[發(fā)明專利]一種內(nèi)燃機排氣后處理器系統(tǒng)及其應(yīng)用

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010616139.4
• 申請日: 2020-06-30
• 公開（公告）號: CN111878198A
• 公開（公告）日: 2020-11-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 譚丕強;姚超捷
• 申請（專利權(quán)）人: 同濟大學(xué)
• 主分類號: F01N3/28
• 分類號: F01N3/28
• 代理公司: 上海科盛知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31225
• 代理人: 吳文濱

1.一種內(nèi)燃機排氣后處理器系統(tǒng)，所述后處理器系統(tǒng)與內(nèi)燃機(1)相連，其特征在于，所述后處理器系統(tǒng)包括依次連接的進氣管(2)、多個后處理器(3)和排氣管(4)，所述后處理器(3)包括殼體(11)，所述殼體(11)內(nèi)設(shè)有載體(5)，所述載體(5)上涂覆有控溫涂層(6)，所述控溫涂層(6)中包含添加劑，所述添加劑包括金屬氧化物、金屬碳酸鹽和金屬氫氧化物中的一種或多種。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種內(nèi)燃機排氣后處理器系統(tǒng)，其特征在于，所述金屬氧化物為氧化鎂或氧化鋇中的一種或多種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種內(nèi)燃機排氣后處理器系統(tǒng)，其特征在于，所述金屬碳酸鹽為碳酸鎂或碳酸鋇中的一種或多種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種內(nèi)燃機排氣后處理器系統(tǒng)，其特征在于，所述金屬氫氧化物為氫氧化鎂或氫氧化鋇中的一種或多種。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種內(nèi)燃機排氣后處理器系統(tǒng)，其特征在于，所述載體(5)和控溫涂層(6)之間設(shè)有催化劑層(7)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種內(nèi)燃機排氣后處理器系統(tǒng)，其特征在于，所述控溫涂層(6)采用以下方法制備得到：

(a)將添加劑與去離子水?dāng)嚢杈鶆颍蠼?jīng)250～380r/min的速率研磨3～6h，獲得漿液；

(b)將步驟(a)得到的漿液涂覆在載體(5)上，后依次經(jīng)100～150℃的溫度烘干3～6h和450～550℃的溫度焙燒1～2h，得到涂有控溫涂層(6)的載體(5)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種內(nèi)燃機排氣后處理器系統(tǒng)，其特征在于，所述殼體(11)內(nèi)設(shè)有保溫層(12)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種內(nèi)燃機排氣后處理器系統(tǒng)，其特征在于，所述殼體(11)的兩端分別為進氣端和排氣端，所述進氣端設(shè)有進氣擴張管(8)，所述進氣擴張管(8)的內(nèi)徑沿氣體的流向逐漸增大，所述排氣端設(shè)有排氣收縮管(9)，所述排氣收縮管(9)的內(nèi)徑沿氣體的流向逐漸減小。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種內(nèi)燃機排氣后處理器系統(tǒng)，其特征在于，所述排氣管(4)上設(shè)有閥門(10)。

10.一種如權(quán)利要求1-9任一項所述的排氣后處理器系統(tǒng)在內(nèi)燃機溫度控制方面的應(yīng)用。