[發(fā)明專利]半導(dǎo)體加工設(shè)備及半導(dǎo)體加工設(shè)備的控制方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010598034.0
• 申請日: 2020-06-28
• 公開（公告）號: CN111719184B
• 公開（公告）日: 2021-08-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉晶晶;趙海洋;郭雪嬌
• 申請（專利權(quán)）人: 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
• 主分類號: C30B29/36
• 分類號: C30B29/36;C30B23/00
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11315
• 代理人: 施敬勃

本發(fā)明公開一種半導(dǎo)體加工設(shè)備，包括：反應(yīng)腔室(100)；轉(zhuǎn)軸(200)，轉(zhuǎn)軸(200)至少部分設(shè)置于反應(yīng)腔室(100)內(nèi)且可轉(zhuǎn)動；坩堝(300)，坩堝(300)設(shè)置于轉(zhuǎn)軸(200)上；測距裝置(400)，測距裝置(400)設(shè)置于反應(yīng)腔室(100)的內(nèi)側(cè)壁，用于對坩堝(300)進行實時位置檢測；驅(qū)動部(500)，驅(qū)動部(500)設(shè)置于反應(yīng)腔室(100)內(nèi)且與坩堝(300)可拆卸相連，用于驅(qū)動坩堝(300)沿測距裝置(400)的測距方向或測距方向的反方向移動。本發(fā)明還公開一種半導(dǎo)體加工設(shè)備的控制方法。本方案能夠解決無法較準確地調(diào)整坩堝的位置的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種半導(dǎo)體加工設(shè)備及半導(dǎo)體加工設(shè)備的控制方法。

背景技術(shù)

物理氣相傳輸法為制備碳化硅晶體的主流方法之一，通常將碳化硅籽晶和碳化硅料源分層放置在反應(yīng)腔室內(nèi)的坩堝上，通過對反應(yīng)腔室內(nèi)部加熱，并使反應(yīng)腔室內(nèi)部具有溫度梯度，以使籽晶的溫度較低，料源的溫度較高，從而使料源升華并在溫度較低的籽晶上結(jié)晶，進而獲得碳化硅單晶。

通常情況下，坩堝通過托盤固定安裝在反應(yīng)腔室內(nèi)，由于坩堝在工作的過程中需要轉(zhuǎn)動，因此需要保證坩堝的中心線與轉(zhuǎn)軸的中心線共線，從而避免轉(zhuǎn)動過程中出現(xiàn)坩堝偏心轉(zhuǎn)動。

目前，一般依靠操作人員經(jīng)驗，通過手動方式對坩堝的位置進行調(diào)整，此種情況下，由于視覺誤差較大，從而無法較準確地調(diào)整坩堝的位置，同時，操作人員手動調(diào)整坩堝的位置需要花費大量的時間。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明公開一種半導(dǎo)體加工設(shè)備及半導(dǎo)體加工設(shè)備的控制方法，以解決目前無法較準確地調(diào)整坩堝的位置的問題。

為了解決上述問題，本發(fā)明采用下述技術(shù)方案：

第一方面，本發(fā)明實施例提供一種半導(dǎo)體加工設(shè)備，包括：

反應(yīng)腔室；

轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸至少部分設(shè)置于所述反應(yīng)腔室內(nèi)且可轉(zhuǎn)動；

坩堝，所述坩堝設(shè)置于所述轉(zhuǎn)軸上；

測距裝置，所述測距裝置設(shè)置于所述反應(yīng)腔室的內(nèi)側(cè)壁，用于對所述坩堝進行實時位置檢測；

驅(qū)動部，所述驅(qū)動部設(shè)置于所述反應(yīng)腔室內(nèi)且與所述坩堝可拆卸相連，用于驅(qū)動所述坩堝沿所述測距裝置的測距方向或所述測距方向的反方向移動。

第二方面，本發(fā)明實施例提供一種半導(dǎo)體加工設(shè)備的控制方法，應(yīng)用于上述的半導(dǎo)體加工設(shè)備，所述方法包括：

獲取所述測距裝置檢測到的所述坩堝的位置數(shù)據(jù)，并基于所述位置數(shù)據(jù)確定所述坩堝的待移動距離和待移動方向；

向所述驅(qū)動部發(fā)送所述待移動距離和所述待移動方向，以通過所述驅(qū)動部驅(qū)動所述坩堝沿所述待移動方向移動所述待移動距離。

本發(fā)明采用的技術(shù)方案能夠達到以下有益效果：

本發(fā)明實施例公開的半導(dǎo)體加工設(shè)備中，通過測距裝置和驅(qū)動部能夠調(diào)整坩堝的位置，以使坩堝的中心線與轉(zhuǎn)軸的中心線共線。相比于目前通過手動的方式調(diào)整坩堝的位置，本發(fā)明實施例中，通過測距裝置與驅(qū)動部之間的配合，從而不僅能夠較準確地調(diào)整坩堝的位置，還能夠較容易地調(diào)整坩堝的位置，以節(jié)省調(diào)整時間，進而在轉(zhuǎn)軸帶動坩堝轉(zhuǎn)動的過程中，使得坩堝內(nèi)的反應(yīng)物能夠?qū)崿F(xiàn)均勻受熱。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，構(gòu)成本發(fā)明的一部分，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當限定。在附圖中：

圖1為本發(fā)明實施例公開的半導(dǎo)體加工設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實施例公開的半導(dǎo)體加工設(shè)備在另一種視角下的結(jié)構(gòu)示意圖；