[發明專利]套刻偏差值的修正方法、電子設備及計算機可讀存儲介質

有效

• 申請號: 202010746691.5
• 申請日: 2020-07-29
• 公開（公告）號: CN112015056B
• 公開（公告）日: 2023-01-03
• 發明（設計）人: 張利斌;韋亞一;馮耀斌;陸聰
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所;長江存儲科技有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G06F17/10
• 代理公司: 北京辰權知識產權代理有限公司 11619
• 代理人: 劉廣達

1.一種套刻偏差值的修正方法，其特征在于，包括：

提供一包含多個曝光區域的晶圓；所述曝光區域內包含有若干套刻標識；

選擇若干曝光區域，從所選擇的所有曝光區域中確定若干待測套刻標識；

對每一所述待測套刻標識的圖像進行若干次計算，獲得所述圖像的若干套刻偏差測量值；

分別計算每一所述圖像的所有套刻偏差測量值的平均值和標準差，分別以所述平均值和所述標準差作為對應圖像的套刻偏差值和測量誤差值；

根據各所述圖像的測量誤差值的大小，為各所述測量誤差值設置與其呈負相關的權重；

利用各所述測量誤差值和設置的權重對各所述套刻偏差值進行加權賦值修正。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述對每一所述待測套刻標識的圖像進行若干次計算之前，所述方法還包括：

獲取每一所述曝光區域內的各套刻標識的圖像。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述對每一所述待測套刻標識的圖像進行若干次計算，獲得所述圖像的若干套刻偏差測量值中，對所述圖像進行一次計算獲得一個套刻偏差測量值，包括：

確定所述圖像的中心位置；

在所述圖像上確定關于所述中心位置呈中心對稱的套刻測量方框組；所述套刻測量方框組包括若干測量方框；

獲取各所述測量方框內的像素灰度曲線；

獲取對應于各所述像素灰度曲線的套刻偏差測量值。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述確定所述圖像的中心位置，包括：采用像素灰度均衡方法或圖像邊緣分割方法確定所述圖像的中心位置。

5.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述套刻測量方框組包括各測量方框完全相同；所述測量方框的尺寸小于所述套刻標識的尺寸。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據各所述圖像的測量誤差值的大小，為各所述測量誤差值設置與其呈負相關的權重，包括：

當測量誤差值小于或等于第一閾值時，所述測量誤差值的權重為1；

當測量誤差值小于或等于第二閾值并且大于所述第一閾值時，該測量誤差值的權重為1/(測量誤差值-第一閾值)；

當測量誤差值大于所述第二閾值時，所述測量誤差值的權重為0；其中，第一閾值小于第二閾值。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對各所述套刻偏差值進行加權賦值修正，包括：

采用加權最小二乘法對各所述套刻偏差值進行加權賦值修正。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述權重的取值區間為[0,1]。

9.一種電子設備，其特征在于，包括存儲器、處理器及存儲在所述存儲器上并可在所述處理器上運行的計算機程序，所述處理器執行所述程序，以實現如權利要求1-8中任一所述的套刻偏差值的修正方法。

10.一種計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機程序，其特征在于，該程序被處理器執行，以實現如權利要求1-8中任一所述的套刻偏差值的修正方法。