[發明專利]紅外線遮蔽膜及其制造方法

有效

• 申請號: 202010553723.X
• 申請日: 2020-06-17
• 公開（公告）號: CN113311527B
• 公開（公告）日: 2023-09-08
• 發明（設計）人: 楊文政;廖德超;蕭嘉彥;曹俊哲
• 申請（專利權）人: 南亞塑膠工業股份有限公司
• 主分類號: G02B5/22
• 分類號: G02B5/22;G02B5/20
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 謝強;黃艷

1.一種紅外線遮蔽膜，其特征在于，所述紅外線遮蔽膜包括：

一紅外線吸收層，含有均勻分布的多個復合氧化鎢粒子，其中多個所述復合氧化鎢粒子占所述紅外線吸收層總重量的0.1wt％至10wt％，且具有以下通式：Cs_xM_yWO_3-zN_c；Cs表示銫；M表示錫、銻或鉍；W表示鎢；O表示氧；N表示氟或溴；x、y、z、c均為正數，且符合以下條件：x≦1.0；y≦1.0；y/x≦1.0；z≦0.6；及c≦0.1；以及

一第一紅外線反射層，設置于所述紅外線吸收層的一表面上，且含有均勻分布的多個氧化鈦粒子，其中多個所述氧化鈦粒子占所述第一紅外線反射層總重量的0.1wt％至10wt％；以及

一第二紅外線反射層，其設置于所述紅外線吸收層的相對另一表面上，且含有均勻分布的多個氧化鈦粒子，其中多個所述氧化鈦粒子占所述第二紅外線反射層總重量的0.1wt％至10wt％；

其中，所述紅外線遮蔽膜的厚度為12微米至50微米，且所述第一紅外線反射層與所述第二紅外線反射層的厚度和為所述紅外線遮蔽膜厚度的6％至40％。

2.根據權利要求1所述的紅外線遮蔽膜，其特征在于，所述紅外線吸收層中每一所述復合氧化鎢粒子的粒徑為1納米至50納米，所述第一紅外線反射層中每一所述氧化鈦粒子的粒徑為30納米至80納米，且所述第二紅外線反射層中每一所述氧化鈦粒子的粒徑為30納米至80納米。

3.根據權利要求1所述的紅外線遮蔽膜，其特征在于，所述紅外線遮蔽膜依JIS?R3106測試標準所測得的紅外線阻隔率為30％至99％，且所述紅外線遮蔽膜依JIS?K7705測試標準所測得的霧度為0.05％至2％。

4.一種紅外線遮蔽膜的制造方法，其特征在于，所述紅外線遮蔽膜的制造方法包括：

提供包含多個復合氧化鎢粒子的一第一隔熱漿料以及包含多個氧化鈦粒子的至少一第二隔熱漿料，其中多個所述復合氧化鎢粒子具有以下通式：Cs_xM_yWO_3-zN_c；Cs表示銫；M表示錫、銻或鉍；W表示鎢；O表示氧；N表示氟或溴；x、y、z、c均為正數，且符合以下條件：x≦1.0；y≦1.0；y/x≦1.0；z≦0.6；及c≦0.1；以及

通過多層共押出的方式將多個聚酯粒形成一多層結構，其中在押出過程中所述第一隔熱漿料與至少一所述第二隔熱漿料分別被施加于相互層疊的一第一熱熔融層和至少一第二熱熔融層，使所述多層結構至少包括一紅外線吸收層、一形成于所述紅外線吸收層的一表面上的第一紅外線反射層以及一形成于所述紅外線吸收層的相對另一表面上的第二紅外線反射層；

其中，多個所述復合氧化鎢粒子占所述紅外線吸收層總重量的0.1wt％至10wt％，多個所述氧化鈦粒子占所述第一紅外線反射層總重量的0.1wt％至10wt％，且多個所述氧化鈦粒子占所述第二紅外線反射層總重量的0.1wt％至10wt％；

其中，所述紅外線遮蔽膜的厚度為12微米至50微米，且所述第一紅外線反射層與所述第二紅外線反射層的厚度和為所述紅外線遮蔽膜厚度的6％至40％。

5.根據權利要求4所述的紅外線遮蔽膜的制造方法，其特征在于，多個所述復合氧化鎢粒子在所述第一隔熱漿料中的存在量為0.01wt％至30wt％，且每一所述復合氧化鎢粒子的粒徑為1納米至50納米，多個所述氧化鈦粒子在至少一所述第二隔熱漿料中的存在量為0.01wt％至30wt％，且每一所述氧化鈦粒子的粒徑為30納米至80納米。