[發明專利]一種可減少法蘭盤不飽滿的鍛造工藝

有效

• 申請號: 202010636135.2
• 申請日: 2020-07-03
• 公開（公告）號: CN112024811B
• 公開（公告）日: 2022-03-18
• 發明（設計）人: 顧成義;莊棟棟;沈華賓;顧海娟;謝鵬;謝國兵
• 申請（專利權）人: 江蘇海宇機械有限公司
• 主分類號: B21K1/32
• 分類號: B21K1/32;B21J13/02;B21J5/08
• 代理公司: 北京馳納智財知識產權代理事務所(普通合伙) 11367
• 代理人: 蔣路帆

1.一種可減少法蘭盤不飽滿的鍛造工藝，其特征在于：包括以下步驟：

S1、首先根據目標法蘭盤的尺寸，進行下料，得到粗料；

S2、將粗料先進行退火處理，再進行鐓粗處理，之后再進行拋丸磷皂化處理，得到鐓粗料；

S3、將上一步驟中的得到的鐓粗料放入到上凹模和下凹模的組合凹模的成型模腔內，然后通過沖頭對鐓粗料進行鐓粗鍛造，組合凹模內的雙層阻變環對鐓粗料外壁進行免凸點防護，脫模后得到表面很少甚至沒有凸點的T形軸；

S4、將T形軸放入到精整凹模的成型模腔內，之后通過凸模(4)進行壓制鍛造成型，同樣在精整凹模內內雙層阻變環(5)的防護作用下，得到很少甚至沒有凸點的成型；

S5、脫模后進行表面打磨以及邊緣無毛刺處理，并進行孔的車削操作，得到飽滿的法蘭盤成品；所述內雙層阻變環(5)包括內隔熱環(51)、與成型模腔內壁平齊的貼壁修正環(52)以及分別與內隔熱環(51)和貼壁修正環(52)固定連接的兩個自熱膨脹層(53)，兩個所述自熱膨脹層(53)之間的空隙填充有自熱夾層(6)；所述貼壁修正環(52)包括貼壁層(521)以及連接在貼壁層(521)靠近自熱膨脹層(53)一側的多個力變柱(522)，多個所述力變柱(522)遠離貼壁層(521)的一端與自熱膨脹層(53)固定連接；所述力變柱(522)為內部填充有非牛頓流體的空心軟質結構；所述自熱膨脹層(53)包括多個相間分布承載膨脹柱(531)和隔熱氣柱(532)，所述隔熱氣柱(532)內部填充有致熱材料，所述自熱夾層(6)為自發熱材料制成；所述承載膨脹柱(531)為硬質實心結構，所述承載膨脹柱(531)端部開鑿有多個點槽，所述點槽內部填充有熱膨脹半球點(7)。

2.根據權利要求1所述的一種可減少法蘭盤不飽滿的鍛造工藝，其特征在于：所述凸模(4)的體積大于T形軸以及精整凹模的成型模腔的體積。

3.根據權利要求1所述的一種可減少法蘭盤不飽滿的鍛造工藝，其特征在于：所述鐓粗料的最大徑大于組合凹模中成型模腔的最小徑，所述T形軸的最大徑大于精整凹模的最小徑。

4.根據權利要求1所述的一種可減少法蘭盤不飽滿的鍛造工藝，其特征在于：所述下凹模包括下凹外模(11)以及套設在下凹外模(11)內部的下凹內模(12)，所述上凹模包括上凹外模(21)以及套設在上凹外模(21)內部的上凹內模(22)，所述下凹外模(11)和上凹外模(21)相互卡接匹配，所述精整凹模包括精整外模(31)以及套設在精整外模(31)內部的精整

內模(32)，所述組合凹模和精整凹模上的內雙層阻變環(5)分別嵌設在下凹內模(12)、上凹內模(22)和精整內模(32)的內壁上。

5.根據權利要求4所述的一種可減少法蘭盤不飽滿的鍛造工藝，其特征在于：所述下凹內模(12)、上凹內模(22)和精整內模(32)的外邊緣截面處均向外傾斜設置，且與垂豎直方向的傾斜角度為1-3°。