[發明專利]一種耐電暈的聚酰亞胺/納米氧化鋅三層復合薄膜及其制備方法在審
| 申請號: | 202010601005.5 | 申請日: | 2020-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN111621047A | 公開(公告)日: | 2020-09-04 |
| 發明(設計)人: | 洪希杭;王冬;周運紅 | 申請(專利權)人: | 南京優寫智能科技有限公司 |
| 主分類號: | C08J7/04 | 分類號: | C08J7/04;C08J7/12;C08J5/18;C09D179/08;C09D7/62;C08G73/10;C08L79/08 |
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| 地址: | 210008 江蘇省南京市江北*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電暈 聚酰亞胺 納米 氧化鋅 三層 復合 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.本發明專利提供一種耐電暈的聚酰亞胺/納米氧化鋅三層復合薄膜及其制備方法,具體包括以下步驟:
第一、納米氧化鋅粒子制備
室溫下,首先將1~5g的無水(NH4)2CO3與2~8g的ZnCl2·2H2O分別溶解在10~100mL二次蒸餾水中,在100~1000r/min的轉速下,以0.5~10mL/min的速率混合二者,然后將該混合液轉移至30~500mL的圓底燒瓶中,隨后移入帶激光和紫外照射的常壓帶回流的微波反應器內,用Nd:YAG固體脈沖激光照射溶液1~720min,其中激光參數為波長1.06μm,脈寬1.2ms,光斑直徑0.2mm,重復頻率20Hz,功率密度1.0×106W/cm2,激光焦點的光斑處于液面以下1~3mm;激光照射過程中,同時開啟紫外燈照射,紫外光波長為190~400nm,光照強度為5~300mW/cm2,照射時長1~720min;激光和紫外照射的同時,立即開啟微波加熱,微波頻率2450MHz,微波功率300~1500W,溫度控制在25~120℃,微波時間1~720min,加熱過程中持續進行回流冷凝;加熱結束后,關閉微波輻射源和紫外光源,只開啟Nd:YAG固體脈沖繼續激光照射溶液1~720min,其中激光參數為波長1.06μm,脈寬1.2ms,光斑直徑0.2mm,重復頻率20Hz,功率密度1.0×106W/cm2,激光焦點的光斑處于液面以下1~3mm,整個反應過程要持續伴隨回流冷凝;在反應結束后,將反應液放于-5℃冰箱中快速冷卻1~100min,用去離子水、無水乙醇各洗滌3~5次,置于70~110℃的烘箱中0.5~3h,將烘干的樣品在石英研缽中手動研磨10min;最后置于馬弗爐中,設置馬弗爐升溫速率為5℃/min,在200~400℃下保溫煅燒1~4h,反應結束后,樣品隨爐冷卻至室溫,即制備的粒徑為20~60nm的納米氧化鋅粒子;
第二、納米氧化鋅粒子的表面改性
取該納米氧化鋅粉末4~8g,在100~140℃下真空干燥12~30h,隨后加入10~30mL的無水乙醇,超聲10~50min,然后將納米氧化鋅粉末轉移至300~500mL的圓底燒瓶中,再加入0.5~10g的新型硅烷偶聯劑、1~5g的鈦酸酯偶聯劑TMC-201、200~300mL的正丁醇溶液,超聲0.1~2h;隨后移入帶激光和紫外照射的常壓帶回流的微波反應器內,首先開啟攪拌裝置,攪拌速率50~1000r/min,然后用Nd:YAG固體脈沖激光照射溶液1~720min,其中激光參數為波長1.06μm,脈寬1.2ms,光斑直徑0.2mm,重復頻率20Hz,功率密度1.0×106W/cm2,激光焦點的光斑處于液面以下1~2mm;激光照射過程中,同時開啟紫外燈照射紫外光波長為190~400nm,光照強度為5~30mW/cm2,照射時長1~720min;激光和紫外照射的同時,立即開啟微波加熱,微波頻率2450MHz,微波功率500~1500W,溫度控制在25~200℃,微波時間1~720min,微波加熱時要伴隨冷凝回流,微波反應器內超過既定溫度時,會關閉微波發生器降溫,低于既定溫度時,會打開微波發生器升溫;在反應結束后,將反應液放于-5℃冰箱中快速冷卻10min,7000r/min離心分離,取固相物在40~60℃下用無水乙醇抽提15~30h,再于60~80℃干燥12~48h后即得改性納米氧化鋅粒子;
第三、純聚酰亞胺酸的制備
取5~15g的均苯四甲酸二酐和5~15g的4.4′-二氨基二苯醚置于250~500mL的燒瓶中,加入200mL的干燥的N,N-二甲基乙酰胺溶劑,以400~700r/min的轉速連續攪拌30~120min,繼而加入2~7g的醋酸酐和1~6g的N,N-二甲基苯胺,再以100~1500r/min的轉速連續攪拌5~60min即得到聚酰亞胺酸混合溶液;
第四、支撐膜的耐電暈處理
將聚酰亞胺酸混合溶液加入到流涎機中流涎成膜,該過程控制溫度在50~150℃,同時將膜的厚度控制在10~40μm,然后用電暈機在5000~15000V/m2高頻交流電壓下電暈10~120s,得到耐電暈處理的基膜;
第五、聚酰亞胺酸/納米氧化鋅復合體的制備
室溫下,先將5~15g的純均苯四甲酸二酐、0.1~7g表面改性后的納米氧化鋅粉末、400mL的干燥的N,N-二甲基乙酰胺溶劑置于加入1000~1500mL的反應釜中,以400~700r/min的轉速連續攪拌30~120min,形成穩定均勻的懸浮體;隨后以0.5~2g/min的速率向反應釜中加入8~16g的4.4′-二氨基二苯醚,室溫下超聲攪拌1~24h;最后加入2~8g的醋酸酐和2~8g的N,N-二甲基苯胺,以600~1500r/min的轉速連續攪拌5~60min即得聚酰亞胺酸/納米氧化鋅預聚體;
第六、聚酰亞胺/納米氧化鋅三層復合薄膜的制備
用鋪膜機在支撐膜上下兩面各涂覆一層聚酰亞胺酸/納米氧化鋅預聚體,用刮刀將溶液刮平,控制膜厚5~20μm;繼而將膜先升溫在100~150℃下干燥10~30min,再升溫到150~300℃下干燥20~50min,最后在300~600℃下干燥10~60s,即得到聚酰亞胺/納米氧化鋅三層復合薄膜。
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