[發明專利]一種曝光機的曝光方法及顯示基板

有效

• 申請號: 202010562059.5
• 申請日: 2020-06-18
• 公開（公告）號: CN111596531B
• 公開（公告）日: 2023-08-01
• 發明（設計）人: 徐攀;張大成
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 解婷婷;曲鵬

1.一種曝光機的曝光方法，其特征在于，應用于無掩膜板曝光模式的數字光刻工藝，通過數字曝光機將虛擬掩模板上的圖形轉移到玻璃基板上，所述曝光機的曝光方法包括：

將玻璃基板分成至少一個曝光區域；所述數字曝光機包括并排排列的多個曝光燈，每個曝光燈發射的曝光光線在所述玻璃基板上的掃描區域形成所述曝光區域，所述曝光區域分別與每個曝光燈對應，每個曝光燈獨立處理圖紙和曝光；

將待曝光顯示基板放置在所述玻璃基板上，所述待曝光顯示基板劃分為顯示區和包圍所述顯示區的非顯示區，所述顯示區包括陣列排布的多個子像素，所述非顯示區包括集成電路接口以及將所述子像素與所述集成電路接口連接的引線；

將所述待曝光顯示基板上相同的子像素放置在同一個曝光區域中，將所述待曝光顯示基板上相同的集成電路接口放置在同一個曝光區域中，將所述待曝光顯示基板上相同的引線放置在同一個曝光區域中；所述待曝光顯示基板包括第一子顯示基板和第二子顯示基板，所述第一子顯示基板的子像素和所述第二子顯示基板的子像素相同，所述第一子顯示基板與所述第二子顯示基板相同布局、相同形狀和相同尺寸的子像素放置在同一個曝光區域中，所述第一子顯示基板的子像素密度和所述第二子顯示基板的子像素密度不同，或者，所述第一子顯示基板和所述第二子顯示基板的尺寸不同；所述第一子顯示基板和所述第二子顯示基板上布局相同、形狀相同和尺寸相同的集成電路接口放置在同一個曝光區域，所述第一子顯示基板和所述第二子顯示基板上布局相同、形狀相同和尺寸相同的引線放置在同一個曝光區域中。

2.根據權利要求1所述的曝光機的曝光方法，其特征在于，同一個所述曝光區域中，相鄰所述待曝光顯示基板的子像素沿著所述曝光機的掃描方向對齊。

3.根據權利要求1所述的曝光機的曝光方法，其特征在于，同一個所述曝光區域中，相鄰所述待曝光顯示基板的集成電路接口沿著所述曝光機的掃描方向對齊。

4.根據權利要求1所述的曝光機的曝光方法，其特征在于，同一個所述曝光區域中，相鄰所述待曝光顯示基板的引線沿著所述曝光機的掃描方向對齊。

5.一種顯示基板，其特征在于，由上述權利要求1-4任一所述曝光機的曝光方法制備而成。