[發明專利]基于二氟化硼配位的擴環卟啉配合物的近紅外發光材料有效
| 申請號： | 202010601204.6 | 申請日： | 2020-06-28 |
| 公開（公告）號： | CN111635423B | 公開（公告）日： | 2023-03-31 |
| 發明（設計）人： | 楊云芳;房曉莉;佘遠斌;周春松;李貴杰 | 申請（專利權）人： | 浙江工業大學 |
| 主分類號： | C07F5/02 | 分類號： | C07F5/02;C09K11/06;A61K41/00;A61K49/10 |
| 代理公司： | 杭州求是專利事務所有限公司 33200 | 代理人： | 邱啟旺 |
| 地址： | 310014 浙*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 氟化 硼配位 卟啉 配合 紅外 發光 材料 | ||
【權利要求書】：
1.一種基于苯并擴環卟啉的二氟化硼配合物近紅外發光材料，其特征在于，所述苯并擴環卟啉的二氟化硼配合物具有通式(I)的結構：
其中，R1、R2、R3、R4和R5各自獨立地為氫。
2.一種有機發光材料，具有包含權利要求1所述的擴環卟啉二氟化硼配合物近紅外分子的發光層，其可用于光動力療法的光敏劑，核磁成像造影劑。
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