[發明專利]光電池生產中廢物體系的處理裝置及處理方法

無效

• 申請號: 201110359216.3
• 申請日: 2011-10-31
• 公開（公告）號: CN103086528A
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 施道可;范瓊;潘加永;吳鵬珍;C·貝爾瑙爾
• 申請（專利權）人: 庫特勒自動化系統(蘇州)有限公司;無錫尚德太陽能電力有限公司
• 主分類號: C02F9/02
• 分類號: C02F9/02;C02F9/06
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張萍;李炳愛

1.一種光電池生產中清洗廢物體系的處理裝置，所述清洗廢物體系通過清洗已腐蝕硅片而產生，其特征在于，所述處理裝置包括：

用于分離廢物體系中的固態雜質的分離設備；和

與所述分離設備流體相通的電滲析設備。

2.權利要求1所述的處理裝置，其特征在于，還包括反滲透設備，所述反滲透設備與所述電滲析設備流體相通以對經所述電滲析設備純化的水體系進一步純化。

3.權利要求2所述的處理裝置，其特征在于，還包括分別與所述分離設備、所述電滲析設備和所述反滲透設備流體相通的中間水箱；其中所述分離設備和所述反滲透設備經由所述中間水箱與所述電滲析設備流體相通。

4.權利要求1所述的處理裝置，其特征在于，還包括用于對已腐蝕硅片進行清洗的清洗設備，所述清洗設備與所述分離設備流體相通以向所述分離設備輸送廢物體系并與所述電滲析設備流體相通以接收處理后的水。

5.權利要求2或3所述的處理裝置，其特征在于，還包括用于對已腐蝕硅片進行清洗的清洗設備，所述清洗設備與所述分離設備流體相通以向所述分離設備輸送廢物體系并與所述反滲透設備流體相通以接收處理后的水。

6.權利要求4或5所述的處理裝置，其特征在于，所述反滲透設備通過設置其上的淡水出口與所述清洗設備流體相通。

7.權利要求3-6中任一項所述的處理裝置，其特征在于，所述中間水箱由濃水箱和淡水箱組成，濃水箱和淡水箱之間設置有供液體從所述淡水箱流向所述濃水箱的單向溢流口。

8.權利要求1-7中任一項所述的處理裝置，其特征在于，所述電滲析設備包括依次排列的第一電滲析單元、第二電滲析單元及第三電滲析單元，每一電滲析單元包括一個濃水室和一個淡水室，其中第三電滲析單元的濃水室與第二電滲析單元的濃水室流體相通，第二電滲析單元的濃水室與第一電滲析單元的淡水室流體相通，第一電滲析單元的淡水室與第二電滲析單元的淡水室流體相通，第二電滲析單元的淡水室與第三電滲析單元的淡水室流體相通。

9.一種清洗廢物體系的處理裝置，所述清洗廢物體系通過清洗已腐蝕硅片而產生，其特征在于，所述處理裝置包括：

用于分離廢物體系中的固態雜質的分離設備；和

與所述分離設備流體相通的反滲透設備。

10.權利要求9所述的處理裝置，其特征在于，還包括電滲析設備，所述電滲析設備與所述反滲透設備流體相通以對經所述反滲透設備純化的水體系進一步純化。

11.權利要求10所述的處理裝置，其特征在于，所述電滲析設備包括依次排列的第一電滲析單元、第二電滲析單元及第三電滲析單元，每一電滲析單元包括一個濃水室和一個淡水室，其中第三電滲析單元的濃水室與第二電滲析單元的濃水室流體相通，第二電滲析單元的濃水室與第一電滲析單元的淡水室流體相通，第一電滲析單元的淡水室與第二電滲析單元的淡水室流體相通，第二電滲析單元的淡水室與第三電滲析單元的淡水室流體相通。

12.一種光電池生產中廢物體系的綜合處理裝置，其特征在于，包括：

用于進行硅片腐蝕的腐蝕設備；用于進行硅片水清洗的清洗設備；分別與所述腐蝕設備流體相通的第一分離設備和電滲析設備；分別與所述清洗設備流體相通的第二分離設備和反滲透設備；

其中所述第一分離設備、第二分離設備、所述反滲透設備還與所述電滲析設備流體相通。

13.權利要求12所述的綜合處理裝置，其特征在于，還包括分別與所述第二分離設備、所述電滲析設備和所述反滲透設備流體相通的中間水箱，所述中間水箱由淡水箱和濃水箱組成；其中所述第二分離設備和所述反滲透設備經由所述中間水箱與所述電滲析設備流體相通。

14.權利要求12或13所述的綜合處理裝置，其特征在于，還包括與所述腐蝕設備流體相通的氣體回收設備。

15.權利要求14所述的綜合處理裝置，其特征在于，還包括冷凝設備和儲存設備，其中所述腐蝕設備經由所述冷凝設備與所述氣體回收設備流體相通；所述儲存設備與所述冷凝設備流體相通用于接收來自冷凝設備中的液體并與所述腐蝕設備流體相通。