載臺上移時，彈性密封件處于壓縮狀態；液冷載臺下移時，彈性密封件處于擴張狀態。

進一步地，所述旋轉導液盤包括導液平板以及設置于導液平板的多個頁片，多個頁片沿導液平板的中心軸線呈環形陣列，導液平板轉動安裝于液冷空腔內，多個頁片用于攪動液冷空腔內部的冷卻液，導液平板設有導液中心孔和裝配凸環體，裝配凸環體與導液中心孔共軸設置。