[發明專利]光刻膠涂布系統以及更換光刻膠的方法

在審

• 申請號: 202010575946.6
• 申請日: 2020-06-22
• 公開（公告）號: CN111897187A
• 公開（公告）日: 2020-11-06
• 發明（設計）人: 金在植;張成根;林鍾吉;賀曉彬;劉金彪;楊濤;李俊峰;王文武
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所;真芯（北京）半導體有限責任公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 北京辰權知識產權代理有限公司 11619
• 代理人: 郎志濤

1.一種光刻膠涂布系統，其特征在于，所述光刻膠涂布系統包括：

供膠機構，所述供膠機構包括依次連接的供膠瓶、過濾器和噴嘴；

清理機構，所述清理機構包括真空裝置和真空管路，所述真空裝置通過所述真空管路與所述過濾器連接，所述真空裝置通過在所述真空管路內形成負壓的方式將所述過濾器內的氣泡和雜質顆粒吸出。

2.根據權利要求1所述的光刻膠涂布系統，其特征在于，所述光刻膠涂布系統還包括三通閥，所述真空裝置通過所述三通閥與所述真空管路和所述供膠機構連接。

3.根據權利要求1所述的光刻膠涂布系統，其特征在于，所述光刻膠涂布系統還包括連接所述供膠瓶、所述過濾器和所述噴嘴的供膠管路，所述光刻膠涂布系統還包括與所述供膠管路連接的光刻膠去除劑供給機構。

4.根據權利要求1所述的光刻膠涂布系統，其特征在于，所述光刻膠涂布系統還包括連接所述供膠瓶、所述過濾器和所述噴嘴的供膠管路，所述光刻膠涂布系統還包括光刻膠溶劑供給機構，所述光刻膠溶劑供給機構分別與所述供膠管路和所述過濾器連接。

5.根據權利要求3或4所述的光刻膠涂布系統，其特征在于，所述光刻膠涂布系統還包括氮氣吹掃機構，所述氮氣吹掃機構分別與所述過濾器和所述供膠管路連接。

6.根據權利要求3或4所述的光刻膠涂布系統，其特征在于，所述光刻膠涂布系統還包括稀釋劑供給機構，所述稀釋劑供給機構與所述供膠管路連接。

7.一種更換光刻膠的方法，其特征在于，所述更換光刻膠的方法包括：

對光刻膠涂布系統的供膠管路進行清洗和氮氣吹掃；

檢測所述供膠管路內的雜質顆粒數量；

當所述供膠管路內的雜質顆粒數量達標時，設置所述光刻膠涂布系統的過濾器，并通過光刻膠溶劑清洗所述供膠管路和所述過濾器；

檢測所述過濾器內的雜質顆粒數量；

當所述過濾器內的雜質顆粒數量達標時，設置所述光刻膠涂布系統的供膠瓶，通過所述光刻膠涂布系統噴涂光刻膠；

檢測光刻膠內的雜質顆粒數量；

當光刻膠內的雜質顆粒數量達標時，所述光刻膠涂布系統設置完成。

8.根據權利要求7所述的更換光刻膠的方法，其特征在于，所述對光刻膠涂布系統的供膠管路進行清洗和氮氣吹掃的步驟包括：

使用光刻膠去除劑對所述供膠管路進行清洗；

清空所述供膠管路；

使用光刻膠稀釋劑對所述供膠管路進行清洗并進行氮氣吹掃。

9.根據權利要求8所述的更換光刻膠的方法，其特征在于，使用光刻膠稀釋劑對所述供膠管路進行清洗并進行氮氣吹掃重復三次或以上。

10.根據權利要求7所述的更換光刻膠的方法，其特征在于，所述當所述供膠管路內的雜質顆粒數量達標時，設置所述光刻膠涂布系統的過濾器，并通過光刻膠溶劑清洗所述供膠管路和所述過濾器后還包括：

在所述過濾器的入口處通入氮氣，并在所述過濾器的出口處使用真空裝置抽取所述過濾器內的氣泡和雜質顆粒。

11.根據權利要求7所述的更換光刻膠的方法，其特征在于，所述當所述過濾器內的雜質顆粒數量達標時，設置所述光刻膠涂布系統的供膠瓶后，以及通過所述光刻膠涂布系統噴涂光刻膠前還包括：

建立氮氣吹掃分配模型對所述供膠管路和所述過濾器進行吹掃。