[發(fā)明專利]QPQ鹽浴濃度分析儀用恒溫控制系統(tǒng)及其溫度控制方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010841708.5
• 申請(qǐng)日: 2020-08-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111896473A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-11-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周海建;王浩凌
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湖南申億五金標(biāo)準(zhǔn)件有限公司
• 主分類號(hào): G01N21/03
• 分類號(hào): G01N21/03;G05D23/22;G05D23/24
• 代理公司: 長(zhǎng)沙鑫澤信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 43247
• 代理人: 尹鋒

本發(fā)明公開(kāi)了一種QPQ鹽浴濃度分析儀用恒溫控制系統(tǒng)，包括具有多個(gè)比色皿的檢測(cè)室、與所述檢測(cè)室連接并用于控制所述檢測(cè)室溫度的第一溫控裝置與第二溫控裝置、與所述第一溫控裝置連接的第一控制器、與所述第二溫控裝置連接的第二控制器及分別與所述第一控制器及所述第二控制器連接的總控制器，所述第一控制器配合所述第一溫控裝置對(duì)所述檢測(cè)室進(jìn)行加熱粗控制，所述第二控制器配合所述第二溫控裝置對(duì)所述檢測(cè)室進(jìn)行加熱細(xì)控制。與相關(guān)技術(shù)相比，本發(fā)明提供的QPQ鹽浴濃度分析儀用恒溫控制系統(tǒng)，溫度恒溫控制速度快，溫度控制精度高，功耗低。本發(fā)明還提供了一種QPQ鹽浴濃度分析儀的溫度控制方法。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及金屬元件制造加工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種QPQ鹽浴濃度分析儀用恒溫控制系統(tǒng)及其溫度控制方法。

背景技術(shù)

QPQ(Quench-Polish-Quench)技術(shù)是一種金屬表面改性技術(shù)，原意為淬火-拋光-淬火。用以提高鋼的硬度、耐磨性和耐腐蝕性，主要工序是鹽浴滲氮(鹽浴氮碳共滲)+鹽浴氧化。

QPQ鹽浴中的氮化鹽浴濃度(氰酸根含量)是QPQ工藝質(zhì)量控制的一個(gè)重要指標(biāo)，對(duì)零部件表面化合物層的深度和工件表面的硬度有直接的影響，鹽浴濃度一般控制在32％-38％。QPQ氮化鹽分析儀是基于分光光度技術(shù)，半自動(dòng)在線監(jiān)測(cè)QPQ氮化鹽中氰酸根、氰化物和鐵離子的濃度，對(duì)工件表面QPQ鹽浴復(fù)合的質(zhì)量控制提供量化的支持。

恒溫控制系統(tǒng)是分光光度計(jì)生化檢測(cè)儀非常重要的組成部分，保證了試劑與樣品顯色反應(yīng)速度，對(duì)特征光譜吸光度檢測(cè)的時(shí)間點(diǎn)和檢測(cè)結(jié)果有著重大影響。要求對(duì)儀器檢測(cè)室的溫度控制非常準(zhǔn)確，比色皿的溫度分布非常均勻。恒溫控制需要解決熱慣性和散熱兩大難點(diǎn)。

因此，有必要提供一種新的溫度恒溫控制速度快，溫度控制精度高，功耗低的QPQ鹽浴濃度分析儀用恒溫控制系統(tǒng)及其溫度控制方法來(lái)解決上述問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種新的溫度恒溫控制速度快，溫度控制精度高，功耗低的QPQ鹽浴濃度分析儀用恒溫控制系統(tǒng)及其溫度控制方法。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了如下技術(shù)方案:

一種QPQ鹽浴濃度分析儀用恒溫控制系統(tǒng)，包括具有多個(gè)比色皿的檢測(cè)室、與所述檢測(cè)室連接并用于控制所述檢測(cè)室溫度的第一溫控裝置與第二溫控裝置、與所述第一溫控裝置連接的第一控制器、與所述第二溫控裝置連接的第二控制器及分別與所述第一控制器及所述第二控制器連接的總控制器，所述第一控制器配合所述第一溫控裝置對(duì)所述檢測(cè)室進(jìn)行加熱粗控制，所述第二控制器配合所述第二溫控裝置對(duì)所述檢測(cè)室進(jìn)行加熱細(xì)控制。

優(yōu)選的，所述檢測(cè)室還包括底壁、與所述底壁相對(duì)設(shè)置的頂壁及連接所述底壁與所述頂壁的側(cè)壁，所述底壁、所述頂壁及所述側(cè)壁共同圍成收容空間，所述第一溫控裝置包括嵌設(shè)于所述底壁并分別與所述第一控制器連接的第一溫度傳感器與加熱絲，所述比色皿靠近所述加熱絲設(shè)置并與所述底壁固定連接。

優(yōu)選的，所述第一控制器為PID溫度控制器。

優(yōu)選的，所述第二溫控裝置包括設(shè)置于所述收容空間內(nèi)的半導(dǎo)體制冷器、設(shè)置于所述收容空間內(nèi)的第二溫度傳感器、貼設(shè)于所述頂壁內(nèi)側(cè)的多塊散熱片及設(shè)置于所述側(cè)壁并連通所述收容空間與外界的散熱風(fēng)扇，所述半導(dǎo)體制冷器及所述第二溫度傳感器均與所述第二控制器電連接。

優(yōu)選的，所述第二控制器為TEC控制器。

優(yōu)選的，所述檢測(cè)室的材料為金屬銅。

優(yōu)選的，所述第一溫度傳感器與所述第二溫度傳感器均為熱電偶。

一種QPQ鹽浴濃度分析儀的溫度控制方法，提供如前述的QPQ鹽浴濃度分析儀用恒溫控制系統(tǒng)，包括如下步驟：