[發(fā)明專利]一種高放處置庫緩沖回填材料愈合效應(yīng)測試裝置及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010636158.3 | 申請日: | 2020-07-03 |
| 公開(公告)號: | CN111610314B | 公開(公告)日: | 2022-07-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 高玉峰;曹勝飛;馬利科;謝敬禮;劉月妙 | 申請(專利權(quán))人: | 核工業(yè)北京地質(zhì)研究院 |
| 主分類號: | G01N33/24 | 分類號: | G01N33/24;G01N25/18;G01N9/36;H04N7/18;H04N5/76 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務(wù)所 11569 | 代理人: | 韓雪梅 |
| 地址: | 100029 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 處置 緩沖 回填 材料 愈合 效應(yīng) 測試 裝置 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種高放處置庫緩沖回填材料愈合效應(yīng)測試裝置及方法,其中測試裝置包括透明板結(jié)構(gòu)、連接管路、進(jìn)水系統(tǒng)、水氣流出系統(tǒng)、試樣、緩沖回填材料、攝像頭和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)。相比于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明能夠?qū)崟r采集緩沖材料砌塊與回填材料愈合過程的圖片及視頻數(shù)據(jù),獲得愈合全過程,揭示處置庫緩沖回填材料愈合效應(yīng)規(guī)律,為高放廢物深地質(zhì)處置庫工程設(shè)計提供依據(jù)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及高放廢物地質(zhì)處置緩沖材料領(lǐng)域技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種高放處置庫緩沖回填材料愈合效應(yīng)測試裝置及方法。
背景技術(shù)
在高放廢物地質(zhì)處置庫中,緩沖回填材料作為多重屏障系統(tǒng)的重要組成部分,充填在圍巖與廢物罐之間,阻止地下水入滲、阻滯廢物罐泄露的放射性廢物向周圍環(huán)境的遷移。工程屏障施工分為壓實塊砌筑法和原位壓實法,采用壓實塊砌筑法進(jìn)行施工,緩沖材料砌塊與圍巖之間以及組合砌塊之間都會產(chǎn)生接縫。采用膨潤土粉末填充緩沖材料接縫,可快速消除接縫存在對工程屏障的影響,有利于處置庫長期安全有效地處置高放射性廢物,使之永久與人類生存環(huán)境相隔離。
因此,如何建立了一種可以模擬處置庫發(fā)生地下水入滲、實時采集緩沖回填材料愈合過程的圖片及視頻數(shù)據(jù)、測試緩沖回填材料的愈合效應(yīng)的裝置及方法,是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種高放處置庫緩沖回填材料愈合效應(yīng)測試裝置及方法,實時采集緩沖材料砌塊與回填材料愈合過程的圖片及視頻數(shù)據(jù),獲得愈合全過程,揭示處置庫緩沖回填材料愈合效應(yīng)規(guī)律,為高放廢物深地質(zhì)處置庫工程設(shè)計提供依據(jù)。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了如下方案:
本發(fā)明公開了一種高放處置庫緩沖回填材料愈合效應(yīng)測試裝置,包括:
透明板結(jié)構(gòu),所述透明板結(jié)構(gòu)包括相對固定的上透明板和下透明板,所述上透明板與所述下透明板之間形成板接縫,所述透明板結(jié)構(gòu)的中部設(shè)有上下貫通的樣品凹槽,所述透明板結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)有進(jìn)水孔道和水氣流出孔道,所述進(jìn)水孔道的第一端和所述水氣流出孔道的第一端均與所述樣品凹槽連通,所述進(jìn)水孔道與所述水氣流出孔道沿所述板接縫延伸至所述透明板結(jié)構(gòu)的邊緣,所述進(jìn)水孔道的第二端和所述水氣流出孔道的第二端分別固定有進(jìn)水管接頭和水氣流出管接頭;
連接管路,所述連接管路包括流入管路和流出管路,所述流入管路的第一端與所述進(jìn)水管接頭連通,所述流出管路的第一端與所述水氣流出管接頭連通;
進(jìn)水系統(tǒng),所述進(jìn)水系統(tǒng)的出水端與所述流入管路的第二端連通;
水氣流出系統(tǒng),所述水氣流出系統(tǒng)的水氣流入端與所述流出管路的第二端連通;
試樣,所述試樣整體為圓柱狀,所述試樣的整體直徑比所述樣品凹槽的直徑小,所述試樣包括上層試樣和下層試樣,所述上層試樣包括兩個正對設(shè)置的半圓柱,所述下層試樣包括兩個正對設(shè)置的半圓柱,上層及下層正對設(shè)置的兩個所述半圓柱之間留有試樣接縫,上層的所述試樣接縫與下層的所述試樣接縫垂直,且均與所述進(jìn)水孔道呈45度夾角;
緩沖回填材料,所述緩沖回填材料填充于所述試樣的接縫處以及所述試樣與所述樣品凹槽之間;
攝像頭,多個所述攝像頭用以從上下兩側(cè)監(jiān)測所述試樣;
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng),所述數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)與所述攝像頭電連接,用以對攝像頭采集的數(shù)據(jù)進(jìn)行記錄和分析。
優(yōu)選地,還包括支架,所述攝像頭固定于所述支架上。
優(yōu)選地,還包括螺桿,所述透明板結(jié)構(gòu)上設(shè)有上下貫通的螺桿孔,所述螺桿與所述螺桿孔螺紋連接,用以將所述上透明板和所述下透明板緊固密封,所述螺桿的下端伸出所述螺桿孔,用以進(jìn)行支撐。
優(yōu)選地,所述半圓柱的直徑為50mm,高為10mm。
優(yōu)選地,所述試樣的整體直徑比所述樣品凹槽的直徑小1-2mm。
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