[發(fā)明專利]一種密封罩系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010530765.1 | 申請日: | 2020-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN112113723A | 公開(公告)日: | 2020-12-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李永疇 | 申請(專利權(quán))人: | 泉芯集成電路制造(濟(jì)南)有限公司 |
| 主分類號: | G01M3/28 | 分類號: | G01M3/28 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 李婷婷 |
| 地址: | 250101 山東省濟(jì)南市*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 密封 系統(tǒng) | ||
本申請?zhí)峁┮环N密封罩系統(tǒng),包括依次相連的半封閉腔體、密封管和抽氣結(jié)構(gòu),所述半封閉腔體采用硬質(zhì)板材形成,形狀固定,不易變形;而且,通過將半封閉腔體與含氟化物設(shè)備之間接合,形成密封腔體,從而能夠?qū)⒑镌O(shè)備中可能出現(xiàn)漏氣的部位罩設(shè)住,若出現(xiàn)氟化物泄漏,則可以通過抽氣結(jié)構(gòu)將密封腔體內(nèi)的氣體抽離,通過抽氣結(jié)構(gòu)末端的氣體處理裝置對氣體進(jìn)行處理,再排放到大氣中,避免了含氟化物設(shè)備出現(xiàn)漏氣,造成生產(chǎn)環(huán)境含氟化物濃度較高,對半導(dǎo)體器件,如芯片進(jìn)行腐蝕,導(dǎo)致的芯片生產(chǎn)良率較低的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體器件制作技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種密封罩系統(tǒng),用于對工廠全氟化物數(shù)值進(jìn)行降低,改善工廠環(huán)境。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體器件制作過程中,必不可少的要使用多種機(jī)臺進(jìn)行半導(dǎo)體襯底制作、圖案化處理等步驟。常用步驟包括光刻工藝,通過設(shè)置掩膜板,對半導(dǎo)體襯底的部分區(qū)域進(jìn)行刻蝕,形成需要的圖案。
然而,現(xiàn)有技術(shù)中對芯片的良率有一定要求,除了制作工藝之外,環(huán)境對芯片的良率也造成一定影響。
因此,如何改善芯片生產(chǎn)環(huán)境對芯片良率的影響成為亟待解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供一種密封罩系統(tǒng),以解決現(xiàn)有技術(shù)中芯片生產(chǎn)環(huán)境對芯片良率造成影響的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
一種密封罩系統(tǒng),包括:
半封閉腔體,所述半封閉腔體采用硬質(zhì)板材形成,用于罩設(shè)在含氟化物設(shè)備上,并與所述含氟化物設(shè)備之間密封,形成密封腔體;
密封管,所述密封管的一端與所述半封閉腔體連接;
抽氣結(jié)構(gòu),所述抽氣結(jié)構(gòu)與所述密封管的另一端連接,用于將所述密封腔體內(nèi)的泄漏氣體抽出,以便進(jìn)行處理。
優(yōu)選地,所述硬質(zhì)板材為透明塑料板。
優(yōu)選地,所述透明塑料板為壓克力板。
優(yōu)選地,所述密封管為塑料管。
優(yōu)選地,所述硬質(zhì)板材與所述密封管之間通過第一氣管接頭連接。
優(yōu)選地,還包括泡棉膠,所述半封閉腔體與所述含氟化物設(shè)備之間還包括泡棉膠,所述泡棉膠用于將所述半封閉腔體與所述含氟化物設(shè)備之間貼合且密封。
優(yōu)選地,所述密封管上還設(shè)置有量測孔,用于安裝監(jiān)測裝置,以對所述密封管內(nèi)的泄漏氣體密度進(jìn)行監(jiān)測。
優(yōu)選地,所述量測孔處設(shè)置有第二氣管接頭。
優(yōu)選地,所述抽氣結(jié)構(gòu)為真空抽氣系統(tǒng)。
經(jīng)由上述的技術(shù)方案可知,本發(fā)明提供的密封罩系統(tǒng)包括依次相連的半封閉腔體、密封管和抽氣結(jié)構(gòu),所述半封閉腔體采用硬質(zhì)板材形成,形狀固定,不易變形;而且,通過將半封閉腔體與含氟化物設(shè)備之間接合,形成密封腔體,從而能夠?qū)⒑镌O(shè)備中可能出現(xiàn)漏氣的部位罩設(shè)住,若出現(xiàn)氟化物泄漏,則可以通過抽氣結(jié)構(gòu)將密封腔體內(nèi)的氣體抽離,通過抽氣結(jié)構(gòu)末端的氣體處理裝置對氣體進(jìn)行處理,再排放到大氣中,避免了含氟化物設(shè)備出現(xiàn)漏氣,造成生產(chǎn)環(huán)境含氟化物濃度較高,對半導(dǎo)體器件,如芯片進(jìn)行腐蝕,導(dǎo)致的芯片生產(chǎn)良率較低的問題。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實(shí)施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。
圖1為采用PVC幕簾進(jìn)行隔離的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種密封罩結(jié)構(gòu)示意圖;
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