[發明專利]一種Ni/Ni3 有效
| 申請號： | 202010811529.7 | 申請日： | 2020-08-13 |
| 公開（公告）號： | CN112076763B | 公開（公告）日： | 2021-12-03 |
| 發明（設計）人： | 石巖;張可菁;劉明人;司夢瑩;柴立元;楊志輝 | 申請（專利權）人： | 中南大學 |
| 主分類號： | B01J27/043 | 分類號： | B01J27/043;B01J35/10;C25B11/091;C25B1/04 |
| 代理公司： | 長沙市融智專利事務所(普通合伙) 43114 | 代理人： | 鐘丹;魏娟 |
| 地址： | 410083 湖南*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 ni base sub | ||
1.一種Ni/Ni3S2納米簇-石墨烯復合材料的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
(1)將細菌接種于含Cd無菌培養基中，培養后，固液分離獲得CdS-細菌前驅體；所述含Cd無菌培養基中Cd2+的摩爾濃度為0.2-0.5mM；
(2)將步驟（1）所得CdS-細菌前驅體通過靜電吸附依次負載氧化石墨烯和Ni2+，通過固液分離、干燥、獲得三明治型的CdS-細菌/GO/Ni復合前驅體；
(3)將步驟（2）所得CdS-細菌/GO/Ni復合前驅體，置于保護氣氛中熱解處理，所述熱解處理的溫度為600-800℃，熱解處理的時間為1-3h，升溫速度為2-5℃/min，所得熱解產物即為Ni/Ni3S2納米簇-石墨烯復合材料；所述Ni/Ni3S2納米簇-石墨烯復合材料由石墨烯基體，以及均勻固定在石墨烯基體上的Ni/Ni3S2納米簇組成。
2.根據權利要求1所述的一種Ni/Ni3S2納米簇-石墨烯復合材料的制備方法，其特征在于：所述細菌為保藏編號為CGMCC No.4239的潘多拉菌
3.根據權利要求1所述的一種Ni/Ni3S2納米簇-石墨烯復合材料的制備方法，其特征在于：步驟（1）中，所述細菌的培養條件為接種量2-10%，溫度25-40°C，自然pH條件，培養時間為20-36 h。
4.根據權利要求1所述的一種Ni/Ni3S2納米簇-石墨烯復合材料的制備方法，其特征在于：所述含Cd無菌培養基為以葡萄糖為唯一碳源的無菌培養基，其成分為葡萄糖2 g/L，Cd(NO3)2 0.2-0.5mM，NH4Cl1.5 g/L， MgCl2 0.2g/L，CaCl2 0.01g/L，FeSO4·7H2O 0.015g/L，MnSO4·H2O 0.01g/L；MOPs8.314g/L，Tricine 4 mM，L-cysteine 0.1mM。
5.根據權利要求1所述的一種Ni/Ni3S2納米簇-石墨烯復合材料的制備方法，其特征在于：步驟（2）中，所述靜電吸附的過程為：將CdS-細菌前驅體分散于純水中，獲得分散液，然后于分散液中加入GO溶液，第一次吸附、固液分離，即得CdS-細菌/GO雜化物，再將CdS-細菌/GO雜化物分散于NiCl2溶液中，第二次吸附，固液分離，即得CdS-細菌/GO/Ni復合前驅體。
6.根據權利要求5所述的一種Ni/Ni3S2納米簇-石墨烯復合材料的制備方法，其特征在于：所述分散液中CdS-細菌前驅體的濃度為OD600=1.5-2.5;
所述GO溶液中GO的濃度為0.3-0.5mg/mL，所述GO溶液與分散液的體積比為1:4;
所述NiCl2溶液中，NiCl2的濃度為3-6g/L;
所述CdS-細菌/GO雜化物與NiCl2溶液的固液質量體積比為1-3g：100mL。
7.根據權利要求1-6任意一項所述的一種Ni/Ni3S2納米簇-石墨烯復合材料的制備方法，其特征在于：所述Ni/Ni3S2納米簇的直徑為10nm～100nm。
8.根據權利要求1-6任意一項所述的制備方法所制備的一種Ni/Ni3S2納米簇-石墨烯復合材料的應用，將所述Ni/Ni3S2納米簇-石墨烯復合材料作為OER催化電極材料。
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