[發明專利]一種高分辨大掃描場系統的二階像差補償方法有效
| 申請號: | 202010719387.1 | 申請日: | 2020-07-23 |
| 公開(公告)號: | CN112098438B | 公開(公告)日: | 2021-11-19 |
| 發明(設計)人: | 康永鋒;常飛浩;胡航鋒;趙靜宜 | 申請(專利權)人: | 西安交通大學 |
| 主分類號: | G01N23/00 | 分類號: | G01N23/00;H01L21/66 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人: | 陳翠蘭 |
| 地址: | 710049 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 分辨 掃描 系統 二階像差 補償 方法 | ||
1.一種高分辨大掃描場系統的二階像差補償方法,其特征在于,在電子束檢測和成像系統中,分析因偏轉系統帶來的二階像差,進而利用多極靜電偏轉器,引入四極場以補償電子束檢測和成像系統因偏轉系統帶來的二階像差;
其中,在電子束檢測和成像設備中,分析因偏轉系統帶來的二階像差,具體為:當電子束檢測或成像系統有偏轉系統的存在時,此時沿著光軸附近將場函數做級數展開分析系統電子光學特性,即能夠分析因偏轉系統帶來的二階像差;
利用多極靜電偏轉器,引入四極場以補償電子束檢測和成像系統因偏轉系統帶來的二階像差,具體為:通過給多極靜電偏轉器的圓弧電極施加電壓信號激勵,讓多極靜電偏轉器產生所需的四極場,疊加在多極靜電偏轉器上,控制調節加入四極場的方位角和激勵強度,從而達到補償電子束檢測和成像系統因偏轉系統帶來的二階像差。
2.根據權利要求1所述的一種高分辨大掃描場系統的二階像差補償方法,其特征在于,所述多極靜電偏轉器為八極靜電偏轉器、十二極靜電偏轉器或二十極靜電偏轉器。
3.根據權利要求2所述的一種高分辨大掃描場系統的二階像差補償方法,其特征在于,當多極靜電偏轉器采用八極靜電偏轉器時,將八極靜電偏轉器的八個圓弧電極按照四極透鏡的結構分布分成四個單元,每個單元包括兩個圓弧電極,對這兩個圓弧電極施加同一激勵信號,通過給圓弧電極施加激勵信號,即得到四極透鏡所需的四極場,最終利用有限元軟件對四極場進行計算并導出;
對于計算的四極場有限元結果,先將導出的四極場疊加在八極靜電偏轉器上,放入整個電子束檢測和成像系統中,使八極靜電偏轉器同時有二極場和四極場,計算八極靜電偏轉器在電子束檢測和成像系統中的光學特性。
4.根據權利要求3所述的一種高分辨大掃描場系統的二階像差補償方法,其特征在于,分別給定靜電八極偏轉器兩個四極場的單位激勵,計算觀察加入四極場在電子束成像或檢測系統的光學特性,根據加入四極場對電子束成像或檢測系統的變化,再調整相應的四極場激勵,將計算所得的二階像差值和沒有補償前的電子束成像或檢測系統的二階像差值比較,以達到減小或校正二階像差的結果。
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