[發(fā)明專利]一種在氧化焰氣氛下低溫制備青瓷釉料的方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202010745195.8
• 申請日: 2020-07-29
• 公開（公告）號: CN111807703A
• 公開（公告）日: 2020-10-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐曉虹;陳元彪;吳建鋒;劉星;鄒臘年
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢理工大學;紹興市上虞區(qū)理工高等研究院
• 主分類號: C03C8/16
• 分類號: C03C8/16;C04B41/86
• 代理公司: 武漢科皓知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 42222
• 代理人: 吳艷姣

一種在氧化焰氣氛下低溫制備青瓷釉料的方法，所述青瓷釉料的制備步驟包括原料處理、釉漿制備、施釉和燒成，所述原料及其配比為：透明熔塊90～92wt％、蘇州土8～10wt％，原料中加入添加劑及其配比為：羧甲基纖維素鈉0.2～0.4wt％、多聚磷酸鈉0.2～0.4wt％、氧化鉻0.1～0.3wt％；所述燒成溫度為1080～1120℃，燒成氣氛為空氣氣氛。本發(fā)明制備的青瓷釉料能耗低。與傳統(tǒng)的青瓷釉料采用多種礦物原料相比，本發(fā)明的青瓷釉在1080～1120℃下即可燒成，可降低青瓷釉燒成過程中的能耗；青瓷釉料在氧化焰氣氛下燒成，燒成制度穩(wěn)定可控，操作簡單，而且得到的釉料呈色穩(wěn)定，易于生產(chǎn)控制。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種陶瓷制備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種在氧化焰氣氛下低溫制備青瓷釉料的方法。

背景技術(shù)

青瓷被譽為“瓷器之母”，歷史悠久，文化底蘊深厚，一直是中國制瓷業(yè)的主要品種。作為我國物質(zhì)文化與精神文化體現(xiàn)之一的青瓷以其特殊的美質(zhì)和魅力、獨特的形式語言，創(chuàng)造了令世人驚嘆的審美意蘊。

青瓷釉料主要采用長石、石英、滑石、高嶺土等礦物原料以及氧化鐵或氧化鉻作為發(fā)色劑在還原焰氣氛(不完全燃燒，一氧化碳較多)下制備而成。如中國發(fā)明專利《一種耀州窯天青釉的仿制工藝方法》(CN 103819224 A)公開了一種以鉀長石、石英、粘土、方解石、蘇州土和滑石為礦物原料，氧化鐵為發(fā)色劑制備天青釉的方法，該方法制備的天青釉的燒成溫度為1250～1300℃，燒成氣氛為還原焰；中國發(fā)明專利《粉青釉料及其產(chǎn)品的制作方法》(CN 101768017 B)公開了一種以釉果、長石、石英、滑石為礦物原料，氧化鉻為發(fā)色劑在還原焰氣氛下經(jīng)1280～1310℃制備粉青釉的方法。綜上所述，雖然制備出的青瓷釉呈色好，但其原料為多種礦化原料復(fù)配而成，不利于質(zhì)量控制；另外，青瓷制品的燒成溫度均較高，且需要在還原焰氣氛下燒成，能耗高，青釉釉面呈色效果也不穩(wěn)定。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述問題，本發(fā)明提出在氧化焰氣氛下低溫制備青瓷釉料的方法，具體技術(shù)方案為：

一種在氧化焰氣氛下低溫制備青瓷釉料的方法，所述青瓷釉料的制備步驟包括原料處理、釉漿制備、施釉和燒成，所述原料及其配比為：透明熔塊90～92wt％、蘇州土8～10wt％，原料中加入添加劑及其配比為：羧甲基纖維素鈉0.2～0.4wt％、多聚磷酸鈉0.2～0.4wt％、氧化鉻0.1～0.3wt％；所述燒成溫度為1080～1120℃，燒成氣氛為空氣氣氛。

進一步地，在原料處理步驟中，將所述原料球磨至一定粒徑范圍，其中，所述透明熔塊的粒徑范圍為100～200目，蘇州土的粒徑范圍為100～250目。

進一步地，所述原料采用干法球磨，所使用的球磨機轉(zhuǎn)速為700～900r/min，球磨子為剛玉陶瓷球磨子，原料、球磨子的質(zhì)量比為0.4～0.6。

進一步地，在釉漿制備步驟中，按配比加入所述原料、添加劑，并混合均勻后加入一定質(zhì)量的水，攪拌3～4h得到釉漿。

進一步地，所述水的添加量為原料總質(zhì)量的35～45wt％。

進一步地，在施釉步驟中，將釉漿均勻施于素燒過的陶瓷坯體上，釉層厚度控制在0.5～0.8mm范圍內(nèi)。

進一步地，在燒成步驟中，所述燒成制度為：1000℃以下升溫速率為5～10℃/min，每隔100℃保溫20～30min，1000℃以上升溫速率為3～5℃/min，每隔100℃保溫30～60min，最高燒成溫度保溫30min。

有益效果：

(1)本發(fā)明制備的青瓷釉料能耗低。與傳統(tǒng)的青瓷釉料采用多種礦物原料相比，本發(fā)明采用熔點較低的透明熔塊為主要原料，使青瓷釉在1080～1120℃下即可燒成，比傳統(tǒng)制備青瓷的燒成溫度低了190～230℃，可降低青瓷釉燒成過程中的能耗。