[發(fā)明專利]一種用于3D噴墨法高通量核酸原位合成的功能化表面處理方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010862060.X
• 申請日: 2020-08-25
• 公開（公告）號: CN114106588B
• 公開（公告）日: 2023-01-03
• 發(fā)明（設計）人: 張滿倉;王立兵;候彩鈴
• 申請（專利權）人: 上海迪贏生物科技有限公司
• 主分類號: C09C1/30
• 分類號: C09C1/30;C09C3/04;C09C3/06;C09C3/12;C09C3/08;B29C64/106;B33Y10/00
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245
• 代理人: 王春霞

1.一種用于3D噴墨法高通量核酸原位合成的功能化表面處理方法，包括如下步驟：

1)將基底的表面進行富羥基化處理；

所述基底為石英玻璃片或設有二氧化硅涂層的硅片；

2)在所述基底的表面修飾疏水性分子；所述疏水性分子不與亞磷酰胺單體反應；

所述疏水性分子為氟辛基三氯硅烷、(十三氟-1,1,2,2-四氫辛基)三氯硅烷或(十三氟-1,1,2,2-四氫辛基)三甲氧基硅烷；

3)采用多通道壓電噴墨頭組件將蝕刻墨水噴射到所述基底表面的預設區(qū)域進行微蝕刻；

所述蝕刻墨水采用氟鹽類化合物配制；

所述氟鹽類化合物與所述疏水性分子反應；

所述氟鹽類化合物為氟化銨、四丁基氟化銨、苯基三甲基氟化銨、三乙胺三氫氟酸鹽和氟化氫吡啶中至少一種；

4)在所述基底的表面修飾親水性分子，至此實現(xiàn)所述基底表面的功能化；

所述親水性分子為3-縮水甘油基氧基丙基三甲氧基硅烷、N-(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)-4-羥基丁酰胺、11-乙酰氧基十一烷基三乙氧基硅烷、正癸基三乙氧基硅烷、(3-氨丙基)三甲氧基硅烷、(3-氨丙基)三乙氧基硅烷或3-碘-丙基三甲氧基硅烷。

2.根據權利要求1所述的功能化表面處理方法，其特征在于：步驟1)中，采用食人魚溶液進行所述富羥基化處理。

3.根據權利要求1或2所述的功能化表面處理方法，其特征在于：步驟3)中，所述蝕刻墨水的溶劑具有如下特點：

1)對所述氟鹽類化合物具有一定的溶解性；

2)形成的所述蝕刻墨水通過所述多通道壓電噴墨頭組件的噴頭形成較好形態(tài)的墨滴。

4.根據權利要求3所述的功能化表面處理方法，其特征在于：所述蝕刻墨水的溶劑為聚丙烯碳酸酯、聚乙二醇、乙腈、2-甲基戊二腈和3-甲氧基丙腈中一種或多種的組合。