[發(fā)明專利]疊構(gòu)結(jié)構(gòu)的制備方法、疊構(gòu)結(jié)構(gòu)及觸控感應(yīng)器

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010841879.8
• 申請(qǐng)日: 2020-08-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114080112A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-02-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蔡宜珍;方瑋嘉;朱俊鴻;蕭仲欽;吳孟蕓;賴姿璇;徐暐程
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 天材創(chuàng)新材料科技（廈門(mén)）有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H05K3/06
• 分類(lèi)號(hào): H05K3/06;H05K1/09;H05K1/11
• 代理公司: 北京國(guó)昊天誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11315
• 代理人: 南霆;王寧

1.一種疊構(gòu)結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，包含：

提供基材；

于該基材上方設(shè)置金屬層及納米銀線層；

應(yīng)用柔版印刷技術(shù)，將抗蝕刻層印制于該金屬層或該納米銀線層的表面，以使該抗蝕刻層部分覆蓋該金屬層或該納米銀線層，其中該抗蝕刻層包含：

導(dǎo)線圖案；

網(wǎng)格圖案，其與該導(dǎo)線圖案連接；及

覆蓋區(qū)域，其覆蓋該金屬層或該納米銀線層，且與該網(wǎng)格圖案連接；

應(yīng)用蝕刻技術(shù)，以蝕刻液去除該金屬層或該納米銀線層中未被該抗蝕刻層覆蓋的部分及其下方的金屬層或納米銀線層，借此使該金屬層包含：

金屬導(dǎo)線，其對(duì)應(yīng)該抗蝕刻層的導(dǎo)線圖案；

金屬網(wǎng)格，其對(duì)應(yīng)該抗蝕刻層的網(wǎng)格圖案，且與該金屬導(dǎo)線連接；及

金屬板，其對(duì)應(yīng)該抗蝕刻層的覆蓋區(qū)域，且與該金屬網(wǎng)格連接；以及

去除該抗蝕刻層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，該納米銀線層設(shè)置于該金屬層的上方，且該抗蝕刻層印制于該納米銀線層的表面。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，于金屬層應(yīng)用化學(xué)鍍技術(shù)設(shè)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，該金屬層設(shè)置于該納米銀線層的上方，且該抗蝕刻層印制于該金屬層的表面。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，該金屬層的材料選自由銅、銅-鎳合金、銅-鉛合金、銀、銀-鎳合金及銀-鉛合金所組成的群組。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，該基材的材料選自由聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、環(huán)烯烴共聚物、無(wú)色聚酰亞胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯及聚醚砜所組成的群組。

7.一種疊構(gòu)結(jié)構(gòu)，其特征在于，包含：

基材；

金屬層，其設(shè)置于該基材之上，其中該金屬層包含：

金屬導(dǎo)線；

金屬網(wǎng)格，其與該金屬導(dǎo)線連接；及

金屬板，其與該金屬網(wǎng)格連接；以及

納米銀線層，其設(shè)置于該基材之上，其中該納米銀線層至少部分與該金屬層重疊。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的疊構(gòu)結(jié)構(gòu)，其特征在于，該納米銀線層設(shè)置于該金屬層的上方。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的疊構(gòu)結(jié)構(gòu)，其特征在于，進(jìn)一步包含：

觸媒層，其設(shè)置于該金屬層之下。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的疊構(gòu)結(jié)構(gòu)，其特征在于，該金屬層設(shè)置于該納米銀線層的上方。

11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的疊構(gòu)結(jié)構(gòu)，其特征在于，該金屬層的材料選自由銅、銅-鎳合金、銅-鉛合金、銀、銀-鎳合金及銀-鉛合金所組成的群組。

12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的疊構(gòu)結(jié)構(gòu)，其特征在于，該基材的材料選自由聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、環(huán)烯烴共聚物、無(wú)色聚酰亞胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯及聚醚砜所組成的群組。

13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的疊構(gòu)結(jié)構(gòu)，其特征在于，該疊構(gòu)結(jié)構(gòu)包含：走線區(qū)域，其包括該金屬導(dǎo)線；第一搭接區(qū)域，其包括該金屬網(wǎng)格；第二搭接區(qū)域，其包括該金屬板；可視區(qū)域，其包括鄰近該金屬板的一側(cè)的由該納米銀線層所覆蓋且未被該金屬板所覆蓋的區(qū)域，其中，于該走線區(qū)域、該第一搭接區(qū)域及該第二搭接區(qū)域中，該納米銀線層具有對(duì)應(yīng)該金屬層的圖案。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的疊構(gòu)結(jié)構(gòu)，其特征在于，該第一搭接區(qū)域與該第二搭接區(qū)域的總寬度小于500μm，且該第一搭接區(qū)域與該第二搭接區(qū)域的寬度的比值介于0.05～20之間。