[發(fā)明專利]涂布系統(tǒng)及其校正方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010542772.3
• 申請(qǐng)日: 2020-06-15
• 公開（公告）號(hào): CN113019835B
• 公開（公告）日: 2022-06-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張勝凱
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南亞科技股份有限公司
• 主分類號(hào): B05C13/02
• 分類號(hào): B05C13/02
• 代理公司: 北京派特恩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270
• 代理人: 浦彩華;姚開麗

1.一種涂布系統(tǒng)，其特征在于，包括：

多個(gè)支撐針；

吸附平面，位于所述多個(gè)支撐針之間；及

校正盤，用以配置在所述多個(gè)支撐針或所述吸附平面上，所述校正盤包括：

圓形上部表面；以及

圓形底部表面，相對(duì)于所述圓形上部表面，

其中，所述圓形底部表面包括圓形平面以及圍繞所述圓形平面的承靠壁，且所述圓形平面的邊緣和所述圓形底部表面的邊緣同心，且所述承靠壁用以限制所述多個(gè)支撐針的水平移動(dòng)，且所述圓形平面用以覆蓋所述吸附平面。

2.如權(quán)利要求1所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，所述多個(gè)支撐針包括尖端，且所述多個(gè)支撐針的所述尖端用以在支撐位置以及收納位置之間移動(dòng)，且所述支撐位置位于所述吸附平面之上，且所述收納位置位于所述吸附平面之下。

3.如權(quán)利要求1所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，所述多個(gè)支撐針和所述吸附平面是用以支撐晶圓，且所述晶圓的直徑和所述圓形上部表面的邊緣的直徑相同。

4.如權(quán)利要求1所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，所述圓形上部表面的直徑落在298毫米至300毫米的范圍。

5.如權(quán)利要求1所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，所述圓形平面的直徑落在170毫米至180毫米的范圍。

6.如權(quán)利要求1所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，所述校正盤的材料包括玻璃或金屬。

7.如權(quán)利要求1所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，所述圓形底部表面包括圍繞所述圓形平面的環(huán)狀底部平面，且所述圓形平面位于所述環(huán)狀底部平面的下方，且所述承靠壁連接所述圓形平面至所述環(huán)狀底部平面。

8.如權(quán)利要求7所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，所述圓形平面相對(duì)于所述環(huán)狀底部平面的深度落在1毫米至2毫米的范圍。

9.如權(quán)利要求7所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，所述校正盤包括：

圓形基板，包括所述圓形平面；以及

環(huán)狀基板，包括環(huán)狀上部平面、相對(duì)于所述環(huán)狀上部平面的所述環(huán)狀底部平面，以及中間孔，

所述圓形基板連接所述環(huán)狀基板的所述環(huán)狀上部平面并覆蓋所述中間孔于所述環(huán)狀上部平面的開口，且所述中間孔露出所述圓形平面。

10.一種涂布系統(tǒng)的校正方法，其特征在于，包括：

提高所述涂布系統(tǒng)的多個(gè)支撐針的尖端至支撐位置；

配置校正盤至所述多個(gè)支撐針；

收起所述多個(gè)支撐針的所述尖端至收納位置并配置所述校正盤至吸附平面，所述收納位置位于所述吸附平面的下方；

以所述吸附平面吸附所述校正盤并提供壓力值；以及

比較所述壓力值以及預(yù)設(shè)范圍。

11.如權(quán)利要求10所述的涂布系統(tǒng)的校正方法，其特征在于，還包括：

當(dāng)所述壓力值沒有落在所述預(yù)設(shè)范圍時(shí)，重新校正所述多個(gè)支撐針的所述支撐位置、所述收納位置或所述吸附平面的位置。

12.如權(quán)利要求10所述的涂布系統(tǒng)的校正方法，其特征在于，所述多個(gè)支撐針支撐所述校正盤的圓形平面，且當(dāng)所述校正盤配置在所述多個(gè)支撐針時(shí)，所述校正盤的承靠壁限制所述多個(gè)支撐針在圓形底部平面上的水平位置，且所述吸附平面用以吸附所述承靠壁所環(huán)繞的所述圓形平面。