[發(fā)明專利]一種雙斷口快速真空滅弧室

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010773560.6
• 申請日: 2020-08-04
• 公開（公告）號: CN111952111B
• 公開（公告）日: 2022-08-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鄭文武;李海國;郭樹山
• 申請（專利權(quán)）人: 山東正本電氣有限公司
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664;H01H33/666;H01H33/662
• 代理公司: 濟南舜源專利事務(wù)所有限公司 37205
• 代理人: 楊彬

1.一種雙斷口快速真空滅弧室，其特征在于，包括上殼體（2）、下殼體（7）、進線導桿（1）、出線靜觸頭座（6）和導向裝置，所述出線靜觸頭座（6）固定安裝于上殼體（2）與下殼體（7）之間，其內(nèi)側(cè)固定連接有出線靜觸頭基體（61），所述出線靜觸頭基體（61）上開設(shè)有出線凹槽（62）；所述進線導桿（1）貫穿所述上殼體（2），且與上殼體（2）固定連接，所述進線導桿（1）的內(nèi)端連接有進線靜觸頭座（4）；所述進線靜觸頭座（4）與出線靜觸頭基體（61）間隔設(shè)置，且進線靜觸頭座（4）上開設(shè)有進線凹槽（41）；所述導向裝置滑動安裝在下殼體（7）上，且靠近所述進線導桿（1）的一端設(shè)有與所述進線凹槽（41）和出線凹槽（62）契合的輔助觸頭（8），所述導向裝置帶動輔助觸頭（8）移動，對出線靜觸頭基體（61）與進線靜觸頭座（4）連通或斷開；所述出線靜觸頭座（6）呈環(huán)形結(jié)構(gòu)，所述靜觸頭基體（61）至少設(shè)置為兩個，且間隔均勻的分布于所述出線靜觸頭座（6）的環(huán)形內(nèi)壁上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙斷口快速真空滅弧室，其特征在于，所述進線凹槽（41）和出線凹槽（62）均呈V型的圓周槽，且兩者在同一平面的圓周上；所述輔助觸頭（8）呈與所述圓周槽契合的環(huán)形結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的雙斷口快速真空滅弧室，其特征在于，所述圓周槽的開口為直角形狀，所述輔助觸頭（8）呈與所述圓周槽契合的直角折彎板狀結(jié)構(gòu)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙斷口快速真空滅弧室，其特征在于，所述進線靜觸頭座（4）通過定位銷（3）與所述上殼體（2）固定連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙斷口快速真空滅弧室，其特征在于，所述進線凹槽（41）和出線凹槽（62）表面均覆有觸頭層（5）。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的雙斷口快速真空滅弧室，其特征在于，所述導向裝置包括依次固定連接的輔助觸頭基體（9）、輔助托架（10）和動導桿（13），所述輔助托架（10）為陶瓷絕緣材質(zhì)，所述輔助觸頭（8）覆于所述輔助觸頭基體（9）表面，所述動導桿（13）貫穿所述下殼體（7），并通過下殼體（7）導向滑動。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的雙斷口快速真空滅弧室，其特征在于，所述下殼體（7）上固定安裝有導向套（12），所述動導桿（13）滑動貫穿所述導向套（12）。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的雙斷口快速真空滅弧室，其特征在于，所述導向套（12）內(nèi)側(cè)設(shè)有沿所述動導桿（13）軸向方向的導向條，所述動導桿（13）上設(shè)有與所述導向條匹配的滑槽。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的雙斷口快速真空滅弧室，其特征在于，所述動導桿（13）上套設(shè)有波紋管（11），所述波紋管（11）一端與下殼體（7）固定連接，另一端與動導桿（13）靠近輔助托架（10）的一端固定連接。