[發明專利]基板處理設備

在審

• 申請號: 202010765294.2
• 申請日: 2020-08-03
• 公開（公告）號: CN112447478A
• 公開（公告）日: 2021-03-05
• 發明（設計）人: 李昌敏;鄭元基
• 申請（專利權）人: ASMIP私人控股有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 焦玉恒

1.一種基板處理設備，包括：

基板支撐單元；

基板支撐單元上的處理單元；

排氣單元，其連接到基板支撐單元與處理單元之間的反應空間；

排氣端口，其連接到排氣單元的至少一部分；以及

流動控制單元，其設置在從排氣單元內部的空間到排氣端口的排氣通道中。

2.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中，

所述流動控制單元鄰近排氣端口。

3.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中，

所述排氣單元延伸以形成圍繞反應空間的排氣空間，并且

所述排氣端口設置成與一部分排氣空間連通。

4.根據權利要求3所述的基板處理設備，其中，

所述流動控制單元配置成防止排氣空間中的氣流在排氣端口處集中。

5.根據權利要求1所述的基板處理設備，還包括：

支撐件，其配置為支撐所述處理單元和排氣單元；以及

支撐件上的引導單元，

其中，所述流動控制單元配置成可在引導單元上移動。

6.根據權利要求5所述的基板處理設備，其中，

所述支撐件和引導單元實施為整體結構。

7.根據權利要求5所述的基板處理設備，其中，

所述流動控制單元和引導單元中的至少一個包括用于防止流動控制單元和引導單元之間分離的凹槽或凹部。

8.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中，

所述排氣單元還包括：

限定反應空間的側部的邊界壁；

平行于分隔壁的外壁；以及

連接壁，其延伸以將邊界壁連接至外壁，

其中，所述連接壁在排氣單元和處理單元之間提供接觸表面。

9.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中，

所述流動控制單元包括至少一個通孔，并且

所述通孔的至少一部分朝向排氣端口延伸。

10.根據權利要求9所述的基板處理設備，其中，

所述通孔以雙層布置。

11.根據權利要求9所述的基板處理設備，其中，

所述流動控制單元包括面對排氣端口的第一表面和不同于第一表面的第二表面，并且

所述通孔延伸穿過所述第一表面和第二表面。

12.根據權利要求9所述的基板處理設備，其中，

所述通孔的第一部分的橫截面積與所述通孔的第二部分的橫截面積不同。

13.根據權利要求1所述的基板處理設備，

還包括：力施加單元，其配置為產生用于使流動控制單元移動的力。

14.根據權利要求13所述的基板處理設備，

還包括：接收單元，用于接收所述力施加單元；以及

在所述力施加單元和接收單元之間的滾動單元。

15.根據權利要求13所述的基板處理設備，其中，

用于移動所述流動控制單元的力是磁力，并且

所述力施加單元包括磁力施加單元。

16.根據權利要求15所述的基板處理設備，其中，

所述磁力施加單元包括電磁體，并且

所述基板處理設備還包括配置為控制電磁體的控制器。

17.根據權利要求16所述的基板處理設備，

所述控制器配置為在基板處理設備的維護操作期間向電磁體供應電流，并且在基板處理設備的處理操作期間停止向電磁體供應電流。