[發明專利]傾斜光柵的制備方法、壓印模板

有效

• 申請號: 202010561769.6
• 申請日: 2020-06-18
• 公開（公告）號: CN111665682B
• 公開（公告）日: 2022-06-28
• 發明（設計）人: 李多輝;路彥輝;周雪原;趙晉;宋夢亞
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;G02B5/18
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 柴亮;姜春咸

1.一種傾斜光柵的制備方法，其特征在于，包括：

在基底上形成柔性材料層；

在所述柔性材料層遠離所述基底的表面上形成磁性材料層；

對所述柔性材料層和所述磁性材料層進行圖案化處理，所述柔性材料層形成多個間隔分布的柱狀的柔性結構，所述磁性材料層形成多個間隔分布的柱狀的磁性結構，且所述柔性結構與所述磁性結構一一對應，以形成壓印模板，其中，所述基底的位置不變時，當所述磁性結構受磁力發生位置變化，能夠帶動所述柔性結構發生位置變化；

在襯底上形成壓印材料；

利用所述壓印模板對所述壓印材料進行壓印以形成傾斜光柵。

2.根據權利要求1所述的傾斜光柵的制備方法，其特征在于，所述利用所述壓印模板形成傾斜光柵包括：

將所述壓印模板的磁性結構朝向所述壓印材料，并對所述壓印材料進行壓印，以使所述壓印材料充滿所述柔性結構之間的間隔和所述磁性結構之間的間隔；

對所述磁性結構施加磁力，使得磁性結構發生位置變化，并且所述磁性結構的位置變化帶動所述柔性結構發生相對所述基底的位置變化；

對所述壓印材料進行固化處理，以形成傾斜光柵。

3.根據權利要求2所述的傾斜光柵的制備方法，其特征在于，所述對所述壓印材料進行固化處理，以形成傾斜光柵之后還包括：

將所述壓印模板與所述傾斜光柵脫離。

4.根據權利要求2所述的傾斜光柵的制備方法，其特征在于，所述將所述壓印模板的磁性結構朝向所述壓印材料，并對所述壓印材料進行壓印包括：

在第一磁場的作用下，每個所述柔性結構的軸線與所述基底垂直；

所述對所述磁性結構施加磁力，使得磁性結構發生位置變化，并且所述磁性結構的位置變化帶動所述柔性結構發生相對所述基底的位置變化包括：

在第二磁場的作用下，所述磁力的方向與所述基底呈銳角，發生位置變化后的所述柔性結構的軸線與所述基底呈銳角。

5.根據權利要求1所述的傾斜光柵的制備方法，其特征在于，所述對所述柔性材料層和所述磁性材料層進行圖案化處理包括：

形成的所述磁性結構的高度為所述柔性結構的高度的0.1-0.3倍。

6.根據權利要求1所述的傾斜光柵的制備方法，其特征在于，所述在基底上形成柔性材料層包括：

所述柔性材料層的形成材料為聚酰亞胺或者聚對苯二甲酸乙二醇酯。

7.根據權利要求1所述的傾斜光柵的制備方法，其特征在于，所述在所述柔性材料層遠離所述基底的表面上形成磁性材料層包括：

所述磁性材料層的形成材料包括鐵、鈷、鎳以及摻雜磁性納米顆粒的有機材料之中的一種或者多種。