[發(fā)明專利]一種含合金層陶瓷導(dǎo)電材料及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010615456.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-06-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111733418A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-10-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡昕;張紅艷;曲元萍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇州藍(lán)晶研材料科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C28/02 | 分類號(hào): | C23C28/02;C23C14/35;C23C14/18;C25D3/32;C25D3/38;C25D5/10 |
| 代理公司: | 蘇州根號(hào)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32276 | 代理人: | 仇波 |
| 地址: | 215100 江蘇省蘇州市相城區(qū)經(jīng)濟(jì)技術(shù)*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 合金 陶瓷 導(dǎo)電 材料 及其 制備 方法 | ||
1.一種含合金層陶瓷導(dǎo)電材料,所述陶瓷導(dǎo)電材料包括陶瓷基體以及形成在所述陶瓷基體表面的金屬化層,其特征在于:所述金屬化層包括由內(nèi)向外依次設(shè)置的錫銅合金層、電鍍銅層、電鍍錫層和錫保護(hù)層;所述錫銅合金層的厚度為0.1μm-0.5μm且錫元素的質(zhì)量含量≤30%,所述電鍍銅層的厚度為5μm-10μm,所述電鍍錫層的厚度為2μm-3μm。
2.權(quán)利要求1所述含合金層陶瓷導(dǎo)電材料的制備方法,其特征在于,它包括:
制備錫銅合金層:在陶瓷基體上進(jìn)行真空磁控濺射,得到錫銅合金層;
制備電鍍銅層:將經(jīng)真空磁控濺射處理后的陶瓷基體進(jìn)行電鍍銅處理,得到電鍍銅層;
退火處理:將電鍍銅后的陶瓷基體進(jìn)行高溫退火處理;
制備錫層:將退火處理后的陶瓷基體進(jìn)行電鍍錫處理,形成電鍍錫層;
制備錫保護(hù)層:將鍍錫后的陶瓷基體浸入錫保護(hù)劑,浸泡后水洗烘干,得到形成有金屬化層的陶瓷基體。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述含合金層陶瓷導(dǎo)電材料的制備方法,其特征在于:所述制備錫銅合金層中,以含錫量≤30%的錫銅合金作為靶材,對(duì)陶瓷基體進(jìn)行真空磁控濺射以濺射錫銅合金,濺射時(shí)間為30-150min。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述含合金層陶瓷導(dǎo)電材料的制備方法,其特征在于:所述制備電鍍銅層中,以經(jīng)化學(xué)鍍銅處理的陶瓷基體作為陰極、磷銅板作為陽(yáng)極,于電流密度1.5~2.5A/dm2、溫度20-30℃的條件下電鍍15-30min,形成電鍍銅層。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述含合金層陶瓷導(dǎo)電材料的制備方法,其特征在于:所述退火處理是在惰性氣體條件下,于400~600℃燒結(jié)0.5-1h。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述含合金層陶瓷導(dǎo)電材料的制備方法,其特征在于:所述制備錫層中,以退火后的陶瓷基體作為陰極、純錫板作為陽(yáng)極,于電流密度0.3~0.8A/dm2、溫度20-30℃的條件下電鍍0.5-1min。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C28-00 用不包含在C23C 2/00至C23C 26/00各大組中單一組的方法,或用包含在C23C小類的方法與C25D小類中方法的組合以獲得至少二層疊加層的鍍覆
C23C28-02 .僅為金屬材料覆層
C23C28-04 .僅為無(wú)機(jī)非金屬材料覆層
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