[發(fā)明專利]一種用于修復上頜竇黏膜穿孔的封閉裝置

在審

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• 申請日: 2020-07-29
• 公開（公告）號: CN112294468A
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發(fā)明（設計）人: 鄒多宏;徐光宙;胡穎愷;楊馳
• 申請（專利權）人: 上海交通大學醫(yī)學院附屬第九人民醫(yī)院
• 主分類號: A61C8/00
• 分類號: A61C8/00
• 代理公司: 上海翼勝專利商標事務所(普通合伙) 31218
• 代理人: 翟羽

本發(fā)明提供了一種用于修復上頜竇黏膜穿孔的封閉裝置，所述封閉裝置呈上端開口的袋狀結構，由一面為粗糙面、另一面為光滑面的可吸收生物膠原膜構成，所述封閉裝置包括袋口和袋體，所述袋口為縫合部，所述袋體內壁為粗糙面，所述袋體外壁為光滑面。本發(fā)明提供的用于修復上頜竇黏膜穿孔的封閉裝置可以嚴密封閉上頜竇黏膜任何直徑的穿孔，防止骨粉外漏于上頜竇腔內，利于植入材料的穩(wěn)定，實現一次性完成上頜竇外提升術，無需等待黏膜愈合后二次手術，縮短治療療程，減少患者痛苦和經濟負擔。

技術領域

本發(fā)明涉及醫(yī)療器械技術領域，尤其涉及一種用于修復上頜竇黏膜穿孔的封閉裝置。

背景技術

隨著牙種植技術的日益成熟，利用牙種植體進行口腔功能重建已成為常規(guī)治療方案。上頜竇與上頜磨牙區(qū)相鄰，由于解剖結構因素、牙槽骨生理性吸收、炎癥、上頜竇氣化等原因，常導致上頜磨牙區(qū)垂直骨量不足，給上頜磨牙種植帶來不小的挑戰(zhàn)。上頜竇外提升術是解決牙槽嵴萎縮嚴重、上頜后牙區(qū)垂直骨量不足最有效的治療方法，多用于上頜后份牙槽骨高度小于5mm的病例。在上頜竇外提升過程中，上頜竇黏膜穿孔是比較嚴重且常見的并發(fā)癥，文獻報道其平均發(fā)生率為19.5％(3.6％～58.3％)，主要原因包括上頜竇內炎癥、吸煙性上頜竇粘膜變薄、竇底存在骨間隔、剩余骨高度不足、囊腫以及操作不當等。處理上頜竇黏膜穿孔，關鍵在于嚴密封閉穿孔的上頜竇，使骨粉可以穩(wěn)定保持在植骨區(qū)，而不會外漏于上頜竇腔內，否則會造成上頜竇炎癥及植骨失敗。當穿孔較小時，上頜竇黏膜抬起后可自然接觸在一起，用Bio-Gide膠原膜覆蓋穿孔，再植入骨粉即可。當穿孔較大時，現有的生物膜無法保證嚴密覆蓋穿孔，因此會放棄手術，至少等待2～3月后再行治療。這樣不僅加長治療周期、增加手術次數加重病人痛苦和經濟負擔，而且第二次手術時可能會因瘢痕形成而使黏膜更難剝離，再一次造成穿孔。

2015年，我國60歲以上的人口就已經超過了2.22億人，預計在2020年，老年人口將會突破2.5億人，上頜竇氣化(發(fā)生率可高達83.2％)和牙缺失導致的牙槽骨吸收使許多老年人上頜后牙區(qū)骨量不足，需要行上頜竇外提升術；另外，上頜竇黏膜穿孔發(fā)生率為20％左右，因此亟需提供一種新型的封閉裝置，可以嚴密封閉上頜竇黏膜任何直徑的穿孔，防止骨粉外漏于上頜竇腔內。

(Geistlich,Switzerland)膠原蛋白膜是目前臨床上應用最廣泛的可吸收生物膠原膜，以豬真皮Ⅰ型、Ⅲ型膠原加工形成，生物相容性好且具有雙層結構，一層纖維排列致密，具有良好的阻隔作用；一層具有較多的孔隙，有利于成骨相關細胞與膜的黏附。但其均為平面膜狀結構，有13×25mm，25×25mm，30×40mm三種型號，在修補上頜竇黏膜的大穿孔時難以操作。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的在于，提供一種可以嚴密封閉上頜竇黏膜任何直徑的穿孔，防止骨粉外漏于上頜竇腔內，一次性完成上頜竇外提升術的用于修復上頜竇黏膜穿孔的封閉裝置。

為了實現上述目的，本發(fā)明提供了一種用于修復上頜竇黏膜穿孔的封閉裝置，其特征在于，所述封閉裝置呈上端開口的袋狀結構，由一面為粗糙面、另一面為光滑面的可吸收生物膠原膜構成，所述封閉裝置包括袋口和袋體，所述袋口為縫合部，所述袋體內壁為粗糙面，所述袋體外壁為光滑面。

作為一個優(yōu)選方案，所述袋口加厚。

作為一個優(yōu)選方案，所述可吸收生物膠原膜為Bio-Gide膜。

作為一個優(yōu)選方案，所述封閉裝置容積分別為3cm³—5cm³。

作為一個優(yōu)選方案，所述袋體內放置骨粉。

作為一個優(yōu)選方案，所述袋口設置收緊裝置。

本發(fā)明的優(yōu)點在于，本發(fā)明提供的用于修復上頜竇黏膜穿孔的封閉裝置可以嚴密封閉上頜竇黏膜任何直徑的穿孔，防止骨粉外漏于上頜竇腔內，利于植入材料的穩(wěn)定，實現一次性完成上頜竇外提升術，無需等待黏膜愈合后二次手術，縮短治療療程，減少患者痛苦和經濟負擔。