[發(fā)明專利]一種便于對(duì)齊的掃描式大面陣的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010697853.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-07-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111965779B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-06-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊磊;陳卉;謝洪波;王茂宇;楊童 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 天津大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G02B7/02 | 分類號(hào): | G02B7/02;G02B3/00 |
| 代理公司: | 天津市三利專利商標(biāo)代理有限公司 12107 | 代理人: | 張義 |
| 地址: | 300072*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 便于 對(duì)齊 掃描 大面 透鏡 陣列 結(jié)構(gòu) | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種便于對(duì)齊的掃描式大面陣的微透鏡陣列結(jié)構(gòu),包括第一保護(hù)工裝、第二保護(hù)工裝、第一微透鏡陣列、第二微透鏡陣列、二維微位移臺(tái)、高精度墊片和校正工裝;所述第一保護(hù)工裝和第二保護(hù)工裝分別與第一微透鏡陣列和微透鏡陣列進(jìn)行粘合,保護(hù)兩片微透鏡陣列;所述校正工裝用于調(diào)整第二微透鏡陣列相對(duì)位置,其通過(guò)固定在二維微位移臺(tái)上,用于實(shí)現(xiàn)兩片微透鏡陣列的高精度對(duì)齊。本發(fā)明提供的掃描式大面陣微透鏡陣的對(duì)齊方法,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作方便,能夠?qū)崿F(xiàn)兩片微透鏡陣列微米量級(jí)的高精度對(duì)齊,具有體積小、裝置簡(jiǎn)單、加工精度要求低等特點(diǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光學(xué)技術(shù)技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種便于對(duì)齊的掃描式大面陣的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
微透鏡陣列是光學(xué)元器件微型化、陣列化、集成化的重要代表之一,一般由多個(gè)口徑較小、特定形狀的微透鏡按一定的規(guī)律排列組成。當(dāng)前,微透鏡陣列在成像光學(xué)、光束整形、光數(shù)據(jù)傳輸、光束掃描、高靈敏度傳感等領(lǐng)域均體現(xiàn)出了獨(dú)特的應(yīng)用價(jià)值。
微透鏡陣列可用于掃描式成像光學(xué)系統(tǒng),以解決傳統(tǒng)成像光學(xué)系統(tǒng)高分辨率與大視場(chǎng)之間的固有矛盾,具有掃描精度高、頻率快、結(jié)構(gòu)緊湊等優(yōu)點(diǎn)。掃描式微透鏡陣列通常由兩塊完全相同的微透鏡陣列和一個(gè)二維微位移驅(qū)動(dòng)器組成,具有層疊式的結(jié)構(gòu)。一般來(lái)說(shuō),微透鏡陣列1在二維位移臺(tái)的驅(qū)動(dòng)下運(yùn)動(dòng),微透鏡陣列2固定,以實(shí)現(xiàn)微透鏡陣列之間的二維相對(duì)運(yùn)動(dòng)。
大面陣的微透鏡陣列具有通光孔徑大、子單元個(gè)數(shù)多、光束轉(zhuǎn)向能力強(qiáng)、易實(shí)現(xiàn)大角度光束掃描等優(yōu)點(diǎn)。
由于微透鏡陣列子單元尺寸小、結(jié)構(gòu)精細(xì),在掃描成像的實(shí)際應(yīng)用中,要求兩片微透鏡陣列之間的相對(duì)位置精確,并嚴(yán)格對(duì)齊。在具體實(shí)施過(guò)程中,往往由于兩片微透鏡陣列之間存在較大的傾斜和偏心誤差,對(duì)齊不準(zhǔn),而致使掃描中出現(xiàn)雜散光等問(wèn)題,導(dǎo)致掃描角度和分辨率等達(dá)不到理論要求。大面陣微透鏡陣列的對(duì)齊技術(shù)難度更大、要求更高。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決目前現(xiàn)有的兩片層疊式微透鏡陣列之間存在的相對(duì)傾斜、偏心和對(duì)齊不準(zhǔn)等問(wèn)題,本發(fā)明提供了一種便于對(duì)齊的掃描式大面陣的微透鏡陣列結(jié)構(gòu),能夠?qū)崿F(xiàn)兩片微透鏡陣列微米量級(jí)的高精度對(duì)齊。
為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的,本發(fā)明提供的一種便于對(duì)齊的掃描式大面陣的微透鏡陣列結(jié)構(gòu),包括第一保護(hù)工裝、第二保護(hù)工裝、第一微透鏡陣列、第二微透鏡陣列、二維微位移臺(tái)、高精度墊片和校正工裝;
所述第一保護(hù)工裝和第二保護(hù)工裝分別與第一微透鏡陣列和微透鏡陣列進(jìn)行粘合,保護(hù)兩片微透鏡陣列;
所述第一微透鏡陣列與第一保護(hù)工裝粘合后安裝于二維微位移臺(tái)上,二維微位移臺(tái)用于第一驅(qū)動(dòng)微透鏡陣列,實(shí)現(xiàn)微米量級(jí)的上下左右移動(dòng),從而實(shí)現(xiàn)掃描;
所述兩片微透鏡陣列之間安裝高精度墊片,用于精確控制第一微透鏡陣列與第二微透鏡陣列之間的距離;
所述校正工裝用于調(diào)整第二微透鏡陣列相對(duì)位置,其通過(guò)固定在二維微位移臺(tái)上,用于實(shí)現(xiàn)兩片微透鏡陣列的高精度對(duì)齊。
其中,所述第一保護(hù)工裝包括一個(gè)具有一定厚度的正方形框,且其四角分別設(shè)計(jì)有倒角,便于微透鏡陣列的安裝和膠的粘合。
其中,所述第二保護(hù)工裝包括一個(gè)具有一定厚度的正方形框,且其四角分別設(shè)計(jì)有倒角,便于微透鏡陣列的安裝和膠的粘合。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果為,本發(fā)明提供的掃描式大面陣微透鏡陣的對(duì)齊方法,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作方便,能夠?qū)崿F(xiàn)兩片微透鏡陣列微米量級(jí)的高精度對(duì)齊,具有體積小、裝置簡(jiǎn)單、加工精度要求低等特點(diǎn)。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明提供的一種便于對(duì)齊的掃描式大面陣的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)的整體結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明提供的一種便于對(duì)齊的掃描式大面陣的微透鏡陣列結(jié)構(gòu)的部分結(jié)構(gòu)示意圖;
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