[發明專利]一種LCD顯示屏蝕刻廢水處理裝置及處理方法

在審

• 申請號: 202010878675.1
• 申請日: 2020-08-27
• 公開（公告）號: CN112110605A
• 公開（公告）日: 2020-12-22
• 發明（設計）人: 肖新煌;張國進
• 申請（專利權）人: 晟光科技股份有限公司
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14;C02F103/34;C02F101/14
• 代理公司: 北京同輝知識產權代理事務所(普通合伙) 11357
• 代理人: 王依

本發明公開一種LCD顯示屏蝕刻廢水處理裝置及處理方法，該裝置包括裝置本體，裝置本體內部上方設有第一沉淀室和第二沉淀室，第一沉淀室通過第一提升泵與第二沉淀室連接，第二沉淀室通過第二提升泵與超濾機構的進液端連接，超濾機構的出液端與中轉室連接，中轉室側壁設有第一出液口，中轉室通過第三提升泵與第一沉淀室連接。本發明裝置通過攪拌機構控制沉淀室中的攪拌速度和攪拌時間，通過pH監測儀實時測定沉淀室中污水的pH,提高了絮凝沉淀處理氟離子去除效果，本發明處理方法通過絮凝沉淀、活性污泥和超濾結合的方式有效去除了污水中的氟離子和COD，其中氟離子總去除率可達90％以上。

技術領域

本發明涉及LCD顯示屏生產領域，具體的是一種LCD顯示屏蝕刻廢水處理裝置及處理方法。

背景技術

薄膜晶體管液晶顯示器(ThinFilmT ransistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)的成本低、高解析度、高亮度、寬視角以及能耗低等特點使之是當前最理想的數字信息終端器件之一，其產量和銷售額均已超過了傳統的陰極射線管(CRT)顯示器，已經成為世界上應用最廣、發展最快、投資最大的顯示器產業。然而其生產過程的蝕刻操作中會產生很多不同種類的廢液，例如AI刻蝕廢液、玻璃基板刻蝕廢液等，若將這些廢液直接排放，不僅會浪費廢液中存在的大量可回收資源而且會造成嚴重的環境污染。

LCD顯示屏蝕刻廢水為高濃度含氟廢水，目前對對含氟廢水的處理方法主要包括化學沉淀法、吸附法、離子交換法、混凝沉淀法等。化學沉淀法處理含氟廢水具有簡單、處理方便、費用低等優點，但是藥品用量大，泥渣沉降緩慢，脫水困難；吸附法通常只適用于低濃度的含氟廢水或對廢水進行深度處理，單獨用于處理含氟廢水效果不佳；離子交換法是采用陰離子交換樹脂的的離子交換作用來除去F^-離子，但是一般的陰離子交換樹脂對F^-離子的選擇性比較靠后，使其對F^-離子去除效果較差。

目前國內利用化學混凝沉淀法處理含氟廢水的應用較多，即采用沉淀劑與混凝劑、助凝劑聯用克服早期沉淀法存在的泥渣沉降緩慢且脫水困難等問題，具有設備操作簡便、處理費用低、除氟效果好等優點，但是絮凝沉淀處理氟離子去除效果受攪拌條件、沉降時間等操作因素及水中SO₄^2-、Cl^-等陰離子影響大，采用傳統的沉淀池處理很難控制，導致出水水質不夠穩定。

發明內容

為解決上述背景技術中提到的不足，本發明的目的在于提供一種LCD顯示屏蝕刻廢水處理裝置及處理方法，該裝置通過攪拌機構控制沉淀室中的攪拌速度和攪拌時間，通過pH監測儀實時測定沉淀室中污水的pH,提高了絮凝沉淀處理氟離子去除效果，本發明處理方法通過絮凝沉淀、活性污泥和超濾結合的方式有效去除了污水中的氟離子和COD，其中氟離子總去除率可達90％以上。

本發明的目的可以通過以下技術方案實現：

一種LCD顯示屏蝕刻廢水處理裝置，包括裝置本體，裝置本體內部上方設有第一沉淀室和第二沉淀室，第一沉淀室和第二沉淀室并列設置，第一沉淀室側壁上端設有第一進液口，第一沉淀室頂部中間固定安裝第一攪拌機構，第一沉淀室頂部一側設有第一加藥口，第二沉淀室頂部中間固定安裝第二攪拌機構，第二沉淀室頂部一側設有第二加藥口，第一沉淀室和第二沉淀室底部均設有排污口，排污口均與排污管連接，第一沉淀室通過第一提升泵與第二沉淀室連接，第二沉淀室通過第二提升泵與超濾機構的進液端連接，超濾機構的出液端與中轉室連接，超濾機構和中轉室均固定安裝在裝置本體底部，中轉室側壁設有第一出液口，中轉室通過第三提升泵與第一沉淀室連接。

優選地，第一攪拌機構包括攪拌軸，攪拌軸與第一沉淀室頂部轉動連接，攪拌軸下端表面固定安裝若干攪拌桿，攪拌軸頂端通過減速機的輸出端連接，減速機的輸入端與私服電機輸出軸連接，減速機和私服電機固定安裝在裝置本體頂部，第二攪拌機構的結構與第一攪拌機構相同。