[發(fā)明專利]指紋識別傳感器、顯示面板和指紋識別傳感器的制作方法

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• 申請日: 2020-06-11
• 公開（公告）號: CN111582249A
• 公開（公告）日: 2020-08-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李士佩;岳陽;趙影;姚琪;黎午升;劉濱
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00
• 代理公司: 北京博思佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11415
• 代理人: 張相欽

1.一種指紋識別傳感器，其特征在于，所述指紋識別傳感器包括：

基底；

識別單元，設(shè)置在所述基底上；

濾光結(jié)構(gòu)，設(shè)置于所述識別單元遠離所述基底的一側(cè)，并被配置為對外界進入所述識別單元的光線進行過濾。

2.如權(quán)利要求1所述的指紋識別傳感器，其特征在于，所述濾光結(jié)構(gòu)被配置為對波長大于等于600納米的光線中的至少一部分或全部有濾除作用。

3.如權(quán)利要求1或2所述的指紋識別傳感器，其特征在于，所述濾光結(jié)構(gòu)為濾光片，所述濾光片被配置為允許波長范圍在430納米至570納米的光線透過。

4.如權(quán)利要求3所述的指紋識別傳感器，其特征在于，所述濾光片為青色濾光片。

5.如權(quán)利要求1所述的指紋識別傳感器，其特征在于，所述指紋識別傳感器還包括信號傳導單元，所述信號傳導單元電連接于所述識別單元；所述信號傳導單元包括有源層；

所述指紋識別傳感器還包括第一遮光層和/或第二遮光層；所述第一遮光層設(shè)置于所述有源層的上方；所述第二遮光層設(shè)置于所述有源層的下方。

6.如權(quán)利要求5所述的指紋識別傳感器，其特征在于，所述第一遮光層和/或所述第二遮光層在所述基底上的正投影面積大于等于所述有源層在所述基底上的正投影面積。

7.如權(quán)利要求5所述的指紋識別傳感器，其特征在于，所述識別單元包括光電二極管；

所述第一遮光層遠離所述光電二極管的上方。

8.如權(quán)利要求1所述的指紋識別傳感器，其特征在于，所述識別單元包括光電二極管、導電膜和識別電極層；

所述導電膜設(shè)置于所述光電二極管和識別電極層之間，在所述導電膜和所述光電二極管的接觸處，所述導電膜的面積小于等于所述光電二極管的面積，并且，所述導電膜在所述基底上的正投影落入所述光電二極管在所述基底上的正投影內(nèi)。

9.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括顯示單元和如權(quán)利要求1-8中任意一項所述的指紋識別傳感器。

10.一種指紋識別傳感器的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：

提供基底；

在所述基底上形成識別單元；

在所述識別單元的上方形成濾光結(jié)構(gòu)。

11.如權(quán)利要求10所述的指紋識別傳感器的制作方法，其特征在于，所述指紋識別傳感器的制作方法還包括：

在所述基底上形成信號傳導單元；

在所述信號傳導單元的上方形成第一遮光層。

12.如權(quán)利要求10所述的指紋識別傳感器的制作方法，其特征在于，在所述基底上形成識別單元的步驟之前，還包括以下步驟：

在所述基底上形成第二遮光層；

所述指紋識別傳感器的制作方法還包括：在所述基底上形成信號傳導單元；

其中，所述信號傳導單元位于所述第二遮光層的上方。