[發(fā)明專利]一種扇形噴霧流量場的控制方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010788932.2
• 申請(qǐng)日: 2020-08-07
• 公開（公告）號(hào): CN111905941B
• 公開（公告）日: 2021-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳慧敏;顧達(dá)夫;毛志平;岳曉麗;張慧樂;鐘毅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東華大學(xué)
• 主分類號(hào): B05B1/30
• 分類號(hào): B05B1/30;B05B1/04
• 代理公司: 上海統(tǒng)攝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31303
• 代理人: 杜亞

1.一種扇形噴霧流量場的控制方法，其特征是包括以下步驟：

(1)初始設(shè)置噴嘴在氣液壓力和流量下，噴射液體時(shí)的流量場各參數(shù)如下：

z₀，為射流基本段的起始處至噴口的距離；

z_n，為射流基本段的終止處至噴口的距離；

z＝z₀截面上，流量有效噴射區(qū)域內(nèi)，橢圓長半軸3σ(0,z₀)；

z＝z₀截面上，流量有效噴射區(qū)域內(nèi)，橢圓短半軸

c(0)，方位角θ為0°處，流量場外輪廓沿z軸正方向的斜率；

z＝z₀截面上，過截面中心O_z0處的流量強(qiáng)度值h(z₀)；

k，射流中心軸流量強(qiáng)度沿z軸的抗衰減系數(shù)；

(2)計(jì)算噴霧流量場分布：在射流基本段，空間流量強(qiáng)度分布函數(shù)，如下：

其中，Q(r,θ,z)為流量場基本段內(nèi)任意一點(diǎn)的空間流量強(qiáng)度分布函數(shù)；r為截面上任意一點(diǎn)至截面幾何中心的距離；

(3)比較空間流量強(qiáng)度分布與期望的流量強(qiáng)度的差異：

射流基本段內(nèi)，將流量有效噴射區(qū)域劃分為n個(gè)小方體；計(jì)算所有小方體中心位置處的流量強(qiáng)度大小Q_c(r,θ,z)，其組成的集合記作Q_c，即：Q_c＝{Q_c(r₁,θ₁,z₁),Q_c(r₂,θ₂,z₂),...,Q_c(r_n,θ_n,z_n)}；設(shè)所有小方體中心位置處的期望流量強(qiáng)度大小為Q_t(r,θ,z)，其組成的集合記作Q_t，即：Q_t＝{Q_t(r₁,θ₁,z₁),Q_t(r₂,θ₂,z₂),...,Q_t(r_n,θ_n,z_n)}；

若流量強(qiáng)度Q_c與Q_t滿足：

n為小方體數(shù)量；

則完成扇形噴霧流量場的控制；否則，對(duì)空間流量強(qiáng)度分布進(jìn)行調(diào)整，直至完成扇形噴霧流量場的控制；

所述對(duì)空間流量強(qiáng)度分布進(jìn)行調(diào)整是指：

(1)更換噴嘴，具體為：

(1.1)當(dāng)期望流量場為圓形時(shí)，選擇圓形噴嘴；當(dāng)期望流量場為橢圓形時(shí)，選擇扇形噴嘴；

(1.2)對(duì)圓形噴嘴或者扇形噴嘴進(jìn)行調(diào)整，直至射流基本段內(nèi)，在z＝z_x截面上，流量有效噴射區(qū)域內(nèi)，空間流量強(qiáng)度分布的流量場長、短半軸的比例為與期望流量場長、短半軸的比例為滿足：

其中，a_c表示空間流量強(qiáng)度分布的流量場長半軸，b_c表示空間流量強(qiáng)度分布的流量場短半軸，a_t表示期望流量場的長半軸，b_t表示期望流量場的短半軸；

(2)旋轉(zhuǎn)噴嘴繞x、y、z軸的轉(zhuǎn)動(dòng)角度，即繞旋轉(zhuǎn)軸調(diào)節(jié)的順序依次為z→y→x，直至射流基本段內(nèi)，流量有效噴射區(qū)域內(nèi)，空間流量強(qiáng)度分布的流量場與期望流量場方向相同；

(3)增大或者減小噴嘴入口的氣液壓力和流量，直至空間流量強(qiáng)度分布與期望的流量強(qiáng)度分布差異滿足要求。