[發明專利]一種地貌遷移方法、裝置、設備和介質在審
| 申請號: | 202010577016.4 | 申請日: | 2020-06-22 |
| 公開(公告)號: | CN111784791A | 公開(公告)日: | 2020-10-16 |
| 發明(設計)人: | 曹陽;陸秉君 | 申請(專利權)人: | 上海米哈游天命科技有限公司 |
| 主分類號: | G06T11/00 | 分類號: | G06T11/00 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
| 地址: | 201802 上海市嘉定*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 地貌 遷移 方法 裝置 設備 介質 | ||
本發明實施例公開了一種地貌遷移方法、裝置、設備和介質,其中,方法包括:根據選定的目標遷移區域、地形高度圖和地表控制圖確定目標遷移區域對應的地形高度圖區域和地表控制圖區域;確定地貌遷移的整體遷移量,并基于整體遷移量對地形高度圖區域和地表控制圖區域內的每一個數據點對應的遷移前的地表高度值和控制系數進行采樣;根據每一個數據點的初始地表高度值和初始控制系數、地表高度值的采樣值和控制系數的采樣值以及整體遷移量,確定每一個數據點的最終高度值與最終控制系數,以完成地貌遷移。本發明實施例的技術方案解決了地貌遷移需要重新進行地貌雕刻地形制作效率低的問題;可以實現提高目標地貌圖像制作效率。
技術領域
本發明實施例涉及圖像處理技術領域,尤其涉及一種地貌遷移方法、裝置、設備和介質。
背景技術
在游戲制作過程中,通常需要對大世界中的環境、地形等內容進行設計制作。在游戲大世界中制作完成一地貌之后,當場景切換或是改變地貌所在位置時,需要將該制作完成的地貌遷移到大世界中的另一位置處。
目前,地貌的遷移通常是通過雕刻工具在新位置處重新制作相同的地貌。但是,該方法重新進行地貌雕刻導致地形制作效率低,工作時間成本以及人力成本高。
發明內容
本發明實施例提供一種地貌遷移方法、裝置、設備和介質,以提高圖像制作過程中地形制作的效率。
第一方面,本發明實施例提供了一種地貌遷移方法,該方法包括:
根據選定的目標遷移區域、地形高度圖和地表控制圖確定所述目標遷移區域對應的地形高度圖區域和地表控制圖區域,其中,所述地形高度圖和所述地表控制圖的原點在世界坐標系中的坐標值分別為預設坐標值,且所述地形高度圖和所述地表控制圖中的相鄰數據點在世界坐標系的各坐標軸方向上間隔預設距離,所述目標遷移區域是選定的待遷移地貌區域要遷移到的目標位置;
確定地貌遷移的整體遷移量,并基于所述整體遷移量對所述地形高度圖區域和地表控制圖區域內的每一個數據點對應的遷移前的地表高度值和控制系數進行采樣;
根據所述每一個數據點的初始地表高度值和初始控制系數、地表高度值的采樣值和控制系數的采樣值以及所述整體遷移量,確定所述每一個數據點的最終高度值與最終控制系數,以完成地貌遷移。
可選的,所述基于所述整體遷移量對所述地形高度圖區域和地表控制圖區域內的每一個數據點對應的遷移前的地表高度值和控制系數進行采樣,包括:
根據所述整體偏移量以及所述預設距離確定所述每一個數據點對應的遷移前數據點位置;
根據所述遷移前數據點位置讀取所述地形高度圖區域和地表控制圖區域內的每一個數據點對應的遷移前的地表高度值和控制系數,得到相應的采樣值。
可選的,所述確定所述每一個數據點的最終高度值與最終控制系數,包括:
將所述每一個數據點的地表高度采樣值與所述整體偏移量中的高度方向的偏移量相疊加得到各數據點的目標高度值;
將所述各數據點的目標高度值與相應的原始高度值進行插值計算得到所述每一個數據點的最終高度值;
將所述各數據點的控制系數采樣值與相應的原始控制系數進行插值計算得到所述每一個數據點的最終控制系數。
可選的,所述方法還包括:根據所述目標遷移區域的過渡范圍確定所述插值計算的插值系數。
可選的,所述根據所述目標遷移區域的過渡范圍確定所述插值計算的插值系數包括:
當預設過渡范圍閾值為零時,所述插值系數為一;
當預設過渡范圍閾值非零時,計算所述目標遷移區域內數據點與所述目標遷移區域邊緣的最小距離,根據所述最小距離與所述預設過渡范圍閾值的比值確定所述插值系數。
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