[發(fā)明專利]等離子體探測裝置、等離子體處理裝置和控制方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010861394.5 | 申請日： | 2020-08-25 |
| 公開（公告）號： | CN112449473B | 公開（公告）日： | 2023-08-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 池田太郎;佐藤干夫;鐮田英紀 | 申請（專利權(quán)）人： | 東京毅力科創(chuàng)株式會社 |
| 主分類號： | H05H1/00 | 分類號： | H05H1/00 |
| 代理公司： | 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322 | 代理人： | 龍淳;徐飛躍 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 等離子體 探測 裝置 處理 控制 方法 | ||
本發(fā)明提供一種等離子體探測裝置、等離子體處理裝置和控制方法。本發(fā)明的一方式的等離子體探測裝置包括：天線部，其隔著將真空空間與大氣空間之間密封的密封部件，安裝在形成于處理容器的壁的開口部；和透光部，其設(shè)置于所述天線部的內(nèi)部或者是所述天線部的至少一部分，能夠使所述真空空間中生成的等離子體的發(fā)出光透射到所述大氣空間。根據(jù)本發(fā)明，能夠高精度地監(jiān)視等離子體生成空間中的自由基密度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及等離子體探測裝置、等離子體處理裝置和控制方法。
背景技術(shù)
作為監(jiān)視等離子體的狀態(tài)的方法之一，已知有發(fā)光光譜分析(例如，專利文獻1)。
現(xiàn)有技術(shù)文獻
專利文獻
專利文獻1：日本特開2016-207915號公報。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的技術(shù)問題
本發(fā)明提供能夠高精度地監(jiān)視等離子體生成空間中的自由基密度的技術(shù)。
用于解決問題的技術(shù)手段
本發(fā)明的一方式的等離子體探測裝置具有：天線部，其隔著將真空空間與大氣空間之間密封的密封部件，安裝在形成于處理容器的壁的開口部；和透光部，其設(shè)置于所述天線部的內(nèi)部或者是所述天線部的至少一部分，能夠使所述真空空間中生成的等離子體的發(fā)出光透射到所述大氣空間。
發(fā)明效果
依照本發(fā)明，能夠高精度地監(jiān)視等離子體生成空間中的自由基密度。
附圖說明
圖1是表示微波等離子體處理裝置的截面圖的一例的圖。
圖2是表示微波等離子體處理裝置的頂部的內(nèi)壁的一例的圖。
圖3是表示第1結(jié)構(gòu)例的等離子體探測裝置的圖。
圖4是表示等離子體探測裝置的配置的一例的圖。
圖5是表示等離子體探測裝置的測量結(jié)果的一例的圖。
圖6是表示反饋控制處理的一例的流程圖。
圖7是用于說明反饋控制處理的圖
圖8是表示第2結(jié)構(gòu)例的等離子體探測裝置的圖。
圖9是表示第3結(jié)構(gòu)例的等離子體探測裝置的圖。
圖10是表示第4結(jié)構(gòu)例的等離子體探測裝置的圖。
附圖標記的說明
1處理容器
1b開口部
2微波等離子體源
3控制裝置
11載置臺
50?微波輻射機構(gòu)
70?等離子體探測裝置
71?天線部
72?電極
73?O型圈
74?電介質(zhì)支承部
75?電極
78?透光部
79a?O型圈
79b?蓋體
79c?O型圈
100?微波等離子體處理裝置。
具體實施方式
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