[發明專利]一種可以對反應室進行拆除清洗的氮氧分析儀維護設備

在審

• 申請號: 202010829720.4
• 申請日: 2020-08-18
• 公開（公告）號: CN111948349A
• 公開（公告）日: 2020-11-17
• 發明（設計）人: 陳彩山
• 申請（專利權）人: 溫州陽格凡電子科技有限公司
• 主分類號: G01N33/00
• 分類號: G01N33/00;B08B3/08;B08B3/12
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種可以對反應室進行拆除清洗的氮氧分析儀維護設備，包括安裝清潔盒，所述安裝清潔盒內設有安裝空腔，所述安裝空腔左側內壁設有貫穿所述安裝空腔左側內壁的第一連通空腔，所述安裝空腔右側內壁設有貫穿所述安裝空腔右側內壁的第二連通空腔，本設備安裝在氮氧化物分析儀外側，當到達指定清洗時間，設備啟動，因為本設備自動化程度高，可以將氮氧化物分析儀的反應和進出氣口進行拆除，然后利用化學藥劑和超聲波對儀器進行清洗，然后再重新安裝回去，可以保證過程的不透光性，保證氮氧化物分析儀的使用壽命，同時提高了清潔的效率。

技術領域

本發明涉及分析儀領域，具體為一種可以對反應室進行拆除清洗的氮氧分析儀維護設備。

背景技術

氮氧化物分析儀在工作較長時間后，其反應室內會產生硝酸鹽結晶，此產物會對氣路產生阻塞，導致氣路不通，所以應當間隔一段時間就將反應室打開，清洗其中的硝酸鹽結晶等雜物。但是因為反應室中存在光電倍增管，其對于光線極為敏感，一旦曝光，壽命會大打折扣，對此在清洗反應室過程中需要予以嚴格注意，盡可能在完全避光環境下進行，所以氮氧化物分析儀反應室清洗困難，工作量大，會降低工作效率。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種可以對反應室進行拆除清洗的氮氧分析儀維護設備，克服清洗困難，工作量大，會降低工作效率等情況。

本發明是通過以下技術方案來實現的。

本發明的一種可以對反應室進行拆除清洗的氮氧分析儀維護設備，包括安裝清潔盒，所述安裝清潔盒內設有安裝空腔，所述安裝空腔左側內壁設有貫穿所述安裝空腔左側內壁的第一連通空腔，所述安裝空腔右側內壁設有貫穿所述安裝空腔右側內壁的第二連通空腔，所述安裝空腔下側內壁設有清潔模塊，所述清潔空腔內設有開口向上的清潔空腔，所述清潔空腔下側內壁設有開口向上的傳動空腔，所述安裝空腔內可安裝有反應室，所述安裝空腔內設有第一拆解裝置，所述傳動空腔內設有第二拆解裝置；

所述第一拆解裝置包括固定在所述安裝空腔后側內壁的伸縮電機，所述伸縮電機下端面固定設有伸縮電機軸，所述伸縮電機軸下端面固定設有第一移動塊，所述第一移動塊內設有開口向上的連接空腔，所述連接空腔后側內壁設有開口向前的第一滑槽空腔，所述第一滑槽空腔內滑動設有第一滑塊，所述第一滑塊前端面固定設有第二移動塊，所述第二移動塊內設有開口向下的第一連通空調，所述第一連通空調前端面轉動設有第一旋轉軸，所述第一旋轉軸在所述第一連通空調內的部分固定設有摩擦輪，所述第一連通空調在外部分固定設有第一錐齒輪，所述第二移動塊前端面關于所述第一旋轉軸對稱設有第一支架，左側所述第一支架靠近所述第一旋轉軸側端面固定設有第一旋轉電機，所述第一旋轉電機靠近所述第一旋轉軸側端面固定設有第一旋轉電機軸，所述第一旋轉電機軸上固定設有第一直齒輪、第二錐齒輪和第二直齒輪，所述第二錐齒輪與所述第一錐齒輪嚙合，所述第一支架前端面固定設有滑槽基座，所述滑槽基座內設有貫穿所述滑槽基座左右端面的第二連通空腔，所述滑槽基座內設有開口向靠近所述第一旋轉軸側的第一環形滑槽空腔，所述第一環形滑槽空腔內滑動設有第一環形滑塊，所述第一環形滑塊靠近所述第一旋轉軸側端面固定設有轉動剝離輪，所述轉動剝離輪內設有貫穿所述轉動剝離輪左右端面的第三連通空腔，所述第二連通空腔下端面固定設有第二支架桿，所述第二支架桿靠近所述第一旋轉軸側端面固定設有第三支架桿，所述第三支架桿靠近所述第一旋轉軸側端面固定設有支架塊，所述支架塊靠近所述第一旋轉軸側端面關于所述第三支架桿對稱設有兩個第二環形滑塊，所述第三連通空腔內設有螺母組件，所述螺母組件內設有貫穿所述螺母組件左右端面的第四連通空腔，所述螺母組件內設有開口向遠離所述第一旋轉軸側的第二滑行滑槽空腔，所述第二環形滑塊在所述第二滑行滑槽空腔內滑動連接，所述螺母組件與所述第三連通空腔內壁嚙合。