[發(fā)明專利]一種薄膜晶體管、柵極行驅(qū)動電路及陣列基板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010598519.X | 申請日: | 2020-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN113851485B | 公開(公告)日: | 2023-06-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王利忠;寧策;胡合合;周天民;宋吉鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12;H01L29/417;H01L29/423;H01L29/786;H01L23/367;G09G3/20 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;陳麗寧 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 薄膜晶體管 柵極 驅(qū)動 電路 陣列 | ||
1.一種薄膜晶體管,其特征在于,包括:
源極,包括源極走線和多個(gè)源極分支;
漏極,包括漏極走線和多個(gè)漏極分支;
與所述源極和所述漏極相絕緣的柵極;
及與所述源極分支和所述漏極分支相接觸連接的半導(dǎo)體層,包括多個(gè)半導(dǎo)體分支;
其中,多個(gè)所述源極分支、多個(gè)所述漏極分支與多個(gè)所述半導(dǎo)體分支接觸,并分為多個(gè)單元,每一單元包括M個(gè)源極分支、N個(gè)漏極分支和Q個(gè)半導(dǎo)體分支,M、N和Q均為大于或等于1的整數(shù);
所述源極走線和所述漏極走線平行且間隔設(shè)置,所述源極走線和所述漏極走線中的一個(gè)的數(shù)量m為大于或等于2的整數(shù),另一個(gè)的數(shù)量n為大于或等于1的整數(shù);
多個(gè)所述單元設(shè)置在所述源極走線與相鄰的所述漏極走線之間的區(qū)域,以將多個(gè)所述單元排列為至少兩個(gè)單元行,每一所述單元行內(nèi)各單元的所述源極分支電連接同一根所述源極走線,每一所述單元行內(nèi)各單元的所述漏極分支電連接同一根所述漏極走線;
每一個(gè)所述單元行包括至少兩個(gè)所述單元,且每一所述單元行內(nèi)各單元之間保持預(yù)定間距;
所述薄膜晶體管內(nèi)所述單元的數(shù)量q大于或等于3,所述預(yù)定間距d的大小為50μm≤d≤450μm;
所述源極走線的第一端連接至?xí)r鐘脈沖信號走線,
所述柵極在襯底基板上的正投影與所述時(shí)鐘脈沖信號走線在所述襯底基板上的正投影不重疊,所述柵極上連接有柵極走線,所述柵極走線在所述襯底基板上的正投影與所述時(shí)鐘脈沖信號走線在所述襯底基板上的正投影交叉設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,
所述源極走線和所述漏極走線交替設(shè)置,相鄰兩個(gè)所述單元行內(nèi)各單元的所述漏極分支共用同一根所述漏極走線。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,
所述漏極分支和/或所述漏極走線的線寬為3~15μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,
所述源極走線和所述漏極走線交替設(shè)置,相鄰兩個(gè)所述單元行內(nèi)各單元的所述源極分支共用同一根所述源極走線。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,
所述源極走線的數(shù)量大于或等于2,所述漏極走線的數(shù)量大于或等于2,一個(gè)所述源極走線和一個(gè)所述漏極走線相鄰設(shè)置,并形成為一組走線;
同一組走線內(nèi)的所述源極走線和所述漏極走線之間設(shè)置一個(gè)所述單元行,且不同組走線之間,所述源極走線和所述漏極走線不共用。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,
每一所述單元內(nèi),所述半導(dǎo)體分支的數(shù)量Q大于或等于2,且各所述半導(dǎo)體分支平行且間隔設(shè)置;且每一所述半導(dǎo)體分支的溝道在襯底基板上的正投影呈連續(xù)帶狀,所述源極分支和所述漏極分支中的其中一個(gè)的數(shù)量大于或等于2,另一個(gè)的數(shù)量大于或等于1,所述源極分支和所述漏極分支沿所述半導(dǎo)體分支的帶狀延伸方向交替排列,而呈叉指狀電極排列。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,
每一所述單元內(nèi),所述半導(dǎo)體分支的數(shù)量Q大于或等于2,且各所述半導(dǎo)體分支平行且間隔設(shè)置,且每一所述半導(dǎo)體分支的溝道在襯底基板上的正投影呈不連續(xù)帶狀,并形成相互獨(dú)立的多段溝道,每一段溝道分別連接至少一個(gè)源極分支和至少一個(gè)漏極分支。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,
每一所述單元內(nèi),所述半導(dǎo)體分支的數(shù)量Q大于或等于2,且各所述半導(dǎo)體分支平行且間隔設(shè)置,且至少一個(gè)所述半導(dǎo)體分支的溝道在襯底基板上的正投影呈連續(xù)帶狀,
至少一個(gè)所述半導(dǎo)體分支的溝道在襯底基板上的正投影呈不連續(xù)帶狀,并形成相互獨(dú)立的多段溝道,
所述源極分支和所述漏極分支中的其中一個(gè)的數(shù)量大于或等于2,另一個(gè)的數(shù)量大于或等于1,所述源極分支和所述漏極分支沿所述半導(dǎo)體分支的帶狀延伸方向交替排列,而呈叉指狀電極排列,其中每一段所述溝道上連接至少一個(gè)所述源極分支和至少一個(gè)所述漏極分支。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





