[發明專利]顯示面板及其制備方法、顯示裝置在審
| 申請號： | 202010528837.9 | 申請日： | 2020-06-11 |
| 公開（公告）號： | CN111725277A | 公開（公告）日： | 2020-09-29 |
| 發明（設計）人： | 鄭穎 | 申請（專利權）人： | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號： | H01L27/32 | 分類號： | H01L27/32;H01L51/00;H01L25/16;H01L25/00 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人： | 何輝 |
| 地址： | 430079 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 顯示 面板 及其 制備 方法 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板，其特征在于，包括：
基板，所述基板具有第一襯底、第二襯底以及位于所述第一襯底和所述第二襯底之間的黏附層；
其中，所述第二襯底及所述黏附層上貫設有過孔以連通所述第一襯底。
2.根據權利要求1所述的顯示面板，所述第一襯底的透光性大于所述第二襯底的透光性。
3.根據權利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述第一襯底的制備材料包括透明聚酰亞胺材料，所述第二襯底的制備材料包括黃色聚酰亞胺材料。
4.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述黏附層的制備材料包括光敏材料，其中經過光照處理的所述光敏材料與所述第一襯底的粘附力小于未經過光照處理的所述光敏材料與所述第一襯底的粘附力。
5.根據權利要求4所述的顯示面板，其特征在于，所述光敏材料包括硅烷耦合劑。
6.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述基板還包括位于所述黏附層和所述第二襯底之間的中間層。
7.一種顯示面板的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
S10：提供基板，所述基板包括第一襯底、第二襯底以及位于所述第一襯底和所述第二襯底之間的黏附層；
S20：對所述黏附層的部分區域進行光照處理，并去除所述黏附層及所述第二襯底中對應所述光照處理的部分，以使所述第二襯底及所述黏附層上貫設有連通所述第一襯底的過孔。
8.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述黏附層的制備材料包括光敏材料；經過光照處理的所述黏附層與所述第一襯底的粘附力小于未經過光照處理的所述黏附層與所述第一襯底的粘附力。
9.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S20包括：對所述黏附層的部分區域進行光照處理，利用激光切割所述黏附層及所述第二襯底中對應所述光照處理的部分，通過機械剝離去除所述黏附層及所述第二襯底中對應所述光照處理的部分，以使所述第二襯底及所述黏附層上貫設有連通所述第一襯底的過孔。
10.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求1～6任一所述的顯示面板以及傳感器；其中，所述傳感器正對所述過孔。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的；包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的，或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的；包括有熱磁組件的
