[發(fā)明專利]一種XY軸線性模組裝配夾角的標(biāo)定裝置及標(biāo)定方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010552477.6
• 申請日: 2020-06-16
• 公開（公告）號: CN111780690A
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鐘球盛;侯文峰;吳雋;王伯飄;龐炯林;林榮墩
• 申請（專利權(quán)）人: 廣州番禺職業(yè)技術(shù)學(xué)院
• 主分類號: G01B11/26
• 分類號: G01B11/26
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 顏希文;郝傳鑫

本發(fā)明涉及涉及一種XY軸線性模組裝配夾角的標(biāo)定裝置及標(biāo)定方法。包括計算機、X軸線性模組、Y軸線性模組、載物臺、光源組件、圖像采集模組以及標(biāo)定板；所述圖像采集模組用于與圖像采集模組電性連接，所述載物臺用于放置標(biāo)定板，所述X軸線性模組、Y軸線性模組均設(shè)置在載物臺上；還包括支架，所述光源組件和圖像采集模組位于載物臺的上方并均安裝在所述支架上。通過采用本發(fā)明的標(biāo)定裝置和標(biāo)定方法，避免了現(xiàn)有技術(shù)中通過人工檢測時存在費時費力、勞動強度較大且效率較低的問題，滿足了生產(chǎn)線高效率和高品質(zhì)的要求。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及XY軸線性模組裝配夾角標(biāo)定技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種XY軸線性模組裝配夾角的標(biāo)定裝置及標(biāo)定方法。

背景技術(shù)

XY軸線性模組在使用之前，需要對XY軸的裝配夾角進行標(biāo)定檢測，目前的標(biāo)定檢測方式主要為人工檢測，這種檢測方式對裝配的技術(shù)人員要求很高，而且費時費力，勞動強度大，效率低。此外，人工檢測時很多細小的瑕疵不容易被發(fā)現(xiàn)，不能滿足生產(chǎn)線高效率、高質(zhì)量的要求。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種XY軸線性模組裝配夾角的標(biāo)定裝置，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中人工對裝配夾角進行檢測時，存在校測效率低下、檢測質(zhì)量無法保證的技術(shù)問題。本發(fā)明還提供了一種應(yīng)用上述標(biāo)定裝置的標(biāo)定方法。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種XY軸線性模組裝配夾角的標(biāo)定裝置，采用如下的技術(shù)方案：

一種XY軸線性模組裝配夾角的標(biāo)定裝置包括計算機、X軸線性模組、Y軸線性模組、載物臺、光源組件、圖像采集模組以及標(biāo)定板；所述圖像采集模組用于與圖像采集模組電性連接，所述載物臺用于放置標(biāo)定板，所述X軸線性模組、Y軸線性模組均設(shè)置在載物臺上；還包括支架，所述光源組件和圖像采集模組位于載物臺的上方并均安裝在所述支架上。

進一步地，還包括Z軸線性模組。

進一步地，所述光源組件包括球積分光源和背光光源。

進一步地，所述X軸線性模組、Y軸線性模組均為絲杠驅(qū)動模組。

進一步地，所述標(biāo)定板上設(shè)置有標(biāo)定點。

進一步地，所述標(biāo)定板上設(shè)置有一個標(biāo)定點，所述標(biāo)定點位于標(biāo)定板的中心。

本發(fā)明還提供了一種應(yīng)用上述XY軸線性模組裝配夾角的標(biāo)定裝置的標(biāo)定方法，采用如下的技術(shù)方案：

一種應(yīng)用上述XY軸線性模組裝配夾角的標(biāo)定裝置的標(biāo)定方法包括以下步驟：

S1：將標(biāo)定板放置在載物臺上，并將標(biāo)定板的中心與圖像采集模組中心對齊；

S2：將機械手移動至正對標(biāo)定板中心位置處；

S3：通過X軸線性模組將機械手沿著X軸方向移動間距M，并從間距M中標(biāo)定設(shè)定數(shù)量的第一標(biāo)記點，然后回到標(biāo)定板中心位置；通過Y軸線性模組將機械手沿著Y軸方向移動間距N，并從間距N中標(biāo)定設(shè)定數(shù)量的第二標(biāo)記點，然后回到標(biāo)定板中心位置；

S4：對各第一標(biāo)記點進行最小二乘擬合處理，并得到直線X1,；對各第二標(biāo)記點進行最小二乘擬合處理，并得到直線Y1；

S5：將直線X1與原坐標(biāo)軸X對比，得到直線X1與原坐標(biāo)軸X的夾角α；將直線Y1與原坐標(biāo)軸Y對比，得到直線Y1與原坐標(biāo)軸Y的夾角β。

進一步地，各第一標(biāo)記點沿著X軸方向等間隔選取，各第二標(biāo)記點沿著Y軸方向等間隔選取。

進一步地，所述間距M和間距N均為100，所述第一標(biāo)記點和第二標(biāo)記點均有10個。

進一步地，在步驟S4中，還包括通過二值化Blob分析確定各標(biāo)記點的中心位置。