[發(fā)明專利]一種基于面陣光源的散射校正方法和系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010575955.5
• 申請(qǐng)日: 2020-06-22
• 公開（公告）號(hào): CN111685784A
• 公開（公告）日: 2020-09-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 袁洲;姚鵬;馮娟
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司
• 主分類號(hào): A61B6/00
• 分類號(hào): A61B6/00
• 代理公司: 成都七星天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51253
• 代理人: 朱璟

本申請(qǐng)一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例涉及一種基于面陣光源的散射校正方法及其系統(tǒng)，該方法包括：基于第一出射參數(shù)，采集目標(biāo)掃描對(duì)象在射線阻擋陣列阻擋下的第一投影數(shù)據(jù)；基于所述第一投影數(shù)據(jù)，確定所述目標(biāo)掃描對(duì)象的散射數(shù)據(jù)；基于第二出射參數(shù)，采集所述目標(biāo)掃描對(duì)象不在射線阻擋陣列阻擋下的第二投影數(shù)據(jù)；以及基于所述散射數(shù)據(jù)和所述第二投影數(shù)據(jù)，確定所述目標(biāo)掃描對(duì)象的目標(biāo)投影數(shù)據(jù)。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及散射校正領(lǐng)域，特別涉及基于面陣光源的散射校正的方法和裝置。

背景技術(shù)

傳統(tǒng)的數(shù)字乳腺斷層攝影(DBT)是通過移動(dòng)單個(gè)點(diǎn)光源在一系列不同角度下對(duì)乳房進(jìn)行X線攝影，獲取不同投影角度下的投影數(shù)據(jù)。由于機(jī)械運(yùn)動(dòng)帶來的運(yùn)動(dòng)偽影和熱電子發(fā)射機(jī)制產(chǎn)生的時(shí)間延時(shí)，使得掃描圖像的空間分辨率降低，掃描時(shí)間延長，在拍攝過程中很容易產(chǎn)生運(yùn)動(dòng)偽影，從而影響圖像質(zhì)量及醫(yī)生診斷的準(zhǔn)確率。通過采用場(chǎng)致發(fā)射面陣光源的成像技術(shù)可以大大降低圖像中的運(yùn)動(dòng)偽影。但是基于面陣光源的成像技術(shù)依然需要面對(duì)X射線散射導(dǎo)致的圖像退化問題。由于面陣光源中每一個(gè)獨(dú)立的光源相對(duì)于探測(cè)器的角度各不相同，所以無法使用濾線柵進(jìn)行去散射。因此需要一種基于面陣光源成像的散射校正的方法和系統(tǒng)。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)的一方面提供了一種基于面陣光源的散射校正方法。所述方法包括：基于第一出射參數(shù)，采集目標(biāo)掃描對(duì)象在射線阻擋陣列阻擋下的第一投影數(shù)據(jù)；基于所述第一投影數(shù)據(jù)，確定所述目標(biāo)掃描對(duì)象的散射數(shù)據(jù)；基于第二出射參數(shù)，采集所述目標(biāo)掃描對(duì)象不在射線阻擋陣列阻擋下的第二投影數(shù)據(jù)；以及基于所述散射數(shù)據(jù)和所述第二投影數(shù)據(jù)，確定所述目標(biāo)掃描對(duì)象的目標(biāo)投影數(shù)據(jù)。

本申請(qǐng)的另一個(gè)方面提供了一種基于面陣光源的散射校正系統(tǒng)。所述系統(tǒng)包括：第一采集模塊、第一確定模塊、第二采集模塊和第二確定模塊：所述第一采集模塊用于基于第一出射參數(shù)，采集目標(biāo)掃描對(duì)象在射線阻擋陣列阻擋下的第一投影數(shù)據(jù)；所述第一確定模塊用于基于所述第一投影數(shù)據(jù)，確定所述目標(biāo)掃描對(duì)象的散射數(shù)據(jù)；所述第二采集模塊用于基于第二出射參數(shù)，采集所述目標(biāo)掃描對(duì)象不在射線阻擋陣列阻擋下的第二投影數(shù)據(jù)；以及所述第二確定模塊用于基于所述散射數(shù)據(jù)和所述第二投影數(shù)據(jù)，確定所述目標(biāo)掃描對(duì)象的目標(biāo)投影數(shù)據(jù)。

本申請(qǐng)的另一個(gè)方面提供了一種基于面陣光源的散射校正裝置，包括處理器，所述處理器用于執(zhí)行基于面陣光源的散射校正方法。

本申請(qǐng)的另一個(gè)方面提供了一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。所述存儲(chǔ)介質(zhì)存儲(chǔ)計(jì)算機(jī)指令，當(dāng)計(jì)算機(jī)讀取存儲(chǔ)介質(zhì)中的計(jì)算機(jī)指令后，計(jì)算機(jī)執(zhí)行基于面陣光源的散射校正方法。

附圖說明

本申請(qǐng)將以示例性實(shí)施例的方式進(jìn)一步說明，這些示例性實(shí)施例將通過附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。這些實(shí)施例并非限制性的，在這些實(shí)施例中，相同的編號(hào)表示相同的結(jié)構(gòu)，其中：

圖1根據(jù)本申請(qǐng)一些實(shí)施例所示的成像系統(tǒng)的場(chǎng)景示意圖；

圖2是根據(jù)本申請(qǐng)一些實(shí)施例所示的使用示例性基于面陣光源的散射校正裝置的數(shù)字?jǐn)鄬映上裱b置的示意圖；

圖3是根據(jù)本申請(qǐng)一些實(shí)施例所示的射線阻擋陣列的示例性結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是根據(jù)本申請(qǐng)一些實(shí)施例所示的基于面陣光源的散射校正系統(tǒng)的模塊圖；以及

圖5是根據(jù)本申請(qǐng)一些實(shí)施例所示的基于面陣光源的散射校正方法的流程圖。

具體實(shí)施方式

為了更清楚地說明本申請(qǐng)實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單的介紹。顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本申請(qǐng)的一些示例或?qū)嵤├瑢?duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖將本申請(qǐng)應(yīng)用于其它類似情景。除非從語言環(huán)境中顯而易見或另做說明，圖中相同標(biāo)號(hào)代表相同結(jié)構(gòu)或操作。