[發明專利]一種自來水預處理設備

有效

• 申請號: 202010529770.0
• 申請日: 2020-06-11
• 公開（公告）號: CN111841089B
• 公開（公告）日: 2021-11-23
• 發明（設計）人: 池選義
• 申請（專利權）人: 江蘇中泉科技有限公司
• 主分類號: B01D21/04
• 分類號: B01D21/04;B01D21/24;B01D21/30
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種自來水預處理設備，所述沉淀池包括側壁和底壁，所述沉淀池內具有多個呈一排分布的沉淀物處理位，所述沉淀物處理位處具有U形的刮料通道，所述U形的刮料通道包括第一直通道、第二直通道以及連接第一、二直通道的半圓形通道，活動裝置能夠在第一直通道、半圓形通道和第二直通道內滑動，清理沉淀物。本發明的設備有利于清理沉淀物，對自來水生產的預處理效果好。

技術領域

本發明涉及自來水領域，具體涉及一種自來水預處理設備。

背景技術

自來水是經過多道復雜的工藝流程，通過專業設備制造出來的飲用水。自來水的處理過程如下：首先必須把源水從江河湖泊中抽取到水廠(不同的地區取水口是不同的，水源直接影響著一個地區的飲水質量)；然后經過沉淀、過濾、消毒、入庫(清水庫)，再由送水泵高壓輸入自來水管道，自來水在處理的過程中需要經過沉淀，沉淀設備在經過一段時間的沉淀之后，底部會含有較多的沉淀物，需要及時進行處理，但是處理沉淀物容易引起沉淀物的上浮，從而導致污染上方的水。

發明內容

發明目的：本發明旨在克服現有技術的缺陷，提供一種自來水預處理設備。

技術方案：一種自來水處理系統，包括控制器和沉淀池，所述沉淀池包括側壁和底壁，所述沉淀池內具有多個呈一排分布的沉淀物處理位，所述沉淀物處理位處具有U形的刮料通道，所述U形的刮料通道包括第一直通道、第二直通道以及連接第一、二直通道的半圓形通道，所述第一直通道遠離半圓形通道的端部均具有第一下料通道，所述第二直通道遠離半圓形通道的端部具有第二下料通道，所述第一下料通道通過第一下料管和下料主管連接，第二下料通道通過第二下料管和下料主管連接，所述主管處具有閥門，所述沉淀物處理位還具有位于側壁側面的第一定滑輪和第二定滑輪以及位于側壁頂端的第一卷繞裝置和第二卷繞裝置，第一卷繞裝置由第一電機驅動，第二卷繞裝置由第二電機驅動，所述第一定滑輪位于第一直通道的端部，第二定滑輪位于第二直通道的端部，所述第一直通道處具有第一滑槽，第二直通道處具有第二滑槽，所述半圓形通道處具有連接第一滑槽和第二滑槽的半圓形滑槽；所述第一直通道和第二直通道之間具有隔斷部，所述隔斷部處固定有支撐部，所述支撐部處固定有減速電機，所述支撐部處還具有缺口，所述缺口處具有被減速電機驅動的轉軸，所述轉軸處安裝有導線裝置，所述導線裝置具有半圓形的導線桿以及連接導線桿和轉軸的連接桿，所述導線桿處具有半圓形的導線槽；所述沉淀物處理位還具有能夠在第一直通道、半圓形通道和第二直通道內滑動的活動裝置，所述活動裝置包括活動板，所述活動板兩側的底端固定有鏟料板，所述活動板的頂端固定有上安裝板，所述上安裝板具有被擋板穿過的通槽，所述擋板的前端和后端均具有限位板，所述限位板處具有第一固定環，所述活動板處還具有被活動桿穿過的通孔，所述活動桿的兩端均具有限位塊，所述限位塊處還具有第二固定環，活動板其中一側的第一固定環和第二固定環之間連接有第一繩部，活動板另一側的第一固定環和第二固定環之間連接有第二繩部，所述第一卷繞裝置處卷繞有第一拉繩，第一拉繩經過第一定滑輪，且第一拉繩的端部固定有被第一繩部穿過的第一圓環，所述第二卷繞裝置處卷繞有第二拉繩，第二拉繩經過第二定滑輪，且第二拉繩的端部固定有被第二繩部穿過的第二圓環。

進一步地，所述第一固定環和第二固定環均為半圓形環。從而方便將第一繩部或第二繩部扣住，

進一步地，所述活動板處均具有能夠在第一滑槽、第二滑槽和半圓形滑槽內滑動的滾輪。

從而滾輪一方面限位，一方面使得活動板的滑動更加順利。

進一步地，所述第一直通道的每一側均具有2個相互平行的第一滑槽；第二直通道的每一側均具有2個相互平行的第二滑槽；所述半圓形通道的外側和內側均具有2個半圓形滑槽。

進一步地，所述活動板處具有4個滾輪

進一步地，所述活動板還具有多個限位單元，所述限位單元為通過彈性復位鉸接部件與活動板鉸接的限位桿；所述活動板處具有8個所述限位單元。