[發(fā)明專利]氨氣去除系統(tǒng)及微氣泡產生系統(tǒng)

有效

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• 申請日: 2020-07-03
• 公開（公告）號: CN112915753B
• 公開（公告）日: 2023-10-03
• 發(fā)明（設計）人: 洪源錫
• 申請（專利權）人: 盛光ENF有限公司
• 主分類號: B01D53/58
• 分類號: B01D53/58;B01D53/77;B01F23/2373;B01F23/235
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 劉燦強;姜長星

公開了一種氨氣去除系統(tǒng)及微氣泡產生系統(tǒng)。所述氨氣去除系統(tǒng)，包括：微氣泡產生裝置，從儲存有將提供至氣體洗滌器的洗滌工藝用水的儲存罐接收至少一部分洗滌工藝用水，且能夠在接收到的所述洗滌工藝用水中生成包括二氧化碳氣體的微氣泡，所述氣體洗滌器向含氨氣體噴射工藝用水。

技術領域

本發(fā)明涉及利用CO₂超細氣泡(ultra fine bubble)的氨氣去除系統(tǒng)。

背景技術

在半導體制造工序中產生的氣體或者從普通工廠、發(fā)電廠或者燃燒爐等排出的氣體中可能含有氨氣。此外，由于氨氣體有毒，需要被去除，目前，通過在含有氨的氣體中注入硫酸(H₂SO₄)或鹽酸(HCL)，或者注入二氧化硫(SO₂)或酸性的煙氣(flue gas)而去除氨氣。

例如，在韓國授權專利公報10-0938911號(2010年1月19日，用于去除廢氣中包含的氨的氣體洗滌器)或者韓國授權專利公報10-0884286號(2009年2月11日，濕法洗滌系統(tǒng))(以下稱作“286現有專利”)等公開有去除氨氣的技術。在“286現有專利”中公開了注入純水、硫酸(H₂SO₄)或鹽酸(HCL)，或者注入二氧化硫(SO₂)或酸性的煙氣(flue gas)而去除氨氣的技術。

此外，大容量地產生具有數百ppm至數千ppm濃度的廢氣的情形較多，如果對其進行高溫熱分解處理，則具有需要高昂的操作費用的缺點，利用清水(clean water)溶解的方法由于氣體的溶解/氣化平衡原理，溶解的氨氣以被氣化的狀態(tài)再次排出，因此具有處理效率低的缺點。

發(fā)明內容

根據本發(fā)明的一實施例，其目的在于提供一種通過在工藝用水中以高濃度溶解二氧化碳而進行中和反應，從而可以減少二氧化碳的使用量，還可以節(jié)約反應時間的氨氣去除系統(tǒng)和用于其的CO₂超細氣泡產生裝置。

根據本發(fā)明的一實施例，提供一種氨氣去除系統(tǒng)，可以包括：微氣泡產生裝置，從儲存有將提供至氣體洗滌器的洗滌工藝用水的儲存罐接收至少一部分洗滌工藝用水，且能夠在接收到的所述洗滌工藝用水中生成包括二氧化碳氣體的微氣泡，所述氣體洗滌器向含氨氣體(含有氨氣的氣體)噴射工藝用水。

根據本發(fā)明的又一實施例，提供一種微氣泡產生系統(tǒng)，可以包括：微氣泡產生裝置，能夠在將提供至氣體洗滌器的洗滌工藝用水中生成包括二氧化碳氣體的微氣泡，所述氣體洗滌器向含氨氣體噴射工藝用水；以及控制器，能夠控制設置在向所述微氣泡產生裝置提供二氧化碳氣體的管道的流量控制閥而調節(jié)注入所述微氣泡產生裝置的二氧化碳氣體的量。

根據本發(fā)明的一個以上的實施例，能夠提高CO₂氣體和工藝用水之間的氣/液反應的效率。即，以微氣泡方式將二氧化碳以高濃度溶解在工藝用水中并引發(fā)二氧化碳和水的急劇的化學反應，從而使銨離子快速生成。

并且，通過使氨氣以100％液體狀態(tài)的銨離子形式存在，從而可以提高處理效率。

尤其是，根據本發(fā)明的一個以上的實施例，可以快速且經濟地去除以大容量產生的廢氣中包括的氨氣。

附圖說明

圖1是用于說明根據本發(fā)明的第一實施例的氨氣去除系統(tǒng)的圖。

圖2是用于說明根據一實施例的微氣泡生成裝置的圖。

圖3至圖5是用于說明根據一實施例的動態(tài)溶解部的圖。

圖6至圖9是用于說明根據一實施例的噴嘴的圖。

圖10是用于說明根據本發(fā)明的第二實施例的氨氣去除系統(tǒng)的圖。

圖11是用于說明根據本發(fā)明的第三實施例的氨氣去除系統(tǒng)的圖。

圖12A至圖15是用于說明本發(fā)明的效果的圖。