[發明專利]一種大口徑藥劑注入井及其有機物污染地下水原位修復設備及工藝

有效

• 申請號: 202010560897.9
• 申請日: 2020-06-18
• 公開（公告）號: CN111744943B
• 公開（公告）日: 2021-09-10
• 發明（設計）人: 鄒先軍;毛永強;李晶;冉啟洋
• 申請（專利權）人: 湖南恒凱環保科技投資有限公司
• 主分類號: B09C1/00
• 分類號: B09C1/00;B09C1/08;B01D53/04
• 代理公司: 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司 11129
• 代理人: 向群

1.一種有機物污染地下水原位修復設備，其特征在于，包括：一種大口徑藥劑注入井和真空抽提系統；大口徑藥劑注入井的口徑為500mm~1000mm；

真空抽提系統包括小口徑真空抽提井、真空抽提氣液分離器和水環式真空泵；

大口徑藥劑注入井與真空抽提系統的真空抽提井之間的布井間距滿足如下條件：

V1×T＞布井間距＞V2×T；

其中，V1為真空抽提條件下地下水平均遷移速度，V2為地下水平均遷移速度，T為藥劑在水中的強有效時間；

所述藥劑在水中的強有效時間指藥劑濃度在水中衰減80%所需的時間。

2.根據權利要求1所述的一種有機物污染地下水原位修復設備，其特征在于，所述大口徑藥劑注入井包括藥劑注入井管封閉段和藥劑注入井管開孔段；藥劑注入井管封閉段的井壁封閉；藥劑注入井管開孔段的井壁分布有若干通孔；大口徑藥劑注入井的頂部井口至地下1m-7m的位置為藥劑注入井管封閉段；大口徑藥劑注入井的地下7m-12m的位置至井底部為藥劑注入井管開孔段。

3.根據權利要求2所述的一種有機物污染地下水原位修復設備，其特征在于，大口徑藥劑注入井的頂部井口至地下7m的位置為藥劑注入井管封閉段；大口徑藥劑注入井的地下7m的位置至井底部為藥劑注入井管開孔段。

4.根據權利要求2或3所述的一種有機物污染地下水原位修復設備，其特征在于，所述藥劑注入井管開孔段高度為3m-8m。

5.根據權利要求2或3所述的一種有機物污染地下水原位修復設備，其特征在于，所述藥劑注入井管開孔段高度為5m。

6.根據權利要求1所述的一種有機物污染地下水原位修復設備，其特征在于，所述小口徑真空抽提井還包括真空抽提井管；所述真空抽提井管包括真空抽提井管封閉段和真空抽提井管開孔段；真空抽提井管封閉段的管壁封閉，真空抽提井管開孔段的管壁分布有若干通孔。

7.根據權利要求6所述的一種有機物污染地下水原位修復設備，其特征在于，所述通孔的孔徑大小為Φ30mm-Φ50mm。

8.根據權利要求1所述的一種有機物污染地下水原位修復設備，其特征在于，還包括：藥劑配制及輸送裝置；

藥劑配制及輸送裝置包括藥劑配制槽和藥劑輸送管道；藥劑配制槽底部開口與藥劑輸送管道的藥劑入口相連通。

9.根據權利要求8所述的一種有機物污染地下水原位修復設備，其特征在于，藥劑輸送管道的藥劑出口直接伸入大口徑藥劑注入井的井口內。

10.根據權利要求8所述的一種有機物污染地下水原位修復設備，其特征在于，藥劑配制槽內設有攪拌部件；藥劑輸送管道的藥劑出口上游位置設有電動加料閥和藥劑流量計；通過電動閥門來控制藥劑的加入并通過流量計對加入藥劑進行計量。

11.根據權利要求8或10所述的一種有機物污染地下水原位修復設備，其特征在于，藥劑配制槽包括氧化藥劑配制槽和催化藥劑配制槽，二者分設于大口徑藥劑注入井的兩側；氧化藥劑配制槽底部連接的氧化藥劑輸送管道和催化藥劑配制槽底部連接的催化藥劑輸送管道分別從大口徑藥劑注入井兩側伸入井口內。

12.根據權利要求1所述的一種有機物污染地下水原位修復設備，其特征在于，還包括：尾氣處理系統；

小口徑真空抽提井的井口與氣體管道入口密閉連接；氣體管道出口與真空抽提氣液分離器的側壁的氣體入口密閉連接；真空抽提氣液分離器通過抽提管道與水環式真空泵相連；真空抽提氣液分離器的底部設有液體出口。

13.根據權利要求12所述的一種有機物污染地下水原位修復設備，其特征在于，真空抽提氣液分離器底部的液體出口通過液體輸送管路伸入大口徑藥劑注入井內的液面下并形成液封。