[發明專利]一種圓盤式氣液兩相流體均布裝置有效
| 申請號: | 202010528766.2 | 申請日: | 2020-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN111895846B | 公開(公告)日: | 2021-12-07 |
| 發明(設計)人: | 鹿來運;花亦懷;張曉慧;姜益強;鄭文科;田夢;劉凱月;汪耀龍 | 申請(專利權)人: | 中海石油氣電集團有限責任公司;哈爾濱工業大學 |
| 主分類號: | F28F9/22 | 分類號: | F28F9/22 |
| 代理公司: | 哈爾濱市陽光惠遠知識產權代理有限公司 23211 | 代理人: | 王海婷 |
| 地址: | 100000 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 圓盤 式氣液 兩相 流體 裝置 | ||
1.一種圓盤式氣液兩相流體均布裝置,其特征在于:包括一豎直設置的外殼筒體(1),在所述外殼筒體(1)的內部設有一中心筒體(2),所述的中心筒體(2)的上端由一擋板(7)密封,所述的中心筒體(2)的下部外壁上設置有一與所述外殼筒體(1)的內壁緊固連接的環板(3),所述的環板(3)上均勻開設有多個均流孔(31);在所述外殼筒體(1)與中心筒體(2)之間均勻設置若干擋塊(4),所述擋塊(4)內部中空且兩端開口形成氣相通道(5),若干擋塊(4)的底端均與環板(3)固定連接,若干擋塊(4)的外側壁均與外殼筒體(1)的內壁固定連接,若干擋塊(4)的內側壁均與中心筒體(2)的外壁之間設有縫隙;以保證液相流體能均衡連通;
均勻布置的氣相通道保證氣相流體的均衡連通,同時實現晃蕩條件下氣相和液相在空間內均布。
2.根據權利要求1所述的一種圓盤式氣液兩相流體均布裝置,其特征在于:擋塊(4)的高度以低于中心筒體(2)的高度設置。
3.根據權利要求1所述的一種圓盤式氣液兩相流體均布裝置,其特征在于:所述外殼筒體(1)頂端連接一向下延伸的兩相流入口管(6)。
4.根據權利要求1所述的一種圓盤式氣液兩相流體均布裝置,其特征在于:所述均流孔(31)采用圓孔、方孔或條縫式孔。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的一種圓盤式氣液兩相流體均布裝置,其特征在于:所述擋塊為長方體狀結構。
6.根據權利要求5所述的一種圓盤式氣液兩相流體均布裝置,其特征在于:氣相通道(5)的寬度為1-2cm,所有擋塊(4)的內側壁與中心筒體(2)的外壁之間的縫隙尺寸均相同,且均為1-2cm。
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