[發明專利]一種新型沉淀池在審
| 申請號: | 202010781546.0 | 申請日: | 2020-08-06 |
| 公開(公告)號: | CN111825186A | 公開(公告)日: | 2020-10-27 |
| 發明(設計)人: | 程戰明;袁世倫;徐剛;陳金平;劉守安;聶進學;劉文龍;馮興蒙;鄭順喜 | 申請(專利權)人: | 銅陵有色金屬集團股份有限公司 |
| 主分類號: | C02F1/52 | 分類號: | C02F1/52;C02F103/10 |
| 代理公司: | 銅陵市天成專利事務所(普通合伙) 34105 | 代理人: | 范智強 |
| 地址: | 24400*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 新型 沉淀 | ||
本發明涉及污水處理相關設備領域,具體涉及一種新型沉淀池,包括沉淀池本體、第一電機支架、第二電機支架和密封軸承,所述沉淀池本體頂端從左向右依次開設有緩流槽、混凝腔、絮凝腔、沉淀腔和儲水腔,所述緩流槽右端底部設置有緩流擋板,所述混凝腔右端上部固定連接有混凝隔板,所述絮凝腔右端底部設置有絮凝隔板,所述沉淀腔右端底部設置有沉淀隔板,所述沉淀腔右側上端設置有架空板,所述架空板頂端固定連接有左穩流板,所述左穩流板頂端中部與混凝隔板頂端架設固定有安裝座,本發明提供了一種能夠很好的將礦山污水中的部分粗顆粒和一些細顆粒的尾砂及時沉淀下來從而緩解水倉清理壓力以及降低水泵磨損程度的新型沉淀池。
技術領域
本發明涉及污水處理相關設備領域,具體涉及一種新型沉淀池。
背景技術
沉淀池是應用沉淀作用去除水中懸浮物的一種構筑物,凈化水質的設備。利用水的自然沉淀或混凝沉淀的作用來除去水中的懸浮物。
現有技術中礦山污水在進行處理的時候,往往沒有辦法很好的將部分粗顆粒和一些細顆粒的尾砂及時的沉淀下來,不能夠很好的緩解水倉的清理壓力以及降低水泵的磨損程度。
針對上述問題,本發明設計了一種新型沉淀池。
發明內容
針對現有技術的不足,本發明提供了一種新型沉淀池。盡最大可能解決上述問題,從而提供了一種能夠很好的將礦山污水中的部分粗顆粒和一些細顆粒的尾砂及時沉淀下來從而緩解水倉清理壓力以及降低水泵磨損程度的新型沉淀池。
本發明通過以下技術方案予以實現:
一種新型沉淀池,包括沉淀池本體、第一電機支架、第二電機支架和密封軸承,所述沉淀池本體頂端從左向右依次開設有緩流槽、混凝腔、絮凝腔、沉淀腔和儲水腔,所述緩流槽右端底部設置有緩流擋板,所述混凝腔右端上部固定連接有混凝隔板,所述絮凝腔右端底部設置有絮凝隔板,所述沉淀腔右端底部設置有沉淀隔板,所述沉淀腔右側上端設置有架空板,所述架空板頂端固定連接有左穩流板,所述左穩流板頂端中部與混凝隔板頂端架設固定有安裝座,所述安裝座左端固定連接有前后兩端固定連接在混凝腔左側頂端的混凝劑噴射板,所述安裝座左端通過第一電機支架固定安裝有第一電機,所述第一電機底部輸出端固定連接有第一攪拌軸,所述第一攪拌軸底端固定安裝有第一攪拌葉,所述第一攪拌葉設置在混凝腔中,所述絮凝腔中部前后對稱設置有兩渦流罩支板,兩對稱設置的渦流罩支板內側端分別固定連接有渦流罩前后兩側,前端的渦流罩支板頂端設置有絮凝劑噴射管,所述安裝座中部通過第二電機支架固定安裝有第二電機,所述第二電機底部輸出端固定安裝有第二攪拌軸,所述第二攪拌軸底端固定安裝有第二攪拌葉,所述第二攪拌葉設置在渦流罩內部,所述沉淀腔底端設有錐形的刮泥槽,所述刮泥槽底端設有電機安裝槽,所述電機安裝槽內嵌入固定安裝有第三電機,所述第三電機頂部輸出端固定連接有第三攪拌軸,所述第三攪拌軸上端固定安裝有若干組均勻分布的刮泥板,所述電機安裝槽頂端設有連接孔,所述第三攪拌軸通過密封軸承固定安裝在連接孔上端,所述沉淀隔板上端左側與架空板右側之間固定安裝有過濾隔板,所述過濾隔板上均勻設有若干組過濾孔,所述沉淀隔板頂端固定連接有右穩流板,所述右穩流板下端設有出水孔,所述沉淀池本體右端外壁上部固定安裝有PLC控制器。
優選的,所述緩流槽為從左向右向下傾斜7°角,且所述緩流槽右端為由下至上連接緩流擋板左側頂端的弧形過渡側壁。
優選的,所述混凝劑噴射板內側中部設有分流腔,所述分流腔底端均勻設有若干組分流孔,所述分流腔中部連通有混凝劑噴射管。
優選的,前端的渦流罩支板內部設有絮凝劑連通孔,所述渦流罩前端內側設有絮凝劑噴出孔,所述絮凝劑連通孔底端連通絮凝劑噴出孔。
優選的,所述刮泥槽底端均勻設有若干組落泥孔,若干組落泥孔底端均連通有環形集合槽,所述環形集合槽右端連通有排泥孔,所述排泥孔右端連通有污泥泵輸入端,所述污泥泵固定安裝在沉淀池本體右端下部,所述污泥泵電性連接有電源。
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