[發明專利]一種SHJ電池生產中不良返工方法有效
| 申請號: | 202010775191.4 | 申請日: | 2020-08-03 |
| 公開(公告)號: | CN111900232B | 公開(公告)日: | 2022-06-17 |
| 發明(設計)人: | 孫林;孟凡英;杜俊霖;劉正新;陳功兵;何堂貴 | 申請(專利權)人: | 中威新能源(成都)有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/0747 |
| 代理公司: | 華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 周孝湖 |
| 地址: | 610000 四川省*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 shj 電池 生產 不良 返工 方法 | ||
本發明公開一種SHJ電池生產中不良返工方法,包括以下步驟:S1.將收集的不良電池片放入專門返工片清洗機,清洗掉硅片表面的薄膜:S1.1酸洗:用酸洗液對不良電池片清洗,所述酸洗液為鹽酸溶液,或者鹽酸溶液與氫氟酸溶液的混合液;S1.2漂洗:用純水對經酸洗后的硅片進行漂洗,洗去硅片表面殘留的酸洗洗液;S1.3 SC1液洗:用SC1液將S1.2所得硅片洗;S1.4漂洗:用純水洗進行漂洗;S1.5烘干:在90℃進行烘干;S2.將經S1所得的硅片,進行重新制絨,制絨時,制絨輔助劑為正常制絨的用量的1?2倍。本發明將不良電池片經過返工處理,返工后A級率95%,且所得電池片效率與正常相當,不良返工可實現規模化生產,提升整個生產的A級率。
技術領域
本發明涉及太陽能電池領域,具體涉及一種SHJ電池生產中不良返工方法。
背景技術
SHJ(Silicon Herterojunction)硅異質結電池,又被稱作HIT(Heterojunctionwith intrinsic thin layer)電池,該電池具有高效率、高Voc等特點,該電池一般以N型硅片為基底,對硅基底界面要求特別嚴格(對比臟污殘留敏感),一般制程工序為:制絨、非晶硅、TCO、絲網測試。現目前,SHJ規模化生產中,實際產生中經常會出現的外觀或者電性能表征不良的電池片,但是這些不良還未有完備可行的返工工藝,或是不良直接下流造成最終電池片降級或是效率低,或是返工后達不到清潔的表面狀況(還是存在明顯外觀不良),或是返工后效率較之前差(效率較正常生產片效率低)等問題。
發明內容
為了解決上述問題,本發明提供一種SHJ電池生產中不良返工方法。
為了實現上述目的,本發明采用如下技術方案:
一種SHJ電池生產中不良返工方法,包括以下步驟:
S1.將收集的不良電池片放入專門返工片清洗機,清洗掉硅片表面的薄膜:
S1.1酸洗:用酸洗液對不良電池片清洗,所述酸洗液為鹽酸溶液,或者鹽酸溶液與氫氟酸溶液的混合液;
S1.2漂洗:用純水對經酸洗后的硅片進行漂洗,洗去硅片表面殘留的酸洗洗液;
S1.3 SC1液洗:用SC1液洗S1.2所得硅片;
S1.4漂洗:用純水洗進行漂洗;
S1.5烘干:將所得硅片烘干;
S2.將經S1所得的硅片,進行重新制絨,制絨時,制絨輔助劑為正常制絨的用量的1-2倍。
進一步的,S1.1酸洗液中,當酸洗液為鹽酸溶液與氫氟酸溶液的混合液時,氫氟酸溶液的體積不超過90%,其中鹽酸溶液中的HCl的質量濃度為36-38%,氫氟酸溶液中的HF的質量濃度為45-50%。
進一步的,S1中,酸洗時間為7200s,漂洗時間為150s,SC1液洗時間為300s,烘干時間為600s。
進一步的,S1.1中,酸洗液中,鹽酸溶液與氫氟酸溶液的體積比為99:1。
進一步的,S1.3中,
S1.3中,SC1液中,雙氧水的體積占1-50%,堿溶液的體積占0.1-5%,余量為水,其中,雙氧水中H2O2的質量濃度為28-35%,堿溶液中堿的質量濃度為42-48%。
進一步的,S2包括以下步驟:
S2.1預清洗:使用預清洗液對S1所得硅片進行清洗,所述預清洗液為氫氟酸溶液,或者氫氟酸與臭氧的混合溶液,或者氫氟酸與鹽酸混合溶液;再用純水清洗;
S2.2 SC1液清洗:用SC1液處理后,再用純水清洗;
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H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





